溅射是一种依靠高能离子向固体靶材料中的原子转移动量的过程。
这种转移导致这些原子被喷射到气相中。
该过程对于薄膜沉积和各种分析技术至关重要。
溅射是基于什么转移？5 个要点说明
1.离子轰击
在溅射过程中，惰性气体（通常为氩气）中的离子在电场的作用下加速冲向目标材料。
这些离子带正电，以高速被带负电的靶材吸引。
2.动量传递
撞击时，高能离子将其动量传递给目标材料的原子。
这种转移部分是非弹性的，即离子的部分动能转化为目标材料的振动能。
3.目标原子的抛射
转移的动量足以克服靶原子间的结合能。
这导致它们从材料晶格中喷射出来，进入镀膜腔内的气态。
这种原子喷射称为溅射。
4.沉积到基底上
溅射的原子或粒子穿过真空空间，沉积到基底上，形成薄膜。
这种沉积可以通过视线进行，也可以使粒子再次电离，并在电场力的作用下加速沉积到基底上。
5.应用广泛
由于溅射不需要熔化源材料，因此可应用于各种方向和复杂形状。
因此，它是一种可用于不同类型表面涂层的多功能方法。
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