薄膜沉积部件

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚 BN坩埚

货号 : KES03

价格根据规格和定制情况变动

材料: 氮化硼
规格: 35-64.5毫米*17-35毫米

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应用

导电氮化硼坩埚是专为电子束蒸发镀膜设计的高纯度、光滑坩埚。它具有优异的耐高温性和热循环性能，并且不与各种金属和陶瓷稀土发生反应。即使在快速加热和冷却条件下，坩埚也能保持完整。它在合金熔炼、稀土和陶瓷烧结以及电子束蒸发镀膜等领域都有应用。它常用于高频感应加热、镀膜、电子束蒸发镀膜、铝镀层和硅镀层等热蒸发过程中。

导电氮化硼坩埚具有高纯度、高光洁度以及优异的电子束蒸发镀膜性能。它们可以提高蒸发速率，加速材料切换，提高热稳定性并降低功率要求，最终提高生产率和成本效益。

细节与部件

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚细节

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚细节2

电子束蒸发镀膜导电氮化硼坩埚细节3

技术规格

外径	35毫米	40毫米	45毫米	50毫米	64.5毫米
高	17毫米	20毫米	22.5毫米	25毫米	35毫米

我们展示的坩埚有不同尺寸可供选择，也可根据要求定制尺寸。

优点

薄膜光洁度好，纯度高，污染少，使用寿命长。
优异的耐高温性，耐热循环性。
热膨胀系数低，不易被大多数熔融金属润湿。
耐温高达2000℃，氮化硼不与铝反应且不易挥发。
提高蒸发速率；提高蒸发速率可缩短循环时间并提高整体产量。
快速更换材料；导电氮化硼坩埚便于快速更换材料，最大限度地减少腔室停机时间并提高工艺效率。
增强的热稳定性；这些坩埚具有增强的热稳定性，可减少坩埚本身的热量传递，并确保蒸发过程的稳定和可控。

行业领军企业信赖之选

FAQ

什么是热蒸发源？

热蒸发源是热蒸发系统中用于在基底上沉积薄膜的设备。其工作原理是将材料（蒸发剂）加热到高温，使其蒸发，然后凝结在基底上，形成薄膜。

热蒸发源的主要类型有哪些？

热蒸发源的主要类型包括电阻蒸发源、电子束蒸发源和闪蒸源。每种类型都使用不同的方法加热蒸发物，如电阻加热、电子束加热或直接接触热表面。

热蒸发源是如何工作的？

热蒸发源的工作原理是将电流通过电阻材料，使其加热至高温。热量传递到蒸发剂上，使其熔化和汽化。然后，蒸气通过真空室，凝结在基底上，形成薄膜。

蒸发坩埚常用的材料有哪些？

蒸发坩埚通常由钨、钽、钼、石墨或陶瓷化合物等材料制成。这些材料熔点高、导热性好，适合蒸发过程中所需的高温条件。坩埚材料的选择取决于蒸发剂材料、所需薄膜特性和工艺参数等因素。

使用热蒸发源有哪些优势？

热蒸发源的优点包括沉积率高、方向性好、均匀性好以及与各种材料兼容。此外，热蒸发光源还相对简单、经济实惠，因此可广泛应用于薄膜沉积领域。

使用蒸发坩埚有哪些优势？

蒸发坩埚在薄膜沉积工艺中具有多种优势。它们可为材料蒸发提供受控环境，从而实现对薄膜厚度和均匀性的精确控制。坩埚可承受高温并提供高效热传导，确保稳定的蒸发率。坩埚有各种尺寸和形状，以适应不同的蒸发系统和基底配置。蒸发坩埚还可沉积多种材料，包括金属、半导体和陶瓷。蒸发坩埚易于装卸，便于快速更换材料或调整工艺。总之，蒸发坩埚是薄膜沉积技术的重要工具，具有多功能性、可靠性和可重复性。

热蒸发源有哪些应用？

热蒸发源可用于各种应用，如生产光学涂层、半导体器件和各类薄膜。在需要精确控制基底材料沉积的行业中，热蒸发源尤其有用。

应如何处理和维护蒸发坩埚？

应小心处理和维护蒸发坩埚，以确保其使用寿命和性能。每次使用前都应彻底清洁坩埚，清除之前沉积的残留物质。避免使用可能损坏坩埚表面的研磨材料。在装载和卸载过程中，应使用干净的手套或专用工具处理坩埚，以防止污染。不使用时，将坩埚存放在干燥清洁的环境中，以避免腐蚀或降解。必须定期检查坩埚是否有裂缝、缺陷或磨损迹象，以防止在蒸发过程中出现意外故障。按照制造商的建议进行退火或表面处理等特定维护程序，以延长坩埚的使用寿命。

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