CVD 和 PECVD 炉
化学气相沉积 CVD 设备系统 腔体滑动式 PECVD 管式炉 带液体汽化器 PECVD 机
货号 : KT-PE12
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1200 ℃
- 恒定工作温度
- 1100 ℃
- 炉管直径
- 60 mm
- 加热区长度
- 1x450 mm
- 升温速率
- 0-20 ℃/min
- 滑动距离
- 600mm
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
为什么选择我们
简易的订购流程、优质的产品和专业的支持，助力您的业务成功。
简介
带液体汽化器的滑动式 PECVD 管式炉是一款多功能、高性能的系统，专为各种薄膜沉积应用而设计。它配备了 500W 射频等离子体源、滑出式炉体、精确的气体流量控制和真空站。该系统具有等离子体自动匹配、高速升降温、可编程温度控制和用户友好界面等优点。它广泛应用于研究和生产环境，用于电子、半导体和光学等各种行业的薄膜沉积。
应用领域
带液体汽化器的滑动式 PECVD 管式炉应用于：
- 化学气相沉积 (CVD)
- 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
- 薄膜沉积
- 太阳能电池制造
- 半导体工艺
- 纳米技术
- 材料科学
- 研究与开发
提供不同温度和配置的 CVD 系统
原理
带液体汽化器的滑动式 PECVD 管式炉利用低温等离子体在工艺腔室的阴极（样品托盘）中产生辉光放电。辉光放电（或另一个热源）将样品的温度升高到预定水平。然后，引入受控量的工艺气体，进行化学和等离子体反应，在样品表面形成固体薄膜。
特点
带液体汽化器的滑动式 PECVD 管式炉为用户提供众多益处：
- 增强太阳能电池片的发电能力：创新的石墨舟结构显著提高了太阳能电池的功率输出。
- 消除管式 PECVD 电池的色差：该设备有效解决了管式 PECVD 电池的颜色偏差问题。
- 宽输出功率范围 (5-500W)：射频等离子体自动匹配电源提供多样的输出功率范围，确保各种应用的最佳性能。
- 高速升温和冷却：炉膛滑动系统可实现快速升温和冷却，缩短处理时间。辅助强制空气循环进一步加快了冷却速度。
- 自动化滑动：可选的滑动功能可实现自动操作，提高效率并减少人工干预。
- 精确的温度控制：PID 可编程温度控制确保精确的温度调节，支持远程和集中控制，更加方便。
- 高精度 MFC 质量流量计控制：MFC 质量流量计精确控制源气体，确保稳定一致的气体供应。
- 多功能真空站：带有多个适配接口的不锈钢真空法兰可容纳各种真空泵站配置，确保高真空度。
- 用户友好界面：CTF Pro 7 英寸 TFT 触摸屏控制器简化了程序设置，并允许轻松分析历史数据。
优势
- 射频等离子体自动匹配电源，5-500W 宽输出功率范围，输出稳定
- 炉膛滑动系统实现高速升温和短时间冷却，可选配辅助快速冷却和自动滑动功能
- PID 可编程温度控制，控制精度极佳，支持远程控制和集中控制
- 高精度 MFC 质量流量计控制，源气体预混合，供气速度稳定
- 不锈钢真空法兰，带多种适配接口，满足不同真空泵站设置，密封性好，真空度高
- CTF Pro 采用 7 英寸 TFT 触摸屏控制器，程序设置更友好，历史数据分析更方便
安全优势
- Kindle Tech 管式炉具有过流保护和超温报警功能，炉子会自动切断电源
- 炉内内置热电偶检测功能，一旦检测到断裂或故障，炉子将停止加热并发出报警
- PE Pro 支持断电重启功能，故障后电源恢复时，炉子将恢复加热程序
技术规格
| 电炉型号 | KT-PE12-60 |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 恒定工作温度 | 1100℃ |
| 炉管材料 | 高纯石英 |
| 炉管直径 | 60mm |
| 加热区长度 | 1x450mm |
| 炉膛材料 | 日本氧化铝纤维 |
| 加热元件 | Cr2Al2Mo2 电阻丝线圈 |
| 加热速率 | 0-20℃/min |
| 热电偶 | 内置 K 型 |
| 温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 滑动距离 | 600mm |
| 射频等离子体单元 | |
| 输出功率 | 5 -500W 可调，稳定性 ± 1% |
| 射频频率 | 13.56 MHz ±0.005% 稳定性 |
| 反射功率 | 最大 350W |
| 匹配 | 自动 |
| 噪音 | <50 dB |
| 冷却 | 风冷 |
| 气体精密控制单元 | |
| 流量计 | MFC 质量流量计 |
| 气体通道 | 4 通道 |
| 流量 | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCM CH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| 线性度 | ±0.5% F.S. |
| 重复性 | ±0.2% F.S. |
| 管道与阀门 | 不锈钢 |
| 最大工作压力 | 0.45MPa |
| 流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
| 标准真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片式真空泵 |
| 泵抽速 | 4L/S |
| 真空吸口 | KF25 |
| 真空计 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
| 额定真空压 | 10Pa |
| 高真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
| 泵抽速 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸口 | KF25 |
| 真空计 | 复合真空计 |
| 额定真空压 | 6x10-4Pa |
| 以上规格和设置均可定制 | |
标准配置包
| 编号 | 描述 | 数量 |
| 1 | 电炉 | 1 |
| 2 | 石英管 | 1 |
| 3 | 真空法兰 | 2 |
| 4 | 炉管隔热块 | 2 |
| 5 | 炉管隔热块钩 | 1 |
| 6 | 耐热手套 | 1 |
| 7 | 射频等离子体源 | 1 |
| 8 | 精密气体控制 | 1 |
| 9 | 真空单元 | 1 |
| 10 | 操作手册 | 1 |
可选配置
- 管内气体检测与监测，如 H2、O2 等
- 独立的炉温监测和记录
- 用于 PC 远程控制和数据导出的 RS 485 通讯端口
- 插入气体进料流量控制，如质量流量计和浮子流量计
- 具有多种操作友好功能的触摸屏温度控制器
- 高真空泵站设置，如旋片真空泵、分子泵、扩散泵
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
KinTek为全球客户提供深度定制服务和设备，我们专业的团队和经验丰富的工程师有能力承担定制硬件和软件设备的需求，并帮助我们的客户 打造专属个性化设备和解决方案！
请将您的想法告诉我们，我们的工程师已经为您准备好了！
行业领军企业信赖之选
FAQ
什么是 PECVD 方法？
什么是 Mpcvd？
PECVD 有哪些用途？
什么是 MPCVD 设备？
PECVD 有哪些优势？
Mpcvd 有哪些优势？
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
CVD 钻石是真的还是假的？
PECVD 和溅射有什么区别？
4.9 / 5
The speed of this system is phenomenal! High-speed heating and cooling has drastically cut our research time. A game-changer for our lab.
4.8 / 5
Incredible value for such advanced tech. The precise gas flow control and RF plasma source deliver production-grade results in our R&D.
4.9 / 5
The build quality is exceptional. The stainless steel vacuum flange and safety features give us complete peace of mind during long runs.
4.7 / 5
A workhorse! The automated sliding movement and robust construction suggest this machine will be a cornerstone of our work for years.
4.9 / 5
The technological leap is real. The automatic plasma matching and touch screen interface make complex depositions surprisingly straightforward.
4.8 / 5
Arrived faster than expected and set up was a breeze. The user-friendly interface had us running experiments on day one.
4.7 / 5
Outstanding performance for the price. The consistent film quality we achieve on solar cells is directly attributable to this machine's precision.
4.9 / 5
The durability is impressive. It handles continuous operation in our semiconductor processing line without a hiccup. A truly reliable investment.
4.8 / 5
A marvel of engineering. The slide-out furnace for fast cooling is a brilliant feature that boosts our lab's overall efficiency significantly.
4.9 / 5
Top-tier advancement. The ability to eliminate color difference in our PECVD cells has elevated the quality of our entire product line.
4.7 / 5
Speed and quality in one package. The rapid processing time doesn't compromise the exceptional thin film results. Highly recommended.
4.8 / 5
Worth every penny. The versatility for nanotechnology and materials science research is unmatched by any other system we've used.
4.9 / 5
The attention to detail in safety and control is superb. The power failure restart function alone has saved us countless hours of work.
4.8 / 5
Seamless integration into our workflow. The remote control capabilities and data export make analysis and reporting incredibly efficient.
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
石墨真空连续石墨化炉
高温石墨化炉是碳材料石墨化处理的专业设备，是生产优质石墨制品的关键设备。它具有高温、高效、加热均匀等特点，适用于各种高温处理和石墨化处理。广泛应用于冶金、电子、航空航天等行业。
实验室快速热处理（RTP）石英管炉
使用我们的RTP快速加热管式炉，实现闪电般的快速加热。专为精确、高速的加热和冷却设计，配备便捷的滑动导轨和TFT触摸屏控制器。立即订购，获得理想的热处理效果！
多区域CVD管式炉 化学气相沉积腔体系统设备
KT-CTF14多区域CVD炉 - 精确的温度控制和气体流量，适用于高级应用。最高温度可达1200℃，配备4通道MFC质量流量计和7英寸TFT触摸屏控制器。
微波等离子体化学气相沉积MPCVD设备系统反应器，用于实验室和金刚石生长
使用我们的钟罩谐振腔MPCVD设备，实现高质量金刚石薄膜的实验室和金刚石生长。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。
立式高温石墨真空石墨化炉
立式高温石墨化炉，用于碳材料在3100℃以下进行碳化和石墨化。适用于碳纤维丝等材料在碳环境下烧结的成型石墨化。应用于冶金、电子和航空航天领域，用于生产电极和坩埚等高质量石墨产品。
倾斜旋转等离子体增强化学气相沉积 PECVD 设备管式炉
隆重推出我们的倾斜旋转 PECVD 炉，用于精确的薄膜沉积。享受自动匹配电源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能，让您高枕无忧。
RF PECVD 系统 射频等离子体增强化学气相沉积 RF PECVD
RF-PECVD 是“射频等离子体增强化学气相沉积”的缩写。它在锗和硅衬底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。它用于 3-12 微米的红外波长范围。
用于微波等离子体化学气相沉积和实验室金刚石生长的圆柱形谐振腔MPCVD设备系统反应器
了解圆柱形谐振腔MPCVD设备，这是一种用于珠宝和半导体行业中生长金刚石宝石和薄膜的微波等离子体化学气相沉积方法。了解其相对于传统HPHT方法的成本效益优势。
915MHz MPCVD金刚石设备 微波等离子体化学气相沉积系统反应器
915MHz MPCVD金刚石设备及其多晶有效生长，最大面积可达8英寸，单晶最大有效生长面积可达5英寸。该设备主要用于生产大尺寸多晶金刚石薄膜、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供生长能量的材料。
相关文章
等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)：综合指南
了解有关等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 的所有知识，这是一种用于半导体行业的薄膜沉积技术。探索其原理、应用和优势。
了解 PECVD：等离子体增强化学气相沉积指南
PECVD 是一种制造薄膜涂层的有用技术，因为它可以沉积包括氧化物、氮化物和碳化物在内的多种材料。
用于软物质的低功耗、低温解决方案--PECVD 炉
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）炉已成为在软物质表面沉积薄膜的常用解决方案。
使用 CVD 管式炉进行涂层的优势
CVD coatings have several advantages over other coating methods, such as high purity, density, and uniformity, making them ideal for many applications in various industries.
PECVD 工艺分步指南
PECVD 是一种化学气相沉积工艺，利用等离子体来增强气相前驱体与基底之间的化学反应。
等离子体在 PECVD 涂层中的作用
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）是一种薄膜沉积工艺，广泛用于在各种基底上制作涂层。在这种工艺中，等离子体被用来在基底上沉积各种材料的薄膜。
PECVD 设备维护综合指南
正确维护 PECVD 设备对确保其最佳性能、使用寿命和安全性至关重要。
比较 PECVD 和 HPCVD 在涂层应用中的性能
虽然 PECVD 和 HFCVD 都可用于涂层应用，但它们在沉积方法、性能和特定应用的适用性方面存在差异。
了解 PECVD 方法
PECVD 是一种等离子体增强化学气相沉积工艺，广泛用于生产各种用途的薄膜。
分管炉综合指南：应用、特点
准确地说，分管炉是一种由空心管或空腔组成的实验室设备，空心管或空腔可以打开，以便放入或取出被加热的样品或材料。
为什么 PECVD 对微电子设备制造至关重要？
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是微电子设备制造中常用的薄膜沉积技术。
MPCVD 机器新手指南
微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）是一种利用微波产生的等离子体将材料薄膜沉积到基底上的工艺。