知识 MPCVD 和 HFCVD 的区别是什么?(4 个要点说明)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

MPCVD 和 HFCVD 的区别是什么?(4 个要点说明)

说到生产金刚石薄膜,人们通常会讨论两种主要方法:微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD) 和热丝化学气相沉积 (HFCVD)。

4 个要点说明

MPCVD 和 HFCVD 的区别是什么?(4 个要点说明)

1.运行机制

MPCVD 使用微波能产生等离子体。

HFCVD 使用热丝加热气体混合物。

2.金刚石薄膜的纯度

MPCVD 避免了热丝带来的污染风险。

这使得 MPCVD 生产的金刚石薄膜纯度更高,均匀性更好。

HFCVD 容易受到灯丝材料的污染,从而降低金刚石薄膜的纯度。

3.多功能性和控制

MPCVD 允许在反应系统中使用多种气体,增强了其在不同工业应用中的通用性。

MPCVD 以生产均匀性好、纯度高、晶体形态优异的大面积薄膜而著称。

HFCVD 设备简单,易于控制,但金刚石薄膜的生长速度通常较快。

4.成本和质量

MPCVD 提供更可控、更多用途的气体混合物,可生成更优质的金刚石薄膜。

HFCVD 更容易受到污染和灯丝降解的影响,从而影响金刚石薄膜的质量和成本效益。

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