并非所有的实验室培育钻石都是 CVD。
实验室培育钻石主要有两种方法：化学气相沉积法（CVD）和高压高温法（HPHT）。
您需要了解的 5 个关键事实
1.化学气相沉积（CVD）法
化学气相沉积法是指在中等温度（700°C 至 1300°C）和较低压力下，从碳氢化合物气体混合物中生成钻石。
在此过程中，含碳气体被抽入真空室，沉积在金刚石种子上，结晶成实验室培育的金刚石。
钻石的大小取决于生长时间。
与 HPHT 相比，CVD 所需的能量更少，因此成本更低，效率更高。
2.高压高温（HPHT）法
高压高温法复制了地幔中的高压和高温条件，开采出的钻石就是在这种条件下形成的。
这一过程需要极端的条件，约 1500°C 和每平方英寸约 150 万磅的压力。
通用电气公司于 1955 年利用这种方法开发出第一颗实验室培育的钻石。
3.实验室培育钻石的其他生产方法
除了这两种主要方法外，实验室培育钻石还可以通过引爆炸药来生产。
这种方法可形成直径达 5 纳米的纳米金刚石晶体，即引爆纳米金刚石。
不过，这种方法不像 CVD 和 HPHT 那样常见。
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