产品 实验室耗材和材料 精细陶瓷 碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片
碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

精细陶瓷

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

货号 : KM-DG02

价格根据 规格和定制情况变动


材料
碳化硅
规格
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应用

耐磨碳化硅板/RBSiC/SiSiC 碳化硅板由高纯度碳化硅和超细粉组成,经振动成型和高温烧结而成,具有良好的高温导热性和承载能力。其制造工艺成本低廉,操作简单,使用方便。它们易于安装,可无缝集成到各种系统中。反应结合碳化硅(RBSiC)板的壁较薄,设计节省空间,可有效利用熔炉或应用空间。与氧化铝陶瓷和聚氨酯相比,这种板的使用寿命更长,确保了耐用性。它们可以定制成多孔、有边或多边形,以满足特定要求。

  • 日用陶瓷:氮化硅板用于生产卫生洁具、电瓷和其他日用陶瓷。
  • 工业炉:因其耐高温和抗热震性,可用于工业炉。
  • 烟气脱硫:氮化硅板用于烟气脱硫工艺,可承受高温和腐蚀性环境。
  • 汽车和机械:由于其耐磨性和耐用性,这些板材被用于汽车工业、水泵、锅炉和机械。
  • 冶金和化工行业:由于其耐腐蚀性和耐高温性,可用于冶金加工和化工行业。
  • 航空航天和军事:氮化硅板具有高强度和热性能,因此可用于航空航天和军事领域。

细节与零件

碳化硅耐磨板详情 1碳化硅耐磨板细节 2碳化硅耐磨板细节 2碳化硅耐磨板详情 3

技术规格

圆形 15*3mm 40*40*1 毫米 50*50*4/5/6 毫米 100*100*5 毫米 150*150*5 毫米
5*5*1mm 40*40*2 毫米 50*50*8/10 毫米 100*100*7 毫米 15*15*1毫米(单面抛光)
10*10*4 毫米 50*50*1 毫米 50*50*14 毫米 100*100*10 毫米 50*50*1毫米(单面抛光)
20*20*3 毫米 50*50*2 毫米 100*100*3 毫米 100*100*15 毫米
20*20*5 毫米 50*50*3 毫米 100*100*4 毫米 100*100*20 毫米

我们展示的产品有不同尺寸,也可根据要求定制尺寸。

项目 装置 真空烧结碳化硅 反应结合碳化硅
密度 克/立方厘米 >3.12 3.05-3.08
表面粗糙度 微米 0.6 0.6-0.8
硬度 硬度 >115 >110
表观孔隙率 % <0.2 <0.3
抗压强度 兆帕 >2500 >2500
抗弯强度 兆帕 >380 >350
游离硅含量 % <1 <10
纯度(碳化硅含量) % ≥99 ≥90
弹性模量 GPa 410 400
导热系数 cal/cm.s.℃ 0.3 0.32
热膨胀系数 i/℃ 4.2×10^6 4×10^6
工作温度 1400 1300

优点

  • 良好的耐温性:氮化硅板可承受的温度范围很广,从 -50°C 到 1350°C。
  • 表面光滑:陶瓷表面光滑、耐脏、防尘。
  • 高强度、高硬度:氮化硅板具有优异的机械性能,包括高强度、高硬度和高耐磨性。
  • 抗热震性:具有良好的抗热震性,可在高温环境下快速加热和冷却。
  • 耐腐蚀性和抗氧化性:氮化硅板具有耐腐蚀、抗氧化的特点,适用于各种恶劣环境。
  • 良好的导热性:导热系数高,有利于高效传热。
  • 节能:氮化硅板超薄,堆积密度高,可节约能源。

FAQ

什么是工程陶瓷?

工程陶瓷是针对特定机械、热、电和化学特性而设计的先进陶瓷材料。它们可用于在极端条件下要求高性能的应用。

什么是先进陶瓷?

先进陶瓷是具有高强度、耐高温和优异导电性等增强特性的专用陶瓷材料。由于其独特的特性,它们被广泛应用于各行各业。

工程陶瓷的主要类型有哪些?

工程陶瓷的主要类型包括氧化铝(Al₂O₃)、氧化锆(ZrO₂)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si₃N₄)和氮化硼(BN)。每种陶瓷都具有适合不同应用的独特性能。

先进陶瓷的主要类型有哪些?

先进陶瓷的主要类型包括氧化铝(Al₂O₃)、氧化锆(ZrO₂)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si₃N₄)、氮化铝(AlN)和氮化硼(BN)。每种类型都有适合不同应用的特定性能。

什么是射频 PECVD?

RF PECVD 是射频等离子体增强化学气相沉积的缩写,是一种在低压化学气相沉积过程中,利用辉光放电等离子体影响工艺,在基底上制备多晶薄膜的技术。射频 PECVD 方法已在标准硅集成电路技术中得到广泛应用,该技术通常使用平面晶片作为基底。这种方法的优势在于薄膜制造成本低,沉积效率高。材料也可以沉积为分级折射率薄膜或具有不同特性的纳米薄膜堆。

工程陶瓷有哪些应用?

工程陶瓷广泛应用于航空航天、汽车、电子和冶金等行业。应用领域包括耐磨部件、高温部件、电绝缘材料和散热器。

先进陶瓷的应用领域有哪些?

先进陶瓷广泛应用于航空航天、汽车、电子、医疗设备和工业机械等领域。它们在极端环境(包括高温和腐蚀性条件)下的高性能表现备受推崇。

射频 PECVD 如何工作?

射频 PECVD 的工作原理是在真空室中产生等离子体。将前驱体气体引入真空室,然后施加射频功率以产生电场。该电场导致前驱体气体电离,形成等离子体。等离子体中含有可与基底表面发生化学反应的活性物质,从而形成薄膜沉积。射频功率还有助于控制等离子体的能量,从而更好地控制薄膜的特性,如成分、均匀性和附着力。可以调整气体流速、压力和射频功率等工艺参数,以优化薄膜沉积工艺。

工程陶瓷与传统陶瓷有何不同?

工程陶瓷专为特定的高性能应用而设计,具有卓越的机械强度、耐热性和化学稳定性。传统陶瓷通常用于装饰和家居用途。

如何制造先进陶瓷?

先进陶瓷通常通过烧结、热压或等静压等工艺制造。这些方法可确保形成致密、均匀的结构,并具有所需的机械和热性能。

射频 PECVD 有哪些优势?

射频 PECVD 在薄膜沉积方面具有多项优势。首先,它可以沉积高质量的薄膜,并对薄膜特性(如厚度、成分和均匀性)进行出色的控制。等离子体的使用提高了工艺的反应性,与传统的热 CVD 方法相比,能在更低的温度下沉积薄膜。射频 PECVD 还具有更好的阶跃覆盖率,可以沉积出高宽比结构的薄膜。另一个优势是能够沉积多种材料,包括氮化硅、二氧化硅、非晶硅和其他各种薄膜材料。该工艺具有高度可扩展性,可轻松集成到现有制造工艺中。此外,与其他薄膜沉积技术相比,射频 PECVD 是一种相对经济有效的方法。

使用氧化铝陶瓷有哪些优势?

氧化铝陶瓷以其高硬度、耐磨性和出色的电绝缘性而著称。它们还具有良好的导热性和化学稳定性,因此适合高温应用。

使用先进陶瓷有哪些优势?

先进陶瓷的优点包括高硬度、耐磨性、优异的热绝缘性和电绝缘性、耐高温性和化学稳定性。这些特性使它们成为高要求应用的理想选择。

为什么在某些应用中首选氧化锆陶瓷?

氧化锆陶瓷因其高强度、韧性和抗热震性而受到青睐。它们通常用于要求在高应力和高温条件下具有耐久性和可靠性的应用中。

氧化铝陶瓷和氧化锆陶瓷有什么区别?

氧化铝陶瓷以其良好的导电性、机械强度和耐高温性著称。而氧化锆陶瓷则具有高强度、高韧性和出色的耐磨性。

碳化硅陶瓷为何适合高温应用?

碳化硅陶瓷具有出色的导热性和高温稳定性,因此非常适合用于熔炉、热交换器和其他高温环境。

碳化硅陶瓷为何用于高温应用?

碳化硅(SiC)陶瓷因其高强度、低密度和出色的耐高温性能而被用于高温应用领域。它们还具有耐化学腐蚀性,因此适用于恶劣环境。

氮化硼陶瓷如何用于电子产品?

氮化硼陶瓷因其出色的电绝缘性和导热性而被用于电子产品中。它们有助于电子元件散热,防止过热并提高性能。

氮化硼陶瓷有何独特之处?

氮化硼(BN)陶瓷因其高熔点、高硬度、高导热性和高电阻率而独树一帜。它们的晶体结构与石墨烯相似,比金刚石更坚硬,因此适用于高性能应用。

工程陶瓷的制造工艺是什么?

工程陶瓷通常通过烧结、热压或化学气相沉积等工艺制造。这些工艺可确保形成致密、坚固和耐用的陶瓷材料。

先进陶瓷如何提高能源效率?

先进陶瓷能在能源生产和转换过程中提供耐高温和腐蚀性环境的材料,有助于提高能源效率。它们有助于减少能源损耗,提高系统的整体效率。

工程陶瓷能否针对特定应用进行定制?

是的,工程陶瓷可以定制,以满足特定的应用要求。这包括定制其形状、尺寸和材料成分,以实现所需的机械、热或电气性能。
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