光学镀膜工艺是在玻璃或塑料镜片等光学材料上沉积一层或多层金属和/或陶瓷材料。光学镀膜的目的是改变光学材料的透射和反射特性。
光学镀膜使用不同的技术，其中物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）是主要的工艺。物理气相沉积包括将源材料（如金属或陶瓷）加热至高温，直至其蒸发。然后将蒸发的材料沉积到基底上，形成一层薄而均匀的涂层。PVD 通常在真空室中进行，以防止气化材料与空气或其他气体发生反应。
常用的 PVD 技术之一是蒸发，它利用电阻或电子束加热达到待蒸发材料的熔化温度。然后，蒸发出的原子附着在基底表面，形成一层均匀的薄膜。另一种 PVD 技术是溅射，即用离子轰击目标材料，击碎目标表面的原子。这些原子以气体分子的形式释放出来并到达基底，在基底上沉积形成薄膜。
光学镀膜还需要在镀膜前进行表面加工，以尽量减少表面粗糙度和次表面损伤。镀膜完成后，还要进行质量控制检查，以确保其符合所需的规格。这可能包括测量涂层厚度或测试其硬度和耐久性。
光学镀膜工艺的最后一步是精加工，包括对镀膜基材进行抛光或磨光等附加工艺，以改善其外观或性能。这可能包括表面抛光或着色，以增强镀膜产品的视觉吸引力。
总之，光学镀膜是一种复杂的工艺，涉及在光学材料上精确沉积薄膜，以获得所需的透射和反射特性。它在科学、工业和消费产品中有多种应用，如镜片的抗反射涂层、薄膜偏振器和光学过滤器。磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）等先进镀膜技术的发展进一步提高了光学镀膜的质量和性能。
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