实验室材料
高纯铝（Al）溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒
货号 : LM-AL
价格根据 规格和定制情况变动
- 化学式
- 铝
- 纯度
- 3N-6N
- 形状
- 圆盘/金属丝/块/粉末/板/柱靶/阶梯靶/定制
运输:
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我们提供价格合理的实验室用铝（Al）材料，根据您的独特需求定制各种纯度、形状和尺寸。
我们的产品包括各种规格和尺寸的溅射靶材、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、铝锭和铝块。
主要产品
- 铝溅射靶材：纯度 99.99%~99.999%，可定制尺寸（φ25.4×4mm；φ50.8×3mm；φ76.2×5mm；φ100×3mm），用于磁控溅射镀膜、MEMS 集成电路、LED 封装等。
- 铝颗粒：纯度 99.99%~99.999%，可定制尺寸（5N 3×3mm；4N 6×6mm），用于蒸发涂层、合金熔炼、钢铁脱氧等。
- 铝板：纯度 99.99%-99.999%，可定制尺寸（厚度 0.01mm；0.2mm 等），用于 AAO 阳极氧化铝、涂层等。
- 铝线：纯度 99.99%~99.999%，可定制尺寸（φ1mm；φ3mm；φ10mm 等），用于蒸发涂层、合金熔炼、机械分析等。
- 铝棒：纯度 99.99%~99.999%，常规尺寸（φ12×50mm；φ15×120mm），用于科学研究实验等。
- 铝块纯度 99.9%~99.999%，常规尺寸（10-30mm），用于合金熔炼等。
详细信息
关于铝（Al）
铝是一种广泛使用的金属，有各种形态和纯度，从 99% 到 99.9999%（ACS 级到超高纯度）不等。它通常以铝箔、溅射靶材和纳米粉体的形式使用，也可以以元素或金属形式提供，如用于蒸发源材料的颗粒、棒材、线材和粒料。
高纯度（99.999%）氧化铝（Al2O3）粉末的形态包括粉末和致密颗粒，可用于光学镀膜和薄膜等应用。此外，铝还以氯化物、硝酸盐和醋酸盐等可溶形式存在。这些化合物可以按照指定的化学计量生产成溶液。
还可以合成超高纯度（99.999+%）的铝，用于先进电子、使用溅射靶材和蒸发材料的薄膜沉积、冶金、光学材料和其他高科技应用。有机金属铝化合物可溶于有机溶剂或非水溶剂。分析服务包括 MS-ICP、X 射线衍射、PSD 和表面积 (BET) 分析，可用于经认证的化学和物理分析技术。
成分质量控制
- 原材料成分分析
- 通过使用ICP和 GDMS，对金属杂质含量进行检测分析，确保符合纯度标准；
非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。 - 金相探伤分析
- 使用探伤设备对靶材进行检验，确保产品内部无缺陷、缩孔；
通过金相检测，分析靶材内部晶粒组织，确保晶粒细小、致密。 - 外观尺寸检查
- 产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量，确保符合图纸；
使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。
传统溅射靶材尺寸
- 准备过程
- 热等静压 压制、真空熔炼等
- 溅射靶材形状
- 平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
- 圆形溅射靶材尺寸
- 直径：25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度： 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。 - 方形溅射靶材尺寸
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm，尺寸可定制
可用的金属形式
金属形式细节
我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属，范围广泛形式和纯度，以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求，例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供，但并不详尽。 如果您需要实验室耗材，请联系我们直接索取报价。
- 平面/平面形式：板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
- 预成型形状：阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
- 微型尺寸：珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
- 宏观尺寸：钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
- 多孔和半多孔：织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
- 纳米级：纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
- 其他：浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本
KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)，在某些情况下，高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择，包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计，以满足严格的要求 高科技应用，非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。
包装
我们的高纯度材料采用真空包装，每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如，我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签，以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。
FAQ
什么是溅射靶材？
什么是高纯金属？
什么是高纯度材料？
如何制造溅射靶材？
高纯金属有哪些用途？
溅射靶材有哪些用途？
使用高纯金属有哪些好处？
什么是电子溅射靶材？
哪些行业通常使用高纯金属？
溅射靶材的使用寿命有多长？
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Excellent quality and purity, very cost-effective.
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Amazing product, met all our research requirements.
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The purity of the aluminum is exceptional.
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