XRF （X 射线荧光）和光谱学是相关但不同的分析技术。XRF 特指一种通过测量材料在受到 X 射线轰击时发出的辐射来分析材料的方法。相比之下，光谱学是一个范围更广的术语，包括通过研究材料与辐射能量（可能包括光、声或其他形式的辐射）之间的相互作用来分析材料的各种方法。
XRF（X 射线荧光）：
XRF 是一种用于确定材料元素组成的技术。它是用 X 射线轰击样品，使样品中的原子发生激发。当 X 射线波超过内部电子壳的结合能时，电子就会脱落并射出。然后，原子会用能量更高的轨道壳中的电子来填补这个空位，从而稳定下来，并在此过程中释放出荧光 X 射线。这些荧光 X 射线的能量与原始电子壳和新电子壳之间的能级差异相对应，每种元素都会产生独特的 X 射线光谱，从而可以识别样品中的元素。XRF 可使用能量色散 XRF (ED-XRF) 光谱仪或波长色散 XRF (WD-XRF) 光谱仪，后者分辨率更高，但更为复杂和昂贵。光谱分析：
相比之下，光谱学是一个更笼统的术语，包括任何用于观察材料与入射辐射相互作用时的反应的技术。这种相互作用可导致辐射的吸收、发射或散射，由此产生的光谱可提供有关材料成分、结构和其他属性的信息。光谱技术可以使用各种类型的辐射，包括可见光、红外线、紫外线、X 射线等，具体取决于具体应用和所需信息。
差异：
