知识 EDS 和 XRF 有什么区别?
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 1周前

EDS 和 XRF 有什么区别?

能量色散光谱法(EDS)和 X 射线荧光法(XRF)的区别主要在于它们的应用、检测方法和分析范围。EDS 用于微区成分分析,通常与电子显微镜联用,分析极小区域(通常在 1 μm 范围内)的元素成分。它的工作原理是在真空中用电子束轰击样品,激发发射特征 X 射线,这些 X 射线可用于识别和量化元素周期表中从 B 到 U 的元素。EDS 特别适用于定性和半定量分析,对于中等原子序数的元素,其检测限为 0.1%-0.5%,定量误差约为 2%。

另一方面,XRF 是一种非破坏性检测方法,用于对材料进行批量分析。它利用辐射激发样品中的原子,使其发射出所含元素特有的二次 X 射线。然后对这些二次 X 射线进行检测和分析,以确定样品的元素组成。XRF 能够在不损坏样品的情况下提供几乎完整的化学成分,因此被广泛应用于材料科学、地质学和环境分析等各个领域。XRF 还可进一步分为能量色散 XRF (ED-XRF) 和波长色散 XRF (WD-XRF),后者的分辨率更高,但更为复杂和昂贵。

总之,EDS 适用于详细的微观分析,通常与电子显微镜结合使用,侧重于非常小的区域并提供详细的元素分析。而 XRF 则适用于对较大的样品进行更广泛的无损分析,为各行各业提供全面的元素组成数据。

了解 KINTEK SOLUTION 先进分析工具的精确性和多功能性!无论您是利用我们的 EDS 系统深入研究微区分析的细微复杂性,还是利用 XRF 技术寻求对大宗材料的全面了解,我们的尖端解决方案都能提升您的研发水平。让我们成为您值得信赖的合作伙伴,帮助您揭开材料成分的秘密。现在就与 KINTEK SOLUTION 联系,释放您分析项目的全部潜能!

相关产品

X 射线衍射仪样品架/X 射线衍射仪粉末载玻片

X 射线衍射仪样品架/X 射线衍射仪粉末载玻片

X 射线粉末衍射 (XRD) 是一种快速识别晶体材料并确定其单胞尺寸的技术。

30T / 40T / 60T 全自动实验室 XRF 和 KBR 压粒机

30T / 40T / 60T 全自动实验室 XRF 和 KBR 压粒机

使用 KinTek 自动实验室压丸机快速、轻松地制备 X 射线样品颗粒。X 射线荧光分析功能多样,结果准确。

XRF 和 KBR 钢环实验室粉末颗粒压制模具

XRF 和 KBR 钢环实验室粉末颗粒压制模具

使用我们的钢环实验室粉末颗粒压制模具生产完美的 XRF 样品。成型速度快,尺寸可定制,每次都能准确成型。

XRF 和 KBR 塑料环实验室粉末颗粒压制模具

XRF 和 KBR 塑料环实验室粉末颗粒压制模具

使用我们的塑料环形实验室粉末颗粒压制模具获得精确的 XRF 样品。成型速度快,尺寸可定制,每次都能完美成型。

XRD X 射线衍射研磨机

XRD X 射线衍射研磨机

KT-XRD180 是一款微型台式多功能卧式研磨机,专门用于 X 射线衍射 (XRD) 分析的样品制备。

用于 XRF 和 KBR 的电动液压颗粒机 20T / 30T / 40T / 60T

用于 XRF 和 KBR 的电动液压颗粒机 20T / 30T / 40T / 60T

使用电动液压机高效制备样品。它结构紧凑、便于携带,非常适合实验室使用,可在真空环境中工作。

XRF 硼酸实验室粉末颗粒压制模具

XRF 硼酸实验室粉末颗粒压制模具

使用我们的 XRF 硼酸实验室粉末颗粒压制模具可获得准确的结果。非常适合用于制备 X 射线荧光光谱分析的样品。可定制尺寸。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

氟化铒 (ErF3) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氟化铒 (ErF3) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

选购不同纯度、形状和尺寸的实验室用氟化铒 (ErF3) 材料。我们的产品包括溅射靶材、涂层材料、粉末等。立即浏览!

旋转盘电极/旋转环盘电极 (RRDE)

旋转盘电极/旋转环盘电极 (RRDE)

我们的旋转盘和环形电极可提升您的电化学研究水平。耐腐蚀,可根据您的特定需求定制,规格齐全。

高纯度铕(Eu)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯度铕(Eu)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找高质量的铕(Eu)材料?看看我们为您量身定制的各种纯度、形状和尺寸的经济实惠的选择。从一系列溅射靶材、涂层材料、粉末等中进行选择。


留下您的留言