微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）与热丝化学气相沉积（HFCVD）的主要区别在于它们的运行机制和所生产金刚石薄膜的纯度。MPCVD 使用微波能产生等离子体，避免了 HFCVD 中使用的热丝带来的污染风险。这使得 MPCVD 生成的金刚石薄膜纯度更高，均匀性更好。
解释 MPCVD：
MPCVD 利用微波能量在气体混合物（通常由氢气和甲烷等碳源组成）中产生等离子体。MPCVD 中没有热灯丝，消除了灯丝材料（如钽或钨）污染的风险，这些材料在高温下会降解并污染金刚石的生长环境。这种方法还允许在反应系统中使用多种气体，增强了其在不同工业应用中的通用性。MPCVD 以生产均匀性好、纯度高、晶体形态优异的大面积薄膜而著称，适用于高品质硬质薄膜和大尺寸单晶金刚石。HFCVD 解释：
相比之下，HFCVD 是使用热丝（通常由钨或钽制成）加热气体混合物，从而引发化学反应，导致金刚石沉积。灯丝的高温是将气体分子解离成活性物质所必需的。然而，这种方法容易受到灯丝材料的污染，这些材料会蒸发并混入正在生长的金刚石薄膜中，从而降低其纯度。此外，灯丝对某些气体很敏感，长期暴露在反应气体中会缩短灯丝的寿命，从而增加合成成本。尽管存在这些缺点，但 HFCVD 的设备更简单、更易于控制，而且通常具有更快的金刚石薄膜生长速度。
总结：
