溅射镀膜是一种物理气相沉积工艺，可在基材上形成薄薄的功能涂层，从而提高基材的耐久性和均匀性。
该工艺包括对溅射阴极进行充电以形成等离子体，从而将材料从目标表面喷射出来。
附着在阴极上的目标材料被磁铁均匀地侵蚀，高能粒子撞击基底，在原子层面上结合在一起。
这使得材料永久性地融入基底，而不是表面涂层。
溅射镀膜有什么作用？5 个重要见解
1.工艺原理
溅射镀膜工艺始于对溅射阴极进行充电，从而形成等离子体。
等离子体使材料从靶材表面喷射出来。
目标材料被牢固地固定在阴极上，磁铁被战略性地用于确保材料的侵蚀稳定而均匀。
2.分子相互作用
在分子层面，喷射出的靶材料通过动量传递过程被引向基底。
来自目标的高能粒子撞击基底，推动材料进入其表面。
这种相互作用在原子层面上形成了牢固的结合，有效地将涂层材料融入基底。
3.优点和应用
溅射涂层的主要优点是产生稳定的等离子体，从而确保涂层的均匀沉积。
这种均匀性使得涂层稳定耐用。
溅射镀膜广泛应用于各行各业，包括太阳能电池板、建筑玻璃、微电子、航空航天、平板显示器和汽车。
4.溅射类型
溅射本身是一种多用途工艺，有多种子类型，包括直流 (DC)、射频 (RF)、中频 (MF)、脉冲直流和 HiPIMS。
根据涂层和基体的要求，每种类型都有特定的应用。
5.扫描电子显微镜应用
在扫描电子显微镜（SEM）中，溅射涂层是指在非导电或导电性差的试样上涂覆一层超薄导电金属涂层。
这种涂层可防止静电场积聚，增强对二次电子的检测，提高信噪比。
常用的金属包括金、金/钯、铂、银、铬和铱，薄膜厚度通常为 2 至 20 纳米。
总之，溅射镀膜是在各种基底上沉积薄、耐用、均匀涂层的关键技术，可增强包括 SEM 样品制备在内的多个行业和应用的功能。
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