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XRF （X 射线荧光）的局限性主要在于样品制备和分析的深度灵敏度。虽然 XRF 是一种非破坏性且相对简单的分析技术，但它需要仔细制备样品，以确保获得准确的结果。此外，检测元素的深度随原子量的变化而变化，从而影响对较轻元素的分析。
样品制备限制：
XRF 分析在很大程度上取决于样品制备的质量。如前所述，XRF 分析中最常见的问题不再与仪器的灵敏度和稳定性有关，而是与制备技术有关。例如，在使用 XRF 制粒时，主要的考虑因素包括确保将样品均质化为细粉末，并确保制备的颗粒表面平整、干净，以便于测量。如果制备不充分，可能会因样品元素组成的变化或杂质的干扰而导致结果不准确。深度灵敏度限制：
XRF 通过分析表面原子发射的特征 X 射线来检测元素，其深度通常在 1-1000 微米之间。探测深度取决于元素的原子量；较轻的元素比较重的元素更难探测。这种深度敏感性会限制对某些元素的分析，尤其是浓度较低或原子量较轻的元素。例如，锂、铍和硼等原子序数较低的元素可能无法像重元素那样被有效检测到。
结论
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硅（Si）被广泛认为是近红外（NIR）范围（约 1 μm 至 6 μm）应用中最耐用的矿物和光学材料之一。
氟化镁（MgF2）是一种四方晶体，具有各向异性，因此在进行精密成像和信号传输时，必须将其作为单晶体处理。
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