在金属溅射过程中，氩气起着至关重要的作用。
金属溅射过程中使用氩气的 5 个主要原因
1.惰性
氩气是一种惰性气体，这意味着它不易与其他元素发生反应。
这一点非常重要，因为在溅射过程中，气体离子会与目标材料重新结合，生成沉积薄膜。
使用像氩这样的惰性气体可以确保薄膜不会受到与其他气体反应的污染。
2.高原子质量
氩气的原子质量高，可有效轰击目标材料。
存在磁场时，电子会聚集在磁场中，产生高电子密度。
这增加了电子与氩碰撞的机会，加速了带正电荷的氩离子（Ar+）的形成。
这些离子被带负电的靶吸引，从而提高了溅射和沉积速率。
3.成本效益
氩气的成本相对较低，而且以纯氩形式广泛存在。
这使其成为磁控溅射应用中一种具有成本效益的选择。
4.最佳原子质量
用于溅射的气体离子的原子量应与溅射目标分子的原子量相似，以优化能量和动量的传递。
氩的原子量非常适合这一目的。
5.多功能性
虽然氩是溅射的主要气体，但根据沉积薄膜的具体要求，偶尔也会使用氪和氙等其他稀有气体元素。
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