产品 实验室耗材和材料 实验室材料 高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒
高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

实验室材料

高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

货号 : LM-SI

价格根据 规格和定制情况变动


化学式
Si
纯度
5N-6N
形状
圆盘/金属丝/块/粉末/板/柱靶/阶梯靶/定制
ISO & CE icon

运输:

联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

我们很高兴能以极具竞争力的价格提供实验室用硅(Si)材料。我们的专长在于生产和定制各种纯度、形状和尺寸的硅(Si)材料,以满足您的特定需求。

我们提供各种规格和尺寸的溅射靶材(圆形、方形、管状、不规则形)、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭和块等。

详细信息

硅(Si)溅射靶材
硅(Si)溅射靶材

 

单晶硅片
单晶硅片
单晶硅片
单晶硅片
多晶硅块
多晶硅块
多晶硅块
多晶硅块
多晶硅颗粒
多晶硅颗粒
多晶硅颗粒
多晶硅颗粒

关于硅(Si)

硅以砂的形式存在,是玻璃的重要组成部分,具有优异的机械、光学、热学和电学特性。

在电子工业中,掺有硼、镓、磷或砷的超高纯硅被广泛用于生产晶体管、太阳能电池、整流器和其他固态器件。

有机硅是一种广泛的合成聚合物,是重要的硅产品,具有多种形态,从液体到坚硬的玻璃状固体,具有许多有益的特性。

金属硅的纯度从 99% 到 99.999%(从 ACS 级到超高纯度)不等,有颗粒、棒材、线材和颗粒等形式,可用于蒸发源材料。

粉末状和致密颗粒状的氧化硅可用于光学涂层和薄膜等应用。不溶于水且不含氧化物的氟化硅是冶金、物理和化学气相沉积以及某些光学涂层的理想材料。

氯化物和醋酸盐等可溶性硅可按特定的化学计量合成为溶液。

成分质量控制

原材料成分分析
通过使用ICP和 GDMS,对金属杂质含量进行检测分析,确保符合纯度标准;

非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。
金相探伤分析
使用探伤设备对靶材进行检验,确保产品内部无缺陷、缩孔;

通过金相检测,分析靶材内部晶粒组织,确保晶粒细小、致密。
外观尺寸检查
产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量,确保符合图纸;

使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。

传统溅射靶材尺寸

准备过程
热等静压 压制、真空熔炼等
溅射靶材形状
平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
圆形溅射靶材尺寸
直径:25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。
方形溅射靶材尺寸
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm,尺寸可定制

可用的金属形式

金属形式细节

我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属,范围广泛形式和纯度,以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求,例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供,但并不详尽。 如果您需要实验室耗材,请联系我们直接索取报价。

  • 平面/平面形式:板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
  • 预成型形状:阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
  • 微型尺寸:珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
  • 宏观尺寸:钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
  • 多孔和半多孔:织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
  • 纳米级:纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
  • 其他:浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本

KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5),在某些情况下,高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择,包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计,以满足严格的要求 高科技应用,非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。

包装

我们的高纯度材料采用真空包装,每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如,我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签,以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。

FAQ

什么是高纯度材料?

高纯度材料是指不含杂质并具有高度化学均匀性的物质。这些材料对各行各业都至关重要,尤其是在先进的电子领域,因为杂质会严重影响设备的性能。高纯度材料可通过各种方法获得,包括化学纯化、气相沉积和分区精炼。例如,在制备电子级单晶金刚石时,必须使用高纯度的原料气体和高效的真空系统,才能达到理想的纯度和均匀性。

什么是高纯金属?

高纯金属是杂质极少的单元素材料,因此非常适合用于先进技术的研究、开发和生产。这些金属可用于制造先进陶瓷、电子传感器、高精度透镜和光学器件、LED、激光器、隔热涂层、等离子屏幕等。KINTEK 为研究和商业应用提供各种形态、成分、分散体、粒度和重量的高纯金属、二元和三元金属化合物。战略性特种金属用于高科技应用领域,因其加工精细而价格昂贵。

什么是射频 PECVD?

RF PECVD 是射频等离子体增强化学气相沉积的缩写,是一种在低压化学气相沉积过程中,利用辉光放电等离子体影响工艺,在基底上制备多晶薄膜的技术。射频 PECVD 方法已在标准硅集成电路技术中得到广泛应用,该技术通常使用平面晶片作为基底。这种方法的优势在于薄膜制造成本低,沉积效率高。材料也可以沉积为分级折射率薄膜或具有不同特性的纳米薄膜堆。

什么是溅射靶材?

溅射靶材是溅射沉积过程中使用的一种材料,溅射沉积过程是将靶材分解成微小的颗粒,形成喷雾并覆盖在硅晶片等基底上。溅射靶材通常是金属元素或合金,但也有一些陶瓷靶材。它们有各种尺寸和形状,有些制造商还为大型溅射设备制造分段式靶材。由于溅射靶材能够高精度、均匀地沉积薄膜,因此在微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层等领域有着广泛的应用。

高纯金属有哪些用途?

高纯金属用于各种需要特定属性、性能和质量的先进技术中。它们用于制造荧光灯、等离子屏幕、LED、高精度透镜和光学器件、电子传感器、高级陶瓷、隔热涂层、激光器等。这些金属还可用于生产高质量的磁性、热电、荧光粉和半导体材料。KINTEK 提供各种形态、成分、分散体、粒度和重量的高纯金属、二元和三元金属化合物、磁性合金、金属氧化物、纳米材料和有机金属前体,可满足所有研究和商业应用的需要。

射频 PECVD 如何工作?

射频 PECVD 的工作原理是在真空室中产生等离子体。将前驱体气体引入真空室,然后施加射频功率以产生电场。该电场导致前驱体气体电离,形成等离子体。等离子体中含有可与基底表面发生化学反应的活性物质,从而形成薄膜沉积。射频功率还有助于控制等离子体的能量,从而更好地控制薄膜的特性,如成分、均匀性和附着力。可以调整气体流速、压力和射频功率等工艺参数,以优化薄膜沉积工艺。

如何制造溅射靶材?

根据溅射靶材的特性及其应用,可采用多种制造工艺制造溅射靶材。这些工艺包括真空熔炼和轧制、热压、特殊冲压烧结工艺、真空热压和锻造方法。大多数溅射靶材可制成各种形状和尺寸,其中圆形或矩形最为常见。靶材通常由金属元素或合金制成,但也可使用陶瓷靶材。也可使用复合溅射靶材,由各种化合物制成,包括氧化物、氮化物、硼化物、硫化物、硒化物、碲化物、碳化物、晶体和复合混合物。

使用高纯金属有哪些好处?

使用高纯金属有几个好处。首先,由于不含可能导致材料性能变化的杂质,高纯金属具有稳定可靠的性能。其次,高纯度金属能够生产出高质量和高性能的产品,确保更好的功能性和耐用性。第三,其杂质含量低,可降低敏感应用中的污染风险。高纯金属还具有更好的导电性、导热性和耐腐蚀性。此外,高纯金属通常还具有更强的附着力,因此适用于各种涂层和薄膜沉积工艺。

射频 PECVD 有哪些优势?

射频 PECVD 在薄膜沉积方面具有多项优势。首先,它可以沉积高质量的薄膜,并对薄膜特性(如厚度、成分和均匀性)进行出色的控制。等离子体的使用提高了工艺的反应性,与传统的热 CVD 方法相比,能在更低的温度下沉积薄膜。射频 PECVD 还具有更好的阶跃覆盖率,可以沉积出高宽比结构的薄膜。另一个优势是能够沉积多种材料,包括氮化硅、二氧化硅、非晶硅和其他各种薄膜材料。该工艺具有高度可扩展性,可轻松集成到现有制造工艺中。此外,与其他薄膜沉积技术相比,射频 PECVD 是一种相对经济有效的方法。

溅射靶材有哪些用途?

溅射靶材用于一种称为溅射的工艺,利用离子轰击靶材,将材料薄膜沉积到基底上。这些靶材在各个领域都有广泛的应用,包括微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层。它们可以在各种基底上高精度、高均匀度地沉积材料薄膜,是生产精密产品的理想工具。溅射靶材有各种形状和尺寸,可根据应用的具体要求进行专门设计。

哪些行业通常使用高纯金属?

高纯金属可广泛应用于各行各业。半导体和电子工业广泛使用高纯金属制造集成电路、微处理器和其他电子元件。航空航天工业依靠高纯度金属的轻质和高强度特性。光学和光伏产业利用高纯金属制造精密光学器件和太阳能电池。高纯金属在医疗设备、汽车部件、研究实验室和先进制造工艺中也发挥着重要作用。

什么是电子溅射靶材?

电子溅射靶材是铝、铜和钛等材料的薄盘或薄片,用于在硅晶片上沉积薄膜,以制造晶体管、二极管和集成电路等电子设备。这些靶材用于一种称为溅射的工艺中,通过离子轰击靶材,将靶材材料的原子从表面物理射出并沉积到基板上。电子溅射靶材在微电子生产中至关重要,通常要求高精度和高均匀性,以确保设备的质量。

溅射靶材的使用寿命有多长?

溅射靶材的使用寿命取决于材料成分、纯度和具体应用等因素。一般来说,靶材的溅射寿命可达几百到几千小时,但根据每次运行的具体条件,寿命会有很大差异。适当的处理和维护也可以延长靶材的使用寿命。此外,使用旋转溅射靶材可以延长运行时间并减少缺陷的发生,使其成为大批量生产过程中更具成本效益的选择。
查看更多该产品的问题与解答

4.8

out of

5

The quality of the silicon sputtering targets is excellent. The delivery was very quick and the customer service was responsive and helpful.

Maxence Michaud

4.7

out of

5

Kintek Solution's silicon sputtering targets are of the highest quality. They are durable and provide excellent results.

Elifnur Kılıç

4.9

out of

5

I have been using Kintek Solution's silicon sputtering targets for years and have always been impressed with their quality and performance. They are a great value for the price.

Dr. Eleni Apostolakis

4.6

out of

5

Kintek Solution's silicon sputtering targets are very reliable and have a long lifespan. I highly recommend them to anyone in need of high-quality sputtering targets.

Dr. Ricardo Pinto

4.8

out of

5

Kintek Solution's silicon sputtering targets are a great choice for researchers and engineers who need high-quality materials. They are easy to use and provide excellent results.

Prof. Dr. Toshihiko Naka

4.7

out of

5

I have been using Kintek Solution's silicon sputtering targets for my research for several years. They are consistently high quality and have helped me to achieve excellent results.

Dr. Drahomír Opatrný

4.9

out of

5

Kintek Solution's silicon sputtering targets are the best I have ever used. They are incredibly durable and produce very consistent results.

Dr. Maria José Ferreira

4.7

out of

5

I am very satisfied with Kintek Solution's silicon sputtering targets. They are a great value for the price and have helped me to improve the quality of my research.

Dr. Andres Pavez

4.8

out of

5

Kintek Solution's silicon sputtering targets are an essential part of my research. They are very reliable and have helped me to achieve breakthroughs in my field.

Prof. Dr. José Ruiz

4.6

out of

5

I have been using Kintek Solution's silicon sputtering targets for years and have always been impressed with their quality and performance. They are a great choice for anyone looking for high-quality sputtering targets.

Dr. Maria João Coelho

4.7

out of

5

Kintek Solution's silicon sputtering targets are the best I have ever used. They are very durable and have helped me to save time and money in my research.

Dr. Samuel Brunet

4.9

out of

5

I am very happy with Kintek Solution's silicon sputtering targets. They are a great value for the price and have helped me to improve the quality of my work.

Dr. Ana Sofia Ferreira

PDF - 高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

下载

目录 实验室材料

下载

目录 高纯度材料

下载

目录 高纯金属

下载

目录 Rf Pecvd

下载

目录 溅射靶材

下载

请求报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找二氧化硅材料?我们专业定制的二氧化硅材料有各种纯度、形状和尺寸。立即浏览我们的各种规格产品!

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

正在为您的实验室寻找高质量的碳化硅 (SiC) 材料?别再犹豫了!我们的专家团队以合理的价格根据您的确切需求生产和定制碳化硅材料。立即浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品系列。

氮化硅 (Si3N4) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氮化硅 (Si3N4) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

为您的实验室需求提供经济实惠的氮化硅 (Si3N4) 材料。我们生产和定制各种形状、尺寸和纯度的产品,以满足您的要求。浏览我们的溅射靶材、粉末等产品系列。

钛硅合金 (TiSi) 溅射靶材/粉/丝/块/粒

钛硅合金 (TiSi) 溅射靶材/粉/丝/块/粒

了解我们经济实惠的实验室用钛硅合金 (TiSi) 材料。我们的定制生产为溅射靶材、涂层、粉末等提供各种纯度、形状和尺寸。为您的独特需求找到完美匹配。

镍硅合金(NiSi)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

镍硅合金(NiSi)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找镍硅合金材料?我们专业生产和定制的材料有各种形状和尺寸,可满足您的独特需求。以合理的价格获取溅射靶材、涂层材料、粉末等。

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

硅(Si)被广泛认为是近红外(NIR)范围(约 1 μm 至 6 μm)应用中最耐用的矿物和光学材料之一。

铝硅钇合金(AlSiY)溅射靶材/粉/丝/块/粒

铝硅钇合金(AlSiY)溅射靶材/粉/丝/块/粒

根据您实验室的独特需求,查找高质量的 AlSiY 材料。我们经济实惠的产品系列包括各种尺寸和形状的溅射靶材、粉末、线棒等。立即订购!

锆硅合金 (ZrSi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

锆硅合金 (ZrSi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格了解我们的实验室用锆硅合金 (ZrSi) 材料。我们根据您的独特要求生产定制材料,为溅射靶材、涂层材料、粉末等提供多种规格和尺寸。

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅板在高温下性能均匀,是冶金工业中常用的陶瓷材料。

高纯钨(W)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯钨(W)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您的实验室需求找到高品质的钨(W)材料。我们提供定制纯度、形状和尺寸的溅射靶材、涂层材料、粉末等。

高纯锑(Sb)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯锑(Sb)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

根据您的特定需求量身定制高质量的锑(Sb)材料。我们以合理的价格提供各种形状和尺寸的产品。浏览我们的溅射靶材、粉末、箔等产品。

氟化钙 (CaF2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氟化钙 (CaF2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您正在寻找用于实验室的高质量氟化钙材料吗?我们的专家团队为您量身定制不同纯度、形状和尺寸的产品,以满足您的特定需求。浏览我们的溅射靶材、涂层材料、粉末等产品系列。立即获取报价。

高纯硒(Se)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯硒(Se)溅射靶材/粉/丝/块/粒

您正在寻找经济实惠的实验室用硒(Se)材料吗?我们专业生产和定制各种纯度、形状和尺寸的材料,以满足您的独特要求。请浏览我们的溅射靶材、涂层材料、粉末等产品系列。

碳化硅(SIC)陶瓷板

碳化硅(SIC)陶瓷板

氮化硅陶瓷是一种在烧结过程中不会收缩的无机材料陶瓷。它是一种高强度、低密度、耐高温的共价键化合物。

氟化钠 (NaF) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氟化钠 (NaF) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您在寻找氟化钠 (NaF) 材料吗?我们以合理的价格提供不同纯度、形状和尺寸的定制解决方案。查找溅射靶材、涂层材料、粉末等。立即联系我们。

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(原文如此)陶瓷片由高纯度碳化硅和超细粉组成,经振动成型和高温烧结而成。

硫化锌 (ZnS) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硫化锌 (ZnS) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

为您的实验室需求提供经济实惠的硫化锌 (ZnS) 材料。我们生产和定制不同纯度、形状和尺寸的 ZnS 材料。有多种溅射靶材、涂层材料、粉末等可供选择。

CaF2 基质/窗口/透镜

CaF2 基质/窗口/透镜

CaF2 窗口是一种由结晶氟化钙制成的光学窗口。这种窗口用途广泛,对环境稳定,抗激光损伤,在 200 纳米到约 7 μm 范围内具有稳定的高透射率。

高纯铟(In)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯铟(In)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您在寻找用于实验室的高品质铟材料吗?不用再找了!我们的专长在于生产不同纯度、形状和尺寸的定制铟材料。我们提供各种铟产品,以满足您的独特需求。立即订购,价格合理!

聚四氟乙烯导电玻璃基板清洁架

聚四氟乙烯导电玻璃基板清洁架

聚四氟乙烯导电玻璃基片清洗架用作方形太阳能电池硅晶片的载体,以确保在清洗过程中高效、无污染地处理。

氟化锶 (SrF2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氟化锶 (SrF2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找氟化锶 (SrF2) 材料?不用再找了!我们提供各种规格和纯度的材料,包括溅射靶材、涂层等。现在订购,价格合理。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

氟化钇 (YF3) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氟化钇 (YF3) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您正在寻找用于实验室的高品质氟化钇(YF3)材料吗?我们实惠的价格和生产定制形状和尺寸的专业知识使我们成为您的理想选择。立即选购溅射靶材、涂层材料、粉末等。

氟化钐 (SmF3) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氟化钐 (SmF3) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找高质量的氟化钐 (SmF3) 材料?别再犹豫了!我们为您量身定制了各种纯度、形状和尺寸的解决方案,以满足您的独特需求。现在就联系我们!