光学镀膜是一种在玻璃或塑料透镜等光学材料上沉积一层或多层金属和/或陶瓷材料的工艺。
光学镀膜的主要目的是改变光学材料的透射和反射特性。
7 个关键步骤说明
1.沉积技术
光学镀膜有多种技术，其中物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）是主要工艺。
2.物理气相沉积（PVD）
物理气相沉积是将金属或陶瓷等源材料加热至高温，直至其蒸发。
然后将蒸发的材料沉积到基底上，形成一层薄而均匀的涂层。
PVD 通常在真空室中进行，以防止气化材料与空气或其他气体发生反应。
3.蒸发技术
蒸发是常用的 PVD 技术之一，它利用电阻或电子束加热达到待蒸发材料的熔化温度。
然后，蒸发的原子附着在基底表面，形成一层均匀的薄膜。
4.溅射技术
另一种 PVD 技术是溅射，即用离子轰击目标材料，击碎目标表面的原子。
这些原子以气体分子的形式释放出来并到达基底，在基底上沉积形成薄膜。
5.表面制造
光学镀膜还需要进行表面加工，以便在镀膜之前尽量减少表面粗糙度和次表面损伤。
6.质量控制
涂层涂敷完成后，需要进行质量控制检查，以确保其符合所需的规格。
这可能包括测量涂层厚度或测试其硬度和耐久性。
7.抛光
光学镀膜工艺的最后一步是精加工，包括对镀膜基材进行抛光或磨光等附加工艺，以改善其外观或性能。
这可能包括表面修饰或着色，以增强镀膜产品的视觉吸引力。
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