薄膜沉积部件
电子枪光束坩埚
货号 : KES01
价格根据 规格和定制情况变动
- 材料
- 钽/钼/钨
- 规格
- 4 毫升 / 7 毫升 / 15 毫升 / 25 毫升 / 40 毫升
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应用
电子枪产生的强大电子束射向坩埚。电子加热坩埚中的材料，直至其变成原子或分子团。在电子枪电子束蒸发过程中，坩埚就像一个容器，用来盛放和加热要沉积的材料。坩埚由特殊材料制成，可承受高温而不会熔化。它们有助于将热量集中在正在蒸发的材料上。
它主要用于以下用途：
- 薄膜沉积：广泛应用于薄膜沉积技术，如电子束蒸发、电子设备薄膜生产、光学镀膜和材料表面改性。
- 半导体工业：沉积金属薄膜作为互连器件、欧姆触点和扩散屏障。
- 光学和光电子学：用于各种光学设备的光学镀膜、抗反射镀膜和反射镜。
细节与零件
技术规格
| 产品 | 钼/钨坩埚 | 氮化硼坩埚/导电氮化硼坩埚 | 石墨坩埚/涂层石墨坩埚 | 热解石墨涂层坩埚 | 镍坩埚 | 钛坩埚 | 铜坩埚 | 氧化铝坩埚 |
| 规格 | 4 毫升 / 7 毫升 / 15 毫升 / 25 毫升 / 40 毫升 | 4cc / 7cc / 15cc / 25cc / 40cc | 4cc / 7cc / 15cc / 25cc / 40cc | 4CC / 7CC | 4CC | 4CC | 4cc / 2cc / 40cc | 4CC |
我们展示的坩埚有不同尺寸，也可根据要求定制尺寸。
优势
- 蒸发率更高。
- 提高热稳定性；加热均匀。
- 减少传到坩埚的热量；良好的隔热性能。
- 可快速更换材料，最大限度地减少炉室停机时间。
- 真空兼容性；高纯度膜。
- 多功能性；支持多种材料。
- 最大限度地减少坩埚损坏和维护。
- 这些优势使电子枪束坩埚成为薄膜沉积过程中的重要工具，为各行业和研究领域提供精确控制、高沉积率和高质量的薄膜。
FAQ
什么是热蒸发源？
热蒸发与电子束蒸发的比较。
热蒸发源的主要类型有哪些？
热蒸发源是如何工作的？
蒸发坩埚常用的材料有哪些？
使用热蒸发源有哪些优势？
使用蒸发坩埚有哪些优势？
热蒸发源有哪些应用？
应如何处理和维护蒸发坩埚？
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