实验室材料
高纯硒（Se）溅射靶材/粉/丝/块/粒
货号 : LM-SE
价格根据 规格和定制情况变动
- 化学式
- Se
- 纯度
- 4N-5N
- 形状
- 圆盘 / 金属丝 / 块 / 粉末 / 板 / 柱靶 / 台阶靶 / 定制
运输:
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我们以合理的价格提供实验室用硒（Se）材料。我们的专长在于生产和定制不同纯度、形状和尺寸的硒（Se）材料，以满足您的特定需求。
我们提供各种规格和尺寸的溅射靶材，如圆形、方形、管状和不规则形状，以及涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉体、线棒、锭和块等。
详细信息
关于硒（Se）
硒具有光电效应和光电导效应，是电子产品中的理想材料。硒有金属和化合物两种形态，纯度从 99% 到 99.999%（ACS 级到超高纯度）不等。
硒的元素或金属形态有颗粒、棒材、线材和粒材，可用作蒸发源材料。氧化硒有粉末和致密颗粒两种形式，通常用于光学镀膜和薄膜应用。不过，氧化物通常不溶于水。
在冶金、化学和物理气相沉积以及某些光学镀膜等不需要氧气的应用中，氟化硒以不溶解的形式出现。此外，还可提供氯化物等可溶形式的硒，并可按照指定的化学计量学方法制成溶液。
总之，硒的独特性质使其成为材料科学领域应用广泛的材料。
成分质量控制
- 原材料成分分析
- 通过使用ICP和 GDMS，对金属杂质含量进行检测分析，确保符合纯度标准；
非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。 - 金相探伤分析
- 使用探伤设备对靶材进行检验，确保产品内部无缺陷、缩孔；
通过金相检测，分析靶材内部晶粒组织，确保晶粒细小、致密。 - 外观尺寸检查
- 产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量，确保符合图纸；
使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。
传统溅射靶材尺寸
- 准备过程
- 热等静压 压制、真空熔炼等
- 溅射靶材形状
- 平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
- 圆形溅射靶材尺寸
- 直径：25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度： 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。 - 方形溅射靶材尺寸
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm，尺寸可定制
可用的金属形式
金属形式细节
我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属，范围广泛形式和纯度，以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求，例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供，但并不详尽。 如果您需要实验室耗材，请联系我们直接索取报价。
- 平面/平面形式：板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
- 预成型形状：阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
- 微型尺寸：珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
- 宏观尺寸：钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
- 多孔和半多孔：织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
- 纳米级：纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
- 其他：浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本
KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)，在某些情况下，高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择，包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计，以满足严格的要求 高科技应用，非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。
包装
我们的高纯度材料采用真空包装，每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如，我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签，以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。
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I'm impressed with the quality and purity of the selenium sputtering targets I received from KINTEK SOLUTION. They've greatly improved the performance of our thin-film deposition system.
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4.9
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