可控气氛处理系统是一种复杂的装置，旨在保持腔室内精确的环境条件。
该系统主要用于化学气相沉积 (CVD)、改良化学气相沉积 (MPCVD) 等工艺以及其他高科技制造工艺。
它能确保气体成分、温度和真空压力都控制在特定参数范围内，以实现材料合成或加工的最佳效果。
4 个要点解析：是什么让可控气氛处理系统变得至关重要？
1.同时控制成分、温度和真空压力
气体成分控制： 系统在每个进气口使用气体质量流量控制器来精确调节进入腔室的气体成分。
这可确保气体混合物的一致性和准确性，这对于 CVD 和 MPCVD 等工艺至关重要，因为气体成分会直接影响沉积材料的质量。
温度控制： 采用双通道 24 位高精度 PID 控制器来管理温度和真空压力。
一个通道控制温度，确保腔室保持在工艺所需的精确温度，这对正确发生化学反应至关重要。
真空压力控制： PID 控制器的另一个通道负责管理真空压力。
这一控制至关重要，因为它会影响气体流速和沉积过程的效率。通过保持正确的真空度，系统可确保过程以受控和高效的方式进行。
2.真空和压力控制系统
抽气系统： 该系统包括干泵和分子泵的组合。
干泵用于制造初始粗真空，以防止油基泵造成污染。一旦压力足够低，分子泵就会接手，以达到较高的真空度。
这种双泵系统可确保腔体内没有污染物，并保持工艺所需的真空度。
阀门控制： 各种阀门用于控制气体流量和抽气顺序。
这些阀门可确保不同真空度之间的平稳过渡和控制，这对保持工艺的完整性至关重要。
3.热管理系统
温度调节： 热管理系统负责保持腔室内的正确温度。
这是通过调节腔体内的热量来实现的。适当的温度控制至关重要，因为温度偏差会影响制程的质量和时间。
4.下游控制模式
气体流量控制： 在 CVD 和 MPCVD 等工艺中，可通过入口处的气体质量流量控制器实现对气体流量的精确控制。
这可确保腔室内的气体成分得到精确保持。
真空压力控制： 下游控制模式可通过调节真空泵的抽速，快速、准确地控制真空压力。
这种方法可确保腔室内的气体成分在压力调节期间不受影响。
总之，可控气氛处理系统是一个复杂的部件组件，旨在为高科技制造工艺保持腔室内精确的环境条件。
它可确保气体成分、温度和真空压力都控制在严格的标准范围内，这对于在 CVD 和 MPCVD 等工艺中实现高质量结果至关重要。
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