碳涂层是将一层薄薄的坚硬的无定形碳薄膜涂在物体表面以达到各种目的的工艺。它通常用于保护工业工具免受磨损和腐蚀。在电子显微镜中，碳涂层对于最大限度地减少成像干扰和改善电性能至关重要。碳涂层已广泛应用于扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜（TEM）。
碳涂层在扫描电子显微镜中的主要优点之一是能够防止可能导致表面劣化的充电机制。这些涂层是无定形的，能有效减少样品带电，从而实现生物材料的高效成像。碳涂层在制备用于能量色散 X 射线光谱（EDS）的非导电试样时尤其有用。此外，碳涂层还能减少显微镜光束损伤，增加热传导，改善二次电子发射，并通过减少光束穿透来提高边缘分辨率。
碳涂层工艺涉及不同的技术，如湿化学方法和干燥涂层方法。涂层方法的选择会影响涂层的微观结构和锂离子在涂层中的扩散。研究人员根据不同的阴极材料结构研究了各种镀膜方法，以获得更均匀、更薄的碳层。
在电子显微镜中，碳的热蒸发是一种广泛使用的制备试样的方法。碳源通常是一根线或棒，安装在真空系统中的两个大电流接线柱之间。当加热到蒸发温度时，碳源会喷出细小的碳流，沉积到试样上。这种技术通常用于 X 射线显微分析和 TEM 栅上的试样支撑膜。
总之，碳涂层在电子显微镜中发挥着至关重要的作用，它能提高成像质量、减少损坏并增强各种分析技术的性能。
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