更新于 1周前
在溅射过程中，阴极是被来自气体放电等离子体的高能离子（通常是氩离子）轰击的目标材料。阳极通常是基底或真空室壁，喷出的靶原子在此沉积，形成涂层。
阴极的解释：
溅射系统中的阴极是带负电荷的靶材料，受到溅射气体中正离子的轰击。在直流溅射中，由于使用了高压直流源，正离子会加速冲向带负电荷的靶材，从而产生这种轰击。靶材作为阴极，是实际溅射过程发生的地方。高能离子与阴极表面碰撞，导致原子从靶材料中喷射出来。阳极的解释：
溅射中的阳极通常是要沉积涂层的基底。在某些设置中，真空室壁也可作为阳极。基底置于阴极喷射原子的路径上，使这些原子在其表面形成薄膜涂层。阳极与电气接地相连，为电流提供返回路径，确保系统的电气稳定性。
工艺细节：
溅射过程始于真空室中惰性气体（通常为氩气）的电离。目标材料（阴极）带负电，吸引带正电的氩离子。这些离子在外加电压的作用下加速冲向阴极，与目标材料碰撞并喷射出原子。这些喷射出的原子随后在基底（阳极）上移动和沉积，形成薄膜。这一过程需要仔细控制离子的能量和速度，而离子的能量和速度会受到电场和磁场的影响，以确保有效的涂层沉积。
电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。
在电子枪光束蒸发中，坩埚是一种容器或源支架，用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。
了解我们根据您的独特需求量身定制的价格合理的铜锆合金材料系列。浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品。
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
您正在为您的实验室需求寻找经济实惠的碳 (C) 材料吗？别再犹豫了！我们专业生产和定制的材料有各种形状、尺寸和纯度。您可以选择溅射靶材、涂层材料、粉末等。
根据您的独特需求，为您提供经济实惠的实验室用钴（Co）材料。我们的产品范围包括溅射靶材、粉末、箔等。如需定制解决方案，请立即联系我们！
您正在为您的实验室需求寻找高质量的铅（Pb）材料吗？我们有专门的可定制选择，包括溅射靶材、涂层材料等。现在就联系我们，了解具有竞争力的价格！
以合理的价格为您的实验室找到高质量的硫化锡 (SnS2) 材料。我们的专家生产和定制材料，以满足您的特定需求。请查看我们的溅射靶材、涂层材料、粉末等产品系列。
正在为您的实验室寻找锂铝合金材料？我们专业生产和定制的锂铝合金材料有各种纯度、形状和尺寸，包括溅射靶材、涂层、粉末等。立即获得合理的价格和独特的解决方案。
为您的实验室需求提供经济实惠的硫化锌 (ZnS) 材料。我们生产和定制不同纯度、形状和尺寸的 ZnS 材料。有多种溅射靶材、涂层材料、粉末等可供选择。
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
用于高温应用的容器，可将材料保持在极高温度下蒸发，从而在基底上沉积薄膜。
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
以合理的价格为您的实验室需求提供高质量的碳化硼材料。我们可定制不同纯度、形状和尺寸的碳化硼材料，包括溅射靶材、涂层、粉末等。
了解火花等离子烧结炉在快速、低温材料制备方面的优势。加热均匀、成本低且环保。
用于沉积薄膜的容器；具有铝涂层陶瓷本体，可提高热效率和耐化学性。
了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。
介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉，用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。
高纯度铂 (Pt) 溅射靶材、粉末、金属丝、块和颗粒，价格实惠。根据您的特定需求量身定制，为各种应用提供不同的尺寸和形状。
利用真空管式热压炉降低成型压力并缩短烧结时间，适用于高密度、细粒度材料。是难熔金属的理想选择。
