主题 真空炉

真空炉

真空炉是一种用真空环绕被加工材料的炉子。这可以防止氧化、对流热损失和污染。这种炉子可以将金属和陶瓷等材料加热到特定材料的高温,最高温度可达 3,000 ℃。真空度和最高炉温取决于被加热材料的熔点和蒸汽压。真空炉可用于退火、钎焊、烧结和热处理等工艺。过程可由计算机控制,确保可重复性,产品污染少、纯度高。


我们拥有满足您独特要求的最佳真空炉解决方案。我们的定制真空炉可满足客户的几乎所有要求。我们提供各种形状和尺寸、多个热区选项以及手动或自动流量控制。我们广泛的产品组合几乎可以保证有合适的标准解决方案满足您的需求。我们制造的真空炉工作压力低至 10-11 托(毫巴),工作温度范围从室温到钨热区的最高温度 3000 °C(5432°F)和石墨热区的最高温度 2200 °C(3992°F),真空度大致为 10-2 托/毫巴。

真空炉的应用

  • 退火
  • 钎焊
  • 烧结
  • 热处理
  • 淬火
  • 回火
  • 老化
  • 渗氮
  • 渗碳
  • 淬火

真空炉的优点

  • 可将金属加热至高温,由于不含氧,污染问题最小。
  • 提供均匀的高温和精确的温度控制,可生产出性能稳定的高质量材料。
  • 由于采用真空环境,碳、氧和其他气体的污染较少。
  • 可对产品进行快速淬火或冷却,从而缩短加工周期。
  • 由计算机控制,可确保性能的可重复性,从而获得质量稳定的产品。
  • 对特定材料的加热温度可高达 3,000 °C (5,432 °F)。
  • 商用真空泵系统的真空度可低至 1×10-11 torrs (1.3×10-11 mbar; 1.3×10-14 atm)。
  • 真空泵系统可在加热过程中去除加工材料中的低温副产物,从而获得纯度更高的最终产品。
  • 用于各种工业流程,如热处理、烧结、钎焊和退火。
  • 通常由石墨或陶瓷等耐火材料制成,可承受极端温度和真空环境。

 

我们的真空炉是您独特项目的完美解决方案。我们丰富的产品线可提供符合您需求的标准解决方案。不过,对于更多非常规应用,我们的定制设计服务也能派上用场。我们的定制真空炉专为您的特定项目而设计,无论该项目多么非传统。这些真空炉专为多种工艺而设计,可垂直或水平装载,并有各种形状和尺寸。此外,我们还提供自动流量控制和多个热区选项。最棒的是什么?我们的真空炉在价格方面非常有优势,并提供完整的定制服务。

FAQ

真空炉有哪些用途?

真空炉用于在无污染的受控环境中对材料进行高温加工。其工作原理是在产品周围形成真空,防止产品氧化和热量通过对流流失。这种炉通常用于对温度低于 1200 °C 的钢合金进行热处理。高温真空炉的温度最高可达 3000°C,可用于烧结、钎焊、退火和热处理等工业过程,具有一致性高、污染小的特点。高温真空炉的一个主要优点是能够实现整个工件的均匀加热。

真空炉的工艺流程是什么?

真空炉的工艺包括将工件装入炉腔,利用真空泵在炉腔内形成真空。下一步是利用温度控制装置加热零件,温度可达华氏 1,500 至 5,400 度。这一过程消除了氧化和污染的可能性,使最终产品的纯度更高。加热结束后,零件在从真空炉中取出之前要进行冷却和加工。真空炉由各种部件组成,包括真空系统、炉壳、电加热元件、温度控制器、供电系统和运输设备。

真空炉中使用什么气体?

根据不同的应用,真空炉可使用不同的气体。一般来说,真空炉可以使用氩气、氮气、氢气、一氧化碳、氦气等气体或混合物。使用这些气体可以在一个确定的、主要是非氧化性的气氛中进行热处理,这是真空焊接和钎焊、真空退火和烧结等各种应用所需要的。此外,还可以使用不同于空气成分的规定氧气浓度进行工作。

真空炉中使用的加热元件是什么?

真空炉中的加热元件对其正常工作至关重要,并取决于最高工作温度、功率负荷、分压和淬火气体以及预期寿命等因素。真空炉由各种材料制成的电阻元件加热,包括高温金属合金(如不锈钢、镍铬、钼、钨、钽)或非金属材料(如石墨和碳化硅)。加热元件材料的选择对于最大限度地延长其使用寿命、提高其可靠性和效率,并最终实现工艺效果非常重要。

请求报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!


相关文章

影响磁控溅射薄膜附着力的因素

影响磁控溅射薄膜附着力的因素

深入分析影响磁控溅射技术制备的薄膜附着力的关键因素。

阅读更多
了解和预防磁控溅射靶材中毒

了解和预防磁控溅射靶材中毒

讨论磁控溅射中的靶材中毒现象、其原因、影响和预防措施。

阅读更多
磁控溅射中陶瓷靶中心区域的严重烧蚀分析

磁控溅射中陶瓷靶中心区域的严重烧蚀分析

本文讨论了磁控溅射过程中陶瓷靶中心区域严重烧蚀的原因和解决方案。

阅读更多
磁控溅射中的问题:为什么会出现辉光但没有沉积薄膜

磁控溅射中的问题:为什么会出现辉光但没有沉积薄膜

分析导致磁控溅射中发光却不沉积薄膜的因素。

阅读更多
影响磁控溅射均匀性的因素

影响磁控溅射均匀性的因素

讨论影响磁控溅射薄膜沉积均匀性的关键因素,包括设备参数、溅射功率、气体压力、磁场配置、基片特性等。

阅读更多
选择真空镀膜材料:关键因素和考虑因素

选择真空镀膜材料:关键因素和考虑因素

根据应用、材料特性、沉积方法、经济性、基底兼容性和安全性选择正确真空镀膜材料的指南。

阅读更多
在磁控溅射中使用铼靶实现辉光放电所面临的挑战

在磁控溅射中使用铼靶实现辉光放电所面临的挑战

探讨铼靶在磁控溅射过程中难以发光的原因,并提出优化建议。

阅读更多
影响磁控溅射过程中溅射效果的参数

影响磁控溅射过程中溅射效果的参数

影响磁控溅射中溅射效果的关键参数,包括气压、功率、靶距、基片类型等。

阅读更多
磁控溅射法制备锆钛酸铅(PZT)薄膜层的注意事项

磁控溅射法制备锆钛酸铅(PZT)薄膜层的注意事项

使用磁控溅射法制备 PZT 薄膜层的指南和注意事项。

阅读更多
磁控溅射中的偏置电源类型及其用途

磁控溅射中的偏置电源类型及其用途

概述磁控溅射中的偏置电源类型及其在提高薄膜附着力和密度方面的作用。

阅读更多
了解薄膜制备中直流、中频和射频溅射的区别和用途

了解薄膜制备中直流、中频和射频溅射的区别和用途

本文介绍了直流、中频和射频溅射技术在薄膜制备中的区别和应用。

阅读更多
磁控溅射镀膜过程中的靶材火花:原因与解决方案

磁控溅射镀膜过程中的靶材火花:原因与解决方案

解释磁控溅射过程中靶材产生火花的原因,并提供防止火花产生的解决方案。

阅读更多
液压热压机:原理、组件、特点、优势和应用

液压热压机:原理、组件、特点、优势和应用

深入了解液压热压机及其组件、特点、优势和应用。

阅读更多
层压实验中平板热压机的安全操作和程序指南

层压实验中平板热压机的安全操作和程序指南

在层压实验中使用平板热压机的详细安全和操作指南,包括操作前检查、材料准备、加热程序和后处理。

阅读更多
层压实验中平板热压机的安全和操作指南

层压实验中平板热压机的安全和操作指南

在层压实验中使用平板热压机的详细安全措施和操作步骤。

阅读更多
冷等静压技术的综合应用

冷等静压技术的综合应用

概述冷等静压技术在各行各业的广泛应用。

阅读更多
热等静压技术在特种陶瓷制备中的应用

热等静压技术在特种陶瓷制备中的应用

探讨 HIP 技术在特种陶瓷中的应用,重点是制备、特性和行业趋势。

阅读更多
氧化锆陶瓷在牙科修复中的应用研究

氧化锆陶瓷在牙科修复中的应用研究

探讨氧化锆陶瓷在牙科修复中的特性、制备方法和优势。

阅读更多
氧化锆陶瓷烧结工艺和常见问题

氧化锆陶瓷烧结工艺和常见问题

深入了解氧化锆陶瓷的各种烧结方法以及在烧结过程中遇到的常见问题。

阅读更多
等静压技术:原理、分类和应用

等静压技术:原理、分类和应用

深入了解等静压技术、其类型以及在各行业的不同应用。

阅读更多

下载

目录 真空感应熔炼炉

下载

目录 真空电弧熔炼炉

下载

目录 真空炉

下载

目录 气氛炉

下载

目录 真空热压毛毯

下载

目录 马弗炉

下载

目录 回转炉

下载

目录 电回转窑

下载

目录 Cvd 炉

下载

目录 牙科炉

下载

目录 实验室压力机

下载

目录 冷等静压

下载

目录 颗粒机

下载

目录 石墨化炉

下载

目录 热解炉

下载

目录 管式炉

下载

目录 旋转管式炉

下载

目录 橡胶加工机

下载

目录 生物质热解

下载

目录 精细陶瓷

下载

目录 旋转盘电极

下载

目录 啄木鸟机

下载

目录 热蒸发源

下载

目录 钨船

下载