CVD 和 PECVD 炉
带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备
货号 : KT-PE12
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1200 ℃
- 恒定工作温度
- 1100 ℃
- 炉管直径
- 60 毫米
- 加热区长度
- 1x450 毫米
- 加热速率
- 0-20 ℃/min
- 滑动距离
- 600 毫米
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
应用
KT-PE12 带液体气化器的滑动 PECVD 系统由一个 500W 射频等离子源、一个 TF-1200 滑动炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉腔轨道滑动系统,可实现快速加热和快速冷却,可选配辅助强制空气循环风扇,加快冷却速度;可选配滑动自动工作装置;最高工作温度可达 1200℃。工作温度最高可达 1200℃,炉管为一根直径 60 毫米的石英管;4 通道 MFC 质量流量计,气源为 CH4、H2、O2 和 N2;真空站为一台 4L/S 旋片真空泵,最大真空压力可达 10P。真空压力可达 10Pa。
优势
- 射频等离子体自动匹配源,5-500W 宽输出功率范围,输出稳定
- 高速加热和短时间冷却的炉腔滑动系统,可提供辅助快速冷却和自动滑动功能
- PID 可编程温度控制,控制精度高,支持远程控制和集中控制
- 高精度 MFC 质量流量计控制,源气预混,供气速度稳定
- 不锈钢真空法兰,多种适配接口,满足不同真空泵站设置,密封性好,真空度高
- CTF Pro 采用一个 7 英寸 TFT 触摸屏控制器,程序设置和历史数据分析更友好
提供不同温度和设置的 CVD 系统
安全优势
- Kindle Tech 管式炉具有过流保护和过温报警功能,炉子会自动关闭电源
- 管式炉内置热耦合检测功能,一旦检测到破损或故障,管式炉将停止加热并报警
- PE Pro 支持断电重启功能,故障后接通电源时,窑炉将恢复窑炉加热程序
技术规格
炉子型号 | KT-PE12-60 |
最高温度 | 1200℃ |
恒定工作温度 | 1100℃ |
炉管材料 | 高纯度石英 |
炉管直径 | 60 毫米 |
加热区长度 | 1x450 毫米 |
炉腔材料 | 日本氧化铝纤维 |
加热元件 | Cr2Al2Mo2 金属丝线圈 |
加热速率 | 0-20℃/min |
热电偶 | 内置 K 型 |
温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
温度控制精确度 | ±1℃ |
滑动距离 | 600 毫米 |
射频等离子装置 | |
输出功率 | 5 -500W 可调,稳定性为 ± 1% |
射频频率 | 13.56 MHz ±0.005% 稳定度 |
反射功率 | 最大 350W |
匹配 | 自动 |
噪音 | <50 分贝 |
冷却 | 空气冷却 |
气体精确控制装置 | |
流量计 | MFC 质量流量计 |
气体通道 | 4 个通道 |
流量 | MFC1: 0-5SCCM O2 mfc2: 0-20scmch4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500 sccm n2 |
线性度 | ±0.5% F.S. |
重复性 | ±0.2% F.S. |
管路和阀门 | 不锈钢 |
最大工作压力 | 0.45 兆帕 |
流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
标准真空装置(可选) | |
真空泵 | 旋片式真空泵 |
泵流量 | 4 升/秒 |
真空吸入口 | KF25 |
真空规 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
额定真空压力 | 10Pa |
高真空单元(可选) | |
真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
泵流量 | 4L/S+110L/S |
真空吸入口 | KF25 |
真空规 | 复合真空计 |
额定真空压力 | 6x10-5Pa |
以上规格和设置可定制 |
标准包装
编号 | 说明 | 数量 |
1 | 熔炉 | 1 |
2 | 石英管 | 1 |
3 | 真空法兰 | 2 |
4 | 导管隔热块 | 2 |
5 | 导管隔热块挂钩 | 1 |
6 | 耐热手套 | 1 |
7 | 射频等离子源 | 1 |
8 | 精确气体控制 | 1 |
9 | 真空装置 | 1 |
10 | 操作手册 | 1 |
可选设置
- 管内气体检测和监控,如 H2、O2 等
- 独立炉温监控和记录
- RS 485 通信端口,用于 PC 远程控制和数据输出
- 插入式气体进料流量控制,如质量流量计和浮子流量计
- 触摸屏温度控制器,具有方便操作的多种功能
- 高真空泵站设置,如叶片真空泵、分子泵和扩散泵
警告
操作员安全是最重要的问题! 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的,操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的,操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时,尤其是在真空下,也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
KinTek为全球客户提供深度定制服务和设备,我们专业的团队和经验丰富的工程师有能力承担定制硬件和软件设备的需求,并帮助我们的客户 打造专属个性化设备和解决方案!
请将您的想法告诉我们,我们的工程师已经为您准备好了!
FAQ
什么是 CVD 炉?
化学气相沉积(CVD)是一种利用加热、等离子体激发或光辐射等各种能源,使气态或气态化学物质在气相或气固界面上发生化学反应,从而在反应器中形成固态沉积物的技术。简单地说,就是将两种或两种以上的气态原料引入反应室,然后相互反应形成新的材料,并沉积在基片表面。
CVD炉是由高温管式炉单元、气体控制单元和真空单元组成的组合炉系统,广泛应用于复合材料制备、微电子工艺、半导体光电、太阳能利用、光纤通信、超导技术、防护涂层等领域的实验和生产。
什么是物理气相沉积(PVD)?
什么是 PECVD 方法?
CVD 炉是如何工作的?
CVD炉系统由高温管式炉单元、反应气源精确控制单元、真空泵站和相应的组装部件组成。
真空泵用于排除反应管内的空气,确保反应管内没有多余的气体,然后管式炉将反应管加热到目标温度,反应气源精确控制单元可将不同的气体以设定的比例引入炉管内进行化学反应,在CVD炉内形成化学气相沉积。
什么是射频 PECVD?
用于沉积薄膜的方法有哪些?
PACVD 如何工作?
什么是磁控溅射?
什么是 Mpcvd?
PECVD 有哪些用途?
在 CVD 过程中使用哪种气体?
CVD过程中可以使用的气源非常多,常见的CVD化学反应包括热解、光解、还原、氧化、氧化还原,因此这些化学反应中涉及的气体都可以用于CVD过程。
我们以CVD石墨烯生长为例,CVD过程中使用的气体有CH4、H2、O2和N2。
射频 PECVD 如何工作?
什么是薄膜沉积设备?
PACVD 是 PECVD 吗?
为什么选择磁控溅射?
什么是 MPCVD 设备?
PECVD 有哪些优势?
CVD 系统的优势是什么?
- 可根据需要制备金属膜、非金属膜和多组分合金膜等多种薄膜。同时,它还能制备出其他方法难以获得的高质量晶体,如 GaN、BP 等。可同时沉积大量成分均匀的涂层,这是液相外延(LPE)和分子束外延(MBE)等其他制膜方法所无法比拟的。
- 工作条件在常压或低真空条件下进行,因此涂层衍射效果好,形状复杂的工件也能得到均匀的涂层,这一点比 PVD 优越得多。
- 由于反应气体、反应产物和基材之间的相互扩散,可获得附着力良好的涂层,这对于制备耐磨膜和防腐蚀膜等表面强化膜至关重要。
- 有些薄膜的生长温度远低于薄膜材料的熔点。
- 有些薄膜的生长温度远低于薄膜材料的熔点,在低温生长条件下,反应气体和反应器壁及其所含杂质几乎不发生反应,因此可以获得纯度高、结晶度好的薄膜。
- 化学气相沉积可以获得光滑的沉积表面。这是因为与 LPE 相比,化学气相沉积(CVD)是在高饱和度下进行的,成核率高,成核密度大,且在整个平面上分布均匀,因此能获得宏观光滑的表面。
- 低辐射损伤,这是制造金属氧化物半导体(MOS)和其他器件的必要条件
射频 PECVD 有哪些优势?
什么是薄膜沉积技术?
使用 PACVD 有哪些优势?
用于薄膜沉积的材料有哪些?
薄膜沉积通常使用金属、氧化物和化合物作为材料,每种材料都有其独特的优缺点。金属因其耐用性和易于沉积而受到青睐,但价格相对昂贵。氧化物非常耐用,可耐高温,并可在低温下沉积,但可能比较脆,难以操作。化合物具有强度和耐久性,可在低温下沉积,并可定制以显示特定性能。
薄膜涂层材料的选择取决于应用要求。金属是热传导和电传导的理想材料,而氧化物则能有效提供保护。可根据具体需求定制化合物。最终,特定项目的最佳材料将取决于应用的具体需求。
Mpcvd 有哪些优势?
ALD 和 PECVD 的区别是什么?
PECVD 代表什么?
等离子体化学气相沉积(PECVD)是利用等离子体激活反应气体,促进基片表面或近表面空间发生化学反应,生成固体薄膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是,在射频或直流电场的作用下,源气体电离形成等离子体,以低温等离子体为能源,引入适量的反应气体,利用等离子体放电激活反应气体,实现化学气相沉积。
根据等离子体的产生方式,可分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体 CVD 等......
PECVD 是什么意思?
使用薄膜沉积设备有哪些优势?
PACVD 的常见应用有哪些?
实现最佳薄膜沉积的方法有哪些?
要获得具有理想特性的薄膜,高质量的溅射靶材和蒸发材料至关重要。
溅射靶材或蒸发材料的纯度起着至关重要的作用,因为杂质会导致生成的薄膜出现缺陷。晶粒大小也会影响薄膜的质量,晶粒越大,薄膜的性能越差。
要获得最高质量的溅射靶材和蒸发材料,选择纯度高、晶粒度小、表面光滑的材料至关重要。
薄膜沉积的用途
氧化锌薄膜
氧化锌薄膜可应用于热学、光学、磁学和电气等多个行业,但其主要用途是涂层和半导体器件。
磁性薄膜
磁性薄膜是电子、数据存储、射频识别、微波设备、显示器、电路板和光电子技术的关键元件。
光学薄膜
光学镀膜和光电子技术是光学薄膜的标准应用。分子束外延可以生产光电薄膜设备(半导体),外延薄膜是一个原子一个原子地沉积到基底上的。
聚合物薄膜
聚合物薄膜可用于存储芯片、太阳能电池和电子设备。化学沉积技术(CVD)可精确控制聚合物薄膜涂层,包括一致性和涂层厚度。
薄膜电池
薄膜电池为植入式医疗设备等电子设备提供动力,由于薄膜的使用,锂离子电池的发展突飞猛进。
薄膜涂层
薄膜涂层可增强各行业和技术领域目标材料的化学和机械特性。
薄膜太阳能电池
薄膜太阳能电池对于太阳能产业至关重要,它可以生产相对廉价的清洁电力。光伏系统和热能是两种主要的适用技术。
CVD 钻石是真的还是假的?
PECVD 和溅射有什么区别?
CVD 和 PECVD 的区别是什么?
PECVD与传统CVD技术的区别在于等离子体中含有大量高能电子,可以提供化学气相沉积过程中所需的活化能,从而改变了反应体系的供能方式。由于等离子体中的电子温度高达 10000K,电子与气体分子之间的碰撞可促进反应气体分子的化学键断裂和重组,从而生成更多的活性化学基团,而整个反应体系则保持较低的温度。
因此,与 CVD 工艺相比,PECVD 可以在较低的温度下进行相同的化学气相沉积过程。
选择薄膜沉积设备时应考虑哪些因素?
选择 PACVD 系统时应考虑哪些因素?
影响薄膜沉积的因素和参数
沉积速率:
薄膜的生成速率(通常以厚度除以时间来衡量)对于选择适合应用的技术至关重要。对于薄膜而言,适度的沉积速率就足够了,而对于厚膜而言,快速沉积速率则是必要的。在速度和精确薄膜厚度控制之间取得平衡非常重要。
均匀性:
薄膜在基底上的一致性称为均匀性,通常指薄膜厚度,但也可能与折射率等其他属性有关。
填充能力:
填充能力或台阶覆盖率是指沉积工艺对基底形貌的覆盖程度。所使用的沉积方法(如 CVD、PVD、IBD 或 ALD)对台阶覆盖率和填充有重大影响。
薄膜特性:
薄膜的特性取决于应用要求,可分为光子、光学、电子、机械或化学要求。大多数薄膜必须满足一个以上类别的要求。
制程温度:
薄膜特性受制程温度的影响很大,这可能受到应用的限制。
损坏:
每种沉积技术都有可能损坏沉积在其上的材料,而较小的特征更容易受到制程损坏。污染、紫外线辐射和离子轰击都是潜在的损坏源。了解材料和工具的局限性至关重要。
操作薄膜沉积设备有哪些安全注意事项?
4.9
out of
5
I'm amazed by the quick delivery and the quality of the product. It's a game-changer for our lab.
4.8
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our research facility.
4.7
out of
5
This PECVD machine is a lifesaver! It has helped us achieve remarkable results in our research.
4.9
out of
5
The durability of this product is exceptional. It has withstood rigorous use in our lab.
4.8
out of
5
The technological advancements in this PECVD system have revolutionized our research capabilities.
4.7
out of
5
I highly recommend this product. It's worth every penny and has enhanced our research efficiency.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace is a fantastic investment. It has accelerated our research progress significantly.
4.8
out of
5
This PECVD system is user-friendly and has simplified our research procedures.
4.7
out of
5
The technical support provided by KINTEK SOLUTION is outstanding. They're always ready to assist us.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has revolutionized our research methodology. It's a must-have for any lab.
4.8
out of
5
This PECVD machine is a game-changer. It has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.