溅射中常用的惰性气体是氩气。氩气因其溅射率高、惰性、价格低廉和可获得纯净气体而受到青睐。
详细说明：
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惰性:氩气是一种惰性气体，这意味着它不会与目标材料发生化学反应。这在溅射过程中至关重要，因为气体不应改变沉积材料的化学成分。惰性可确保溅射材料保持纯净，并保持其所需的特性。
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高溅射率:与其他气体相比，氩气具有较高的溅射率。这种效率得益于氩气的原子特性，当离子与目标材料碰撞时，氩气能有效地传递动量。高溅射率意味着可以在更短的时间内沉积更多的材料，从而提高工艺效率。
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低廉的价格和可用性:氩气的价格相对低廉，供应广泛，是工业和研究应用中成本效益较高的选择。氩气的经济性和可获得性使其在溅射工艺中倍受青睐。
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用于等离子体形成:在腔室中建立真空后，引入氩气以促进等离子体的形成。在靶材和基底上施加电压，使氩原子电离，形成等离子体。该等离子体对溅射过程至关重要，因为它提供了轰击靶材的带电粒子（离子），使其喷射出原子，然后沉积到基片上。
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气体选择的可变性:氩气是最常用的气体，但氪气和氙气等其他惰性气体也有使用，特别是在溅射较重元素时，其较高的原子量有利于动量传递。由于氖的原子量较轻，因此在溅射较轻的元素时首选氖。
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反应气体:值得注意的是，氧气和氮气等反应性气体可与氩气等惰性气体同时使用。这些反应性气体用于沉积氧化物、氮化物和其他化合物的薄膜。使用惰性气体和活性气体的混合物可以控制沉积薄膜的化学计量和特性。
总之，氩气因其惰性、高溅射率、经济实惠和可用性而成为溅射中的首选惰性气体。氩气在等离子体形成中的应用以及与反应气体的兼容性，使其在各种溅射应用中都能发挥作用。
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