溅射是一种复杂的镀膜技术，与其他沉积方法相比具有众多优势。
使用溅射技术镀膜的 5 大优势是什么？
1.涂层均匀耐用
溅射可产生稳定的等离子体，从而使沉积更加均匀。
这种均匀性可产生一致且耐用的涂层。
这对太阳能电池板、建筑玻璃、微电子、航空航天、平板显示器和汽车等应用尤其有利，因为在这些应用中，均匀耐用的涂层至关重要。
2.纯净、精确的原子级薄膜沉积
溅射需要以极高的动能轰击粒子以产生气体等离子体。
这种高能量传递可以沉积出纯净、精确的原子级薄膜。
这种精度优于传统的热能技术，后者无法达到同样的精度水平。
由轰击粒子的能量转移、靶原子和离子的相对质量以及靶原子的表面结合能控制的溅射产率，可以精确设定溅射涂层的厚度。
3.与原材料浓度相似
溅射的独特优势之一是沉积薄膜的浓度与原材料相似。
这是由于溅射的产量取决于物质的原子量。
虽然各成分的溅射速度不同，但表面气化现象会优先使表面富含剩余成分的原子，从而有效补偿溅射速度的差异。
这使得沉积的薄膜具有与原材料相似的浓度。
4.更好的薄膜致密性和更低的残余应力
溅射是一种更清洁的沉积工艺，可实现更好的薄膜致密化，并减少基底上的残余应力。
这是因为沉积是在低温或中温条件下进行的。
应力和沉积速率也由功率和压力控制，从而实现对工艺的精确控制。
5.高沉积速率
溅射可实现高沉积速率，且不受厚度限制。
但是，它无法精确控制薄膜厚度。
这与蒸发技术形成鲜明对比，后者沉积速率高，但附着力较低，薄膜对气体的吸收较少。
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