MPCVD
用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备
货号 : KTMP315
价格根据 规格和定制情况变动
- 微波功率
- 微波频率 2450±15MHZ
- 输出功率
- 1～10 KW 连续可调
- 微波泄漏
- ≤2MW/cm2
- 输出波导接口
- WR340, 430 配有 FD-340, 430 标准法兰
- 样品支架
- 样品台直径≥70 毫米，有效使用面积≥64 毫米
运输:
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MPCVD 即微波等离子体化学气相沉积。它利用碳气和微波等离子体在实验室中生长出高质量的金刚石薄膜。
MPCVD 系统
MPCVD 是一种利用真空室、微波发生器和气体输送系统在基底上沉积薄膜的系统。真空室内的等离子体由产生 2.45 千兆赫微波的磁控管或速调管产生。气体输送系统采用以 sccm 为单位校准的 MFC 来控制气体流量。基底温度由等离子体控制，并由热电偶测量。等离子体对基底进行加热，并在沉积过程中对温度进行监控。
应用
MPCVD 技术有望以较低的成本生产出大体积、高质量的金刚石。
金刚石具有硬度、刚度、高导热性、低热膨胀性、耐辐射性和化学惰性等独特性能，是一种宝贵的材料。然而，天然和合成的高压高温金刚石成本高、尺寸有限、杂质难以控制，限制了它们的应用。
MPCVD 是生长金刚石宝石和金刚石薄膜的主要设备，金刚石宝石和金刚石薄膜可以是单晶体，也可以是多晶体。半导体行业以及金刚石切割或钻孔工具行业广泛使用金刚石薄膜生长技术来制造大尺寸金刚石基片。
与实验室生长金刚石的 HPHT 方法相比，微波 CVD 方法在大尺寸金刚石生长方面具有成本低的优势，是半导体金刚石、光学金刚石生长和大型珠宝金刚石市场的理想解决方案。
MPCVD 的优势
与 HFCVD 和 DC-PJ CVD 相比，MPCVD 是一种具有优势的金刚石合成方法。它可以避免污染，并允许使用多种气体。它能提供平稳的微波功率调节和稳定的温度控制，避免籽晶损失。由于等离子体面积大且稳定，MPCVD 在工业应用中大有可为。
与 HPHT 相比，MPCVD 用更少的能量生产出更纯净的金刚石。它还能生产更大的金刚石。
我们的 MPCVD 系统的优势
我们已在该行业深耕多年，因此，我们拥有众多信任和使用我们设备的客户群。我们的 MPCVD 设备已稳定运行超过 40,000 小时，显示出卓越的稳定性、可靠性、可重复性和成本效益。我们的 MPCVD 系统的更多优势包括
- 3 英寸基片生长区，最大批量负载可达 45 颗钻石
- 1-10Kw 可调输出微波功率，耗电量更低
- 经验丰富的研究团队，提供前沿的金刚石生长配方支持
- 零钻石生长经验团队专属技术支持计划
凭借积累的先进技术，我们对 MPCVD 系统进行了多轮升级和改进，显著提高了效率，降低了设备成本。因此，我们的 MPCVD 设备处于技术进步的最前沿，并且价格极具竞争力。欢迎咨询。
工作过程
MPCVD 设备在特定压力下将反应气体（如 CH4、H2、Ar、O2、N2 等）引入腔体，同时控制各气路流量和腔体压力。稳定气流后，6 千瓦固态微波发生器产生微波，然后通过波导引入空腔。
反应气体在微波场下转变为等离子体状态，形成一个等离子体球，悬浮在金刚石基底上方。等离子体的高温将基底加热到特定温度。空腔中产生的多余热量由水冷装置散去。
在 MPCVD 单晶金刚石生长过程中，为了确保最佳的生长条件，我们会调整功率、气源成分和腔体压力等因素。此外，由于等离子球不接触腔壁，因此金刚石生长过程中没有杂质，从而提高了金刚石的质量。
细节与部件
微波系统
反应腔
气流系统
真空和传感器系统
技术规格
| 微波系统 |
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| 反应腔 |
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| 样品支架 |
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| 气流系统 |
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| 冷却系统 |
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| 温度传感器 |
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| 控制系统 |
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| 可选功能 |
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警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
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FAQ
什么是 CVD 金刚石设备？
有哪些类型的金刚石生长机？
CVD 的基本原理是什么？
CVD 金刚石设备如何工作？
实验室培育钻石有哪些优势？
有哪些不同类型的 CVD 方法？
使用 CVD 金刚石设备有哪些优势？
CVD 生长机的价格是多少？
使用化学气相沉积设备有哪些优势？
选择 CVD 金刚石设备时应考虑哪些因素？
化学气相沉积设备有哪些应用？
CVD 金刚石设备生产的金刚石有哪些常见应用？
选择化学气相沉积设备时应考虑哪些因素？
化学气相沉积机能否用于多层薄膜沉积？
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