为什么选择我们
可靠的合作伙伴简易的订购流程、优质的产品和专业的支持,助力您的业务成功。
介绍
MPCVD金刚石设备是一项革命性技术,它利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)来合成金刚石。与传统技术相比,这种先进的方法能够实现更快的晶体生长速度、更高的生产能力和更高的金刚石质量。
MPCVD金刚石设备能够精确控制微波功率和反应温度,从而解决了其他CVD方法所面临的问题。通过优化反应室设计和工艺参数,它实现了稳定的等离子体放电,这对于生产高质量、大尺寸的单晶金刚石至关重要。
MPCVD金刚石设备的多功能性还体现在其能够制造各种颜色的金刚石,包括白色、黄色、粉色和蓝色。此外,它还提供可定制的生产,以满足特定的市场需求。
应用
由于金刚石具有硬度高、刚性好、导热性高、热膨胀系数低、耐辐射和化学惰性等独特性能,MPCVD金刚石设备被广泛应用于各个行业。以下是MPCVD金刚石设备的主要应用领域:
- 金刚石宝石:MPCVD是生长高质量、大尺寸金刚石宝石的主要设备。
- 金刚石薄膜:MPCVD用于生长各种应用的金刚石薄膜,包括用于半导体行业的大尺寸金刚石衬底以及金刚石切割或钻孔工具。
- 工业应用:MPCVD用于为刀具、钻头和其他需要极高硬度和耐用性的工业应用生产金刚石涂层。
- 生物医学应用:MPCVD用于为医疗植入物(如人工关节和牙科植入物)生产金刚石涂层,这些植入物需要生物相容性和耐用性。
- 光电子学:MPCVD用于为光电子器件(如大功率激光器和探测器)生产金刚石窗口和衬底,这些器件需要高导热性和低热膨胀系数。
详细信息与部件


原理
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是一种化学气相沉积工艺,它利用连续的微波源产生并维持由反应化学物质和关键催化剂组成的高度活性的等离子体。MPCVD广泛用于沉积金刚石薄膜——将甲烷和氢气引入并用于在有金刚石籽晶的衬底上培养新的金刚石。
特点
MPCVD金刚石设备具有多项优势,为客户带来益处:
- 更快的晶体生长速度:比传统方法快10-100倍,从而提高生产效率。
- 更高的生产能力:单次批次可实现更高的生产能力,从而实现更大规模的金刚石合成。
- 更高的质量性能:生产的金刚石比天然金刚石具有更高的硬度和韧性,确保了耐用性和寿命。
- 更多样化的颜色:支持生产各种颜色的金刚石,包括白色、黄色、粉色和蓝色,满足多样化的市场需求。
- 更高的金刚石纯度:生产的金刚石比天然金刚石II型纯度更高,确保了卓越的光学性能和适用于各种应用。
- 多风格定制:提供可定制的设计,以满足特定的市场要求,为不同行业提供量身定制的解决方案。
技术规格
|
微波系统(根据可选电源) |
|
|---|---|
|
真空系统和反应室 |
|
|
样品台系统 |
|
|
气体系统 |
|
|
系统冷却 |
|
|
测温方式 |
|
SL901A 设备主要部件清单
| 序号 | 模块名称 | 备注 |
|---|---|---|
| 1 | 微波电源 | 标准国产磁控管:英杰电磁/区分电源 国产固态源:华信(+30,000) 进口磁控管:MKS/牧羊人(+100,000) |
| 2 | 波导、三通、模式转换器、上谐振腔 | 自制 |
| 3 | 真空反应室(上腔、下腔、连接件) | 自制 |
| 4 | 红外测温仪、光学位移组件、支架 | 红外测温仪、光学位移组件:富士金西门子+施耐德支架 |
| 5 | 水冷台运动组件(气缸、工件等) | |
| 6 | 陶瓷薄膜真空计、皮拉尼真空计 | Inficon |
| 7 | 真空阀组件(超高真空闸阀、精密气动阀*2、电磁充气减压阀) | 富士金+中科+HIMAT |
| 8 | 真空泵及连接管件、三通、KF25波纹管*2、转接头 | 泵:飞越16L |
| 9 | 金属微波密封圈*2;金属真空密封圈*1;石英板 | 石英:上海飞勒华半导体级高纯石英 |
| 10 | 循环水组件(接头、分水块、流量检测器) | 日本SMC/CKD |
| 11 | 气动部分(CKD过滤器、亚德客多通电磁阀、管件接头) | |
| 12 | 气体接头、EP气管、VCR接头、过滤器0.0023μm *1、过滤器10μm*2 | 富士金 |
| 13 | 机柜、不锈钢台面、万向轮、脚轮、支架紧固螺钉等 | 定制加工 |
| 14 | 气体流量计*6(含一路压力控制) | 标准七星,可选富士金(+34,000)/ Alicat(42,000) |
| 15 | 气路板加工(5路气路、过滤器*5、气动阀*5、手动阀*6、管线焊接) | 富士金 |
| 16 | PLC自动控制 | 西门子+施耐德 |
| 17 | 钼台 | |
优点
- 更快的晶体生长速度 - 比传统方法快10-100倍
- 更高的生产能力 - 单次批次可实现更高的生产能力
- 更高的质量性能 - 比天然金刚石具有更高的硬度和韧性
- 更多样化的颜色 - 白色、黄色、粉色、蓝色等
- 更高的金刚石纯度 - 比天然金刚石II型更纯
- 多风格定制可根据不同市场进行定制
FAQ
什么是 Mpcvd?
什么是 MPCVD 设备?
Mpcvd 有哪些优势?
CVD 钻石是真的还是假的?
4.8
out of
5
I'm marvelled by the MPCVD machine's ability to produce high-purity diamonds with minimal energy consumption.
4.9
out of
5
The MPCVD machine has revolutionized diamond synthesis, enabling the production of larger diamonds with exceptional quality.
4.7
out of
5
I highly recommend the MPCVD machine for its durability and cost-effectiveness. It's a game-changer in diamond synthesis.
4.6
out of
5
The MPCVD machine is user-friendly and requires minimal maintenance. It's a valuable asset for any laboratory.
4.8
out of
5
The MPCVD machine has enabled us to produce high-quality diamonds for various industrial applications. It's a reliable and efficient machine.
4.9
out of
5
The MPCVD machine's ability to adjust microwave power and control reaction temperature precisely is remarkable. It ensures consistent and high-quality diamond synthesis.
4.7
out of
5
The MPCVD machine stands out with its large-area stable discharge plasma, which enables the production of high-quality, large-sized single crystal diamonds.
4.6
out of
5
I'm thoroughly impressed with the MPCVD machine's ability to avoid contamination and produce purer diamonds compared to traditional methods.
4.8
out of
5
The MPCVD machine is an excellent choice for laboratories seeking to produce high-quality diamonds for research and industrial applications.
4.9
out of
5
The MPCVD machine has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our laboratory, enabling us to produce diamonds with remarkable properties.
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!
相关产品
用于微波等离子体化学气相沉积和实验室金刚石生长的圆柱形谐振腔MPCVD设备系统反应器
了解圆柱形谐振腔MPCVD设备,这是一种用于珠宝和半导体行业中生长金刚石宝石和薄膜的微波等离子体化学气相沉积方法。了解其相对于传统HPHT方法的成本效益优势。
化学气相沉积CVD设备系统腔体滑动PECVD管式炉带液体气化器PECVD设备
KT-PE12 滑动PECVD系统:宽功率范围,可编程温度控制,带滑动系统的快速加热/冷却,MFC质量流量控制和真空泵。
相关文章
用 MPCVD 机器制造 CVD 金刚石的过程
CVD 金刚石设备在各行各业和科学研究中发挥着重要作用。
用于大尺寸单晶金刚石的 MPCVD 系统的进步
MPCVD 系统的进步使得生产更大、更高质量的单晶金刚石成为可能,为未来的应用提供了广阔的前景。
MPCVD 综合指南》:金刚石合成与应用
探索微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD) 在金刚石合成中的基本原理、优势和应用。了解它的独特功能以及与其他金刚石生长方法的比较。
MPCVD 机器新手指南
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是一种利用微波产生的等离子体将材料薄膜沉积到基底上的工艺。
等离子体增强化学气相沉积 (PECVD):综合指南
了解有关等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 的所有知识,这是一种用于半导体行业的薄膜沉积技术。探索其原理、应用和优势。
用于薄膜沉积的 CVD 设备
化学气相沉积(CVD)是一种广泛应用于在各种基底上沉积薄膜的技术。
了解 PECVD:等离子体增强化学气相沉积指南
PECVD 是一种制造薄膜涂层的有用技术,因为它可以沉积包括氧化物、氮化物和碳化物在内的多种材料。
了解 CVD 金刚石设备及其工作原理
CVD(化学气相沉积)金刚石制造工艺是利用气相化学反应将碳原子沉积到基底上。该工艺首先要选择高质量的金刚石种子,然后将其与富碳混合气体一起放入生长室。
用于现代加工的金刚石砂轮切割机和对新型切割工具的需求
钻石因其超凡的硬度、卓越的导热性和化学稳定性而广受欢迎。
石墨烯的化学气相沉积 (CVD) 挑战与解决方案
化学气相沉积(CVD)是一种广泛采用的生产高质量石墨烯的方法。
比较 PECVD 和 HPCVD 在涂层应用中的性能
虽然 PECVD 和 HFCVD 都可用于涂层应用,但它们在沉积方法、性能和特定应用的适用性方面存在差异。
等离子体在 PECVD 涂层中的作用
PECVD(等离子体增强化学气相沉积)是一种薄膜沉积工艺,广泛用于在各种基底上制作涂层。在这种工艺中,等离子体被用来在基底上沉积各种材料的薄膜。