介绍
MPCVD 是微波等离子体化学气相沉积的缩写。它是一种化学气相沉积工艺，利用连续微波源产生并维持由反应化学品和必要催化剂组成的高活性等离子体。该工艺用于在基底表面沉积金刚石薄膜。
MPCVD 系统由进行沉积过程的真空室、微波发生器和气体输送系统组成。微波发生器通常是磁控管或速调管，可产生 2.45 GHz 范围内的微波，通过石英窗口耦合到真空室。气体输送系统配有质量流量控制器 (MFC)，用于控制进入真空室的气体流量。
应用
MPCVD 是微波等离子体化学气相沉积的简称。它是一种在实验室中使用含碳气体和微波等离子体生长高质量金刚石薄膜的方法。它利用连续微波源产生并维持由反应化学品和必要催化剂组成的高活性等离子体。它通常用于 ANFF 网络中沉积金刚石层。引入甲烷和氢气作为气体前驱体，在金刚石种子基底上生长出新的金刚石。此外，MPCVD 中使用的 KINTEK 设备可在生长过程中将掺杂剂引入碳结构中。这些掺杂剂包括硼（可产生超导金刚石）和氮空位（可产生有趣的光致发光特性，可用于量子信息系统）。
细节与部件
技术规格
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微波系统（根据可选电源而定） |
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真空系统和反应腔 |
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样品支架系统 |
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气体系统 |
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系统冷却 |
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温度测量方法 |
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SL901A 设备关键部件列表
| 序列号 | 模块名称 | 备注 |
|---|---|---|
| 1 | 微波电源 | 国产标准磁控管：英杰电气 / 区别电源 国产固态源：进口磁控管：MKS/ Pastoral (+100, 000) |
| 2 | 波导、三针、模式转换器、上谐振器 | 自制 |
| 3 | 真空反应室（上腔体、下腔体、连接器） | 自制 |
| 4 | 红外测温仪、光位移元件、支架 | 红外测温仪、光位移元件、Fuji Gold Siemens + Schneider 支架 |
| 5 | 水冷却工作台运动部件（气缸、工件等） | |
| 6 | 陶瓷薄膜真空计、皮拉尼真空计 | Inficon |
| 7 | 真空阀组件（超高真空闸阀、精密气动阀*2、电磁真空充气差动阀） | 富士金 + 中科 + 希迈特 |
| 8 | 真空泵和连接管件、三通、KF25 波纹管*2、适配器 | 泵：Flyover 16L |
| 9 | 金属微波密封环*2；金属真空密封环*1；石英板 | 石英：上海飞利华半导体级高纯石英 |
| 10 | 循环水部件（接头、分流块、流量检测器） | 日本 SMC/CKD |
| 11 | 气动部件（CKD 过滤器、airtac 多路电磁阀、管件和适配器） | |
| 12 | 燃气接头、EP 燃气管、VCR 接头、0.0023μm*1 过滤器、10μm*2 过滤器 | 富士金属 |
| 13 | 机器外壳、不锈钢工作台、万向轮、脚垫、支架紧固螺钉等 | 定制加工 |
| 14 | 气体流量计*6 （包括一个压力控制器） | 标准七星，可选 Fuji Gold ( +34,000 ) / Alicat (42,000) |
| 15 | 气板加工（五通气体、过滤器*5、气动阀*5、手动阀*6、管道焊接） | 富士金牌 |
| 16 | PLC 自动控制 | 西门子 + 施耐德 |
| 17 | 钼台 | |
优点
- 它可以平滑、连续地调节微波功率，稳定地控制反应温度，从而避免了其他方法（如 DC-PJ CVD 法）可能出现的问题，如电弧导致的种子与基底脱落和火焰熄灭。
- 通过调整反应室的结构，控制微波功率和压力，形成大面积稳定的放电等离子体，MPCVD 方法可以生产出高质量、大尺寸的单晶金刚石。与其他 CVD 方法相比，这使其成为工业应用中最有前途的金刚石合成方法。
- 它允许使用多种气体来满足不同的工业需求，并避免了热丝对金刚石的污染。与使用 HPHT 方法生产的金刚石相比，MPCVD 方法生产的金刚石纯度更高，而且生产过程能耗更低。
- MPCVD 方法有利于生产较大的钻石。
FAQ
金刚石切割机可以切割哪些材料？
什么是 CVD（化学气相沉积），它有哪些主要优势？
什么是 CVD 金刚石设备？
有哪些类型的金刚石生长机？
金刚石切割机的原理是什么？
什么是 PECVD 方法？
什么是 Mpcvd？
CVD 的基本原理是什么？
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CVD 材料有哪些常见应用？
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CVD 金刚石设备如何工作？
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使用金刚石切割机有哪些优势？
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射频 PECVD 有哪些优势？
CVD 金刚石如何提高切削工具的性能？
使用 PACVD 有哪些优势？
选择 CVD 金刚石设备时应考虑哪些因素？
金刚石切割机如何确保高精度切割？
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化学气相沉积设备有哪些应用？
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CVD 金刚石设备生产的金刚石有哪些常见应用？
金刚石切割机的应用范围是什么？
PECVD 和溅射有什么区别？
选择化学气相沉积设备时应考虑哪些因素？
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化学气相沉积机能否用于多层薄膜沉积？
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