CVD 设备是通过气相化学反应生产先进材料的多功能工具。它可以合成各种涂层、粉末、纤维,甚至是整体元件。CVD 广泛用于生产金属和金属合金、半导体和非金属系统。CVD 工艺是通过化学反应将固体沉积在加热的表面上。CVD 机器有多种类型,包括常压 CVD、低压 CVD、超高真空 CVD 和气溶胶支持的 CVD。该工艺还采用各种等离子方法,包括微波等离子 CVD 和等离子增强 CVD。
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用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备
货号 : KTMP315
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
货号 : KT-RFPE
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