溅射薄膜是通过溅射过程产生的薄层材料，在溅射过程中，原子从固体靶材料中喷射出来，沉积到基底上形成薄涂层。这种技术因其沉积薄膜的高质量和精确控制而被广泛应用于半导体、光学设备和太阳能电池等多个行业。
溅射工艺：
溅射是利用气态等离子体将原子从目标材料中分离出来。该过程首先将少量气体（通常为氩气）注入真空室。目标材料被放置在真空室中，而基板则被放置在喷射出的粒子将降落的地方。施加电压，从气体中产生等离子体。等离子体中的离子被加速冲向目标材料，以足够的能量撞击目标材料，使其表面的原子或分子喷射出来。这些喷射出的粒子在基底上移动和沉积，形成薄膜。溅射薄膜的特征：
溅射薄膜以其出色的均匀性、密度、纯度和附着力而著称。该工艺可沉积多种材料，包括元素、合金和化合物。这种多功能性使溅射成为需要精确控制薄膜成分和特性的应用的首选方法。
溅射薄膜的应用：
溅射薄膜的应用多种多样，包括在半导体制造领域，用于沉积对设备功能至关重要的薄膜。在显示行业，溅射薄膜用于 TFT-LCD 的透明电极和彩色滤光片。最近，溅射薄膜又被用于生产薄膜太阳能电池的透明电极和金属电极。此外，溅射薄膜还普遍应用于建筑领域，如窗膜，它具有隔热性能，有助于保持舒适的室内温度，减少供暖和制冷的能耗。
