实验室材料
高纯硼（B）溅射靶材/粉/丝/块/粒
货号 : LM-B
价格根据 规格和定制情况变动
- 化学式
- b
- 纯度
- 2N-3N
- 形状
- 圆盘/金属丝/块/粉末/板/柱靶/阶梯靶/定制
运输:
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我们销售价格合理的实验室用硼（B）材料，并专门根据您的特定需求进行定制。
我们的硼（B）材料具有不同的纯度、形状和尺寸，包括溅射靶材（圆形、方形、管状、不规则形）、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉体、线棒、锭和块。
主要产品
- 纯度为 99-99.9% 的硼溅射靶材有标准尺寸，如 φ25.4×3mm、φ50×5mm、φ76.2×4mm 和 φ100×3mm，也可根据客户要求定制。这些靶材用于磁控溅射镀膜。
- 纯度为 99-99.9% 的硼颗粒尺寸从 1-3mm 到 3-5mm，也可根据客户要求定制。这些颗粒广泛用于合金冶炼和钢铁工业。
- 纯度为 99-99.9% 的硼粉的标准粒度为 -300 目至 325 目，也可根据客户要求定制。这种粉末广泛用于粉末冶金烧结和靶材生产。
详细信息
关于硼 (B)
硼是一种用途广泛的元素，其独特的性质使其在广泛的应用中具有重要价值。硼的能带隙为 1.50 至 1.56 eV，高于硅或锗。硼的光学特性包括可透过部分红外线。
硼在室温下是不良导体，但在高温下则成为良导体。无定形硼可用于烟火照明弹，使其呈现独特的绿色，也可用于火箭的点火器。硼酸是一种重要的硼化合物，主要用于纺织产品。
硼化合物广泛用于制造硼硅玻璃。高纯度（99.999%）氧化硼（B2O3）粉末和高纯度（99.999%）硼（B）溅射靶材是两种常用的硼化合物。
同位素硼-10 被广泛应用于各行各业。它可用作核反应堆的控制装置、核辐射屏蔽以及用于探测中子的仪器。氮化硼具有非凡的特性，可用于制造硬度与金刚石相当的材料。氮化硼还具有电绝缘体的特性，但导热性能却与金属相同。
硼有多种形态，纯度从 99% 到 99.999%（ACS 级到超高纯度）不等。元素形式包括颗粒、棒材、线材和用于蒸发源材料的颗粒。氧化硼有粉末状和致密颗粒状，可用于光学镀膜和薄膜等用途。
氟化硼是一种不溶于水的氟化源，适用于冶金、化学和物理气相沉积以及某些光学镀膜等不需要氧气的用途。硼还有氯化物和醋酸盐等可溶形式。这些化合物可以按照指定的化学计量学方法制成溶液。
成分质量控制
- 原材料成分分析
- 通过使用ICP和 GDMS，对金属杂质含量进行检测分析，确保符合纯度标准；
非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。 - 金相探伤分析
- 使用探伤设备对靶材进行检验，确保产品内部无缺陷、缩孔；
通过金相检测，分析靶材内部晶粒组织，确保晶粒细小、致密。 - 外观尺寸检查
- 产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量，确保符合图纸；
使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。
传统溅射靶材尺寸
- 准备过程
- 热等静压 压制、真空熔炼等
- 溅射靶材形状
- 平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
- 圆形溅射靶材尺寸
- 直径：25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度： 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。 - 方形溅射靶材尺寸
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm，尺寸可定制
可用的金属形式
金属形式细节
我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属，范围广泛形式和纯度，以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求，例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供，但并不详尽。 如果您需要实验室耗材，请联系我们直接索取报价。
- 平面/平面形式：板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
- 预成型形状：阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
- 微型尺寸：珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
- 宏观尺寸：钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
- 多孔和半多孔：织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
- 纳米级：纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
- 其他：浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本
KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)，在某些情况下，高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择，包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计，以满足严格的要求 高科技应用，非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。
包装
我们的高纯度材料采用真空包装，每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如，我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签，以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。
FAQ
什么是高纯度材料？
什么是溅射靶材？
如何制造溅射靶材？
溅射靶材有哪些用途？
什么是电子溅射靶材？
溅射靶材的使用寿命有多长？
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KINTEK Solution's boron materials are of exceptional quality and provide consistent results. Highly recommended for lab applications.
4.8
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4.9
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Excellent customer service and prompt delivery. KINTEK Solution has been a reliable partner for our laboratory's sputtering needs.
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