溅射涂层是一种物理气相沉积工艺，主要用于在各种基底上涂覆薄的功能涂层。该工艺是通过离子轰击将材料从目标表面喷射出来，然后将材料沉积到基底上，形成牢固的原子级结合。溅射镀膜主要应用于需要耐用、均匀薄膜的行业，如电子、光学和太阳能技术。
工艺描述：
溅射镀膜工艺首先对溅射阴极进行充电，形成等离子体。该等离子体通常通过离子轰击使材料从目标表面喷射出来。目标材料被粘接或夹紧在阴极上，由于使用了磁铁，目标材料被均匀地侵蚀。喷射出的材料在分子水平上通过动量传递过程被引向基底。撞击时，高能目标材料会进入基底表面，在原子层面上形成牢固的结合，使其成为基底的永久组成部分，而不仅仅是表面涂层。应用：
- 溅射镀膜在各行各业都有广泛的应用：
- 电子和半导体： 溅射广泛应用于半导体行业，在集成电路加工中沉积各种材料的薄膜。在计算机硬盘的生产以及 CD 和 DVD 的制作中，溅射镀膜至关重要。
- 光学： 光学应用中的玻璃减反射涂层通常采用溅射技术沉积。这种技术还用于生产双层玻璃窗组件上的低辐射涂层。
- 太阳能技术： 溅射是制造太阳能电池板和高效光电太阳能电池的关键工艺。它用于沉积可提高太阳能电池性能的材料。
- 汽车和装饰涂层： 溅射可用于汽车涂料和装饰应用，如使用氮化钛等溅射氮化物的工具刀头涂层。
建筑玻璃： 溅射镀膜可用于建筑玻璃和防反射玻璃镀膜，提高建筑玻璃的美观和功能特性。
优点
