薄膜沉积部件
电子枪束坩埚 蒸发用电子枪束坩埚
货号 : KES01
价格根据 规格和定制情况变动
- 材料
- 钽/钼/钨
- 规格
- 4 毫升 / 7 毫升 / 15 毫升 / 25 毫升 / 40 毫升
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应用
电子枪产生强大的电子束，该电子束被定向到坩埚上。电子加热坩埚中的材料，直到它变成原子或分子团。然后可以将该云沉积到表面上以形成薄膜。在电子枪束蒸发中，坩埚就像一个盛装和加热待沉积材料的容器。它由能够承受高温而不熔化的特殊材料制成。它们有助于将热量集中在正在蒸发的材料上。
主要用于以下方面：
- 薄膜沉积：广泛应用于电子束蒸发等薄膜沉积技术、电子器件薄膜生产、光学涂层和材料表面改性。
- 半导体行业：互连线、欧姆接触和扩散阻挡层的薄金属膜沉积。
- 光学和光电子学：用于各种光学器件的光学涂层、抗反射涂层和镜片。
详情与部件
技术规格
| 产品 | 钼/钨坩埚 | 氮化硼坩埚/导电氮化硼坩埚 | 石墨坩埚/涂层石墨坩埚 | 热解石墨涂层坩埚 | 镍坩埚 | 钛坩埚 | 铜坩埚 | 氧化铝坩埚 |
| 规格 | 4CC / 7CC / 15CC / 25CC / 40CC | 4CC / 7CC / 15CC / 25CC / 40CC | 4CC / 7CC / 15CC / 25CC / 40CC | 4CC / 7CC | 4CC | 4CC | 4CC / 2CC / 40CC | 4CC |
我们展示的坩埚有不同尺寸可供选择，也可根据要求定制尺寸。
优点
- 更高的蒸发速率。
- 提高热稳定性；均匀加热。
- 减少传递到坩埚的热量；良好的隔热性能。
- 能够快速更换材料，最大限度地减少腔室停机时间。
- 真空兼容性；高纯度薄膜。
- 通用性；支持多种材料。
- 最大限度地减少坩埚损坏和维护。
- 这些优点使电子枪束坩埚成为薄膜沉积过程中重要的工具，为各行各业和研究领域提供精确的控制、高沉积速率和高质量的薄膜。
FAQ
什么是热蒸发源？
热蒸发与电子束蒸发的比较。
热蒸发源的主要类型有哪些？
热蒸发源是如何工作的？
蒸发坩埚常用的材料有哪些？
使用热蒸发源有哪些优势？
使用蒸发坩埚有哪些优势？
热蒸发源有哪些应用？
应如何处理和维护蒸发坩埚？
4.8 / 5
The Electron Gun Beam Crucible is a reliable product that delivers consistent results. It is made from high-quality materials and is built to last.
4.9 / 5
The Electron Gun Beam Crucible's efficiency in melting and modifying materials is remarkable. It is a crucial tool in our lab's research and production processes.
4.7 / 5
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4.8 / 5
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4.8 / 5
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