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电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚 BN坩埚

薄膜沉积部件

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚 BN坩埚

货号 : KES03

价格根据 规格和定制情况变动


材料
氮化硼
规格
35-64.5毫米*17-35毫米
ISO & CE icon

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应用

导电氮化硼坩埚是专为电子束蒸发镀膜设计的高纯度、光滑坩埚。它具有优异的耐高温性和热循环性能,并且不与各种金属和陶瓷稀土发生反应。即使在快速加热和冷却条件下,坩埚也能保持完整。它在合金熔炼、稀土和陶瓷烧结以及电子束蒸发镀膜等领域都有应用。它常用于高频感应加热、镀膜、电子束蒸发镀膜、铝镀层和硅镀层等热蒸发过程中。

导电氮化硼坩埚具有高纯度、高光洁度以及优异的电子束蒸发镀膜性能。它们可以提高蒸发速率,加速材料切换,提高热稳定性并降低功率要求,最终提高生产率和成本效益。

细节与部件

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚细节

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚细节2

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚细节3

技术规格

外径 35毫米 40毫米 45毫米 50毫米 64.5毫米
17毫米 20毫米 22.5毫米 25毫米 35毫米

我们展示的坩埚有不同尺寸可供选择,也可根据要求定制尺寸。

优点

  • 薄膜光洁度好,纯度高,污染少,使用寿命长。
  • 优异的耐高温性,耐热循环性。
  • 热膨胀系数低,不易被大多数熔融金属润湿。
  • 耐温高达2000℃,氮化硼不与铝反应且不易挥发。
  • 提高蒸发速率;提高蒸发速率可缩短循环时间并提高整体产量。
  • 快速更换材料;导电氮化硼坩埚便于快速更换材料,最大限度地减少腔室停机时间并提高工艺效率。
  • 增强的热稳定性;这些坩埚具有增强的热稳定性,可减少坩埚本身的热量传递,并确保蒸发过程的稳定和可控。

FAQ

什么是热蒸发源?

热蒸发源是热蒸发系统中用于在基底上沉积薄膜的设备。其工作原理是将材料(蒸发剂)加热到高温,使其蒸发,然后凝结在基底上,形成薄膜。

热蒸发源的主要类型有哪些?

热蒸发源的主要类型包括电阻蒸发源、电子束蒸发源和闪蒸源。每种类型都使用不同的方法加热蒸发物,如电阻加热、电子束加热或直接接触热表面。

热蒸发源是如何工作的?

热蒸发源的工作原理是将电流通过电阻材料,使其加热至高温。热量传递到蒸发剂上,使其熔化和汽化。然后,蒸气通过真空室,凝结在基底上,形成薄膜。

蒸发坩埚常用的材料有哪些?

蒸发坩埚通常由钨、钽、钼、石墨或陶瓷化合物等材料制成。这些材料熔点高、导热性好,适合蒸发过程中所需的高温条件。坩埚材料的选择取决于蒸发剂材料、所需薄膜特性和工艺参数等因素。

使用热蒸发源有哪些优势?

热蒸发源的优点包括沉积率高、方向性好、均匀性好以及与各种材料兼容。此外,热蒸发光源还相对简单、经济实惠,因此可广泛应用于薄膜沉积领域。

使用蒸发坩埚有哪些优势?

蒸发坩埚在薄膜沉积工艺中具有多种优势。它们可为材料蒸发提供受控环境,从而实现对薄膜厚度和均匀性的精确控制。坩埚可承受高温并提供高效热传导,确保稳定的蒸发率。坩埚有各种尺寸和形状,以适应不同的蒸发系统和基底配置。蒸发坩埚还可沉积多种材料,包括金属、半导体和陶瓷。蒸发坩埚易于装卸,便于快速更换材料或调整工艺。总之,蒸发坩埚是薄膜沉积技术的重要工具,具有多功能性、可靠性和可重复性。

热蒸发源有哪些应用?

热蒸发源可用于各种应用,如生产光学涂层、半导体器件和各类薄膜。在需要精确控制基底材料沉积的行业中,热蒸发源尤其有用。

应如何处理和维护蒸发坩埚?

应小心处理和维护蒸发坩埚,以确保其使用寿命和性能。每次使用前都应彻底清洁坩埚,清除之前沉积的残留物质。避免使用可能损坏坩埚表面的研磨材料。在装载和卸载过程中,应使用干净的手套或专用工具处理坩埚,以防止污染。不使用时,将坩埚存放在干燥清洁的环境中,以避免腐蚀或降解。必须定期检查坩埚是否有裂缝、缺陷或磨损迹象,以防止在蒸发过程中出现意外故障。按照制造商的建议进行退火或表面处理等特定维护程序,以延长坩埚的使用寿命。
查看更多该产品的问题与解答

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