扫描电子显微镜中的溅射镀膜是指在不导电或导电性差的试样上镀上一层超薄导电金属。
这一过程对于防止试样带电和提高 SEM 成像的信噪比至关重要。
涂层厚度通常为 2-20 纳米，采用的技术包括产生金属等离子体并将其沉积到样品上。
了解 SEM 中溅射镀膜的 5 个要点
1.溅射镀膜的目的
溅射涂层主要用于解决扫描电子显微镜中的试样充电问题。
非导电材料暴露在电子束下会积累静电场，从而使图像失真并损坏样品。
通过涂上导电层（如金、铂或其合金），电荷就会消散，从而确保图像清晰、不失真。
2.技术和工艺
溅射镀膜工艺包括通过辉光放电产生金属等离子体，离子轰击阴极侵蚀材料。
然后，溅射的原子沉积到样品上，形成一层薄薄的导电膜。
这一过程受到严格控制，以确保均匀一致的涂层，通常使用自动化设备来保持高精度和高质量。
3.SEM 成像的优势
除了防止充电，溅射涂层还能增强样品表面的二次电子发射。
二次电子产量的增加可提高信噪比，从而获得更清晰、更细致的图像。
此外，导电涂层还能传导电子束产生的热量，有助于减少对样品的热损伤。
4.使用的金属类型
溅射镀膜常用的金属包括金（Au）、金/钯（Au/Pd）、铂（Pt）、银（Ag）、铬（Cr）和铱（Ir）。
金属的选择取决于样品的特性和 SEM 分析的具体要求等因素。
5.涂层厚度
溅射薄膜的厚度至关重要，通常为 2 至 20 纳米。
太薄的薄膜可能无法充分防止充电，而太厚的薄膜又会遮盖样品表面的细节。
因此，要获得最佳的扫描电子显微镜成像效果，实现适当的平衡至关重要。
总之，溅射镀膜是 SEM 扫描仪处理不导电或导电性差的样品的重要准备步骤，可通过防止带电和改善信噪比来提高成像质量。
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