薄膜沉积部件
用于薄膜沉积的钨蒸发舟
货号 : LMF-TEB
价格根据 规格和定制情况变动
- 厚度
- 0.2-0.5 毫米
- 宽度
- 7-25 毫米
- 长度
- 50-100 毫米
- 形状
- 圆底/平底/蝴蝶形/可定制
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钨舟是过渡金属钨的典型产品。这些船也称为蒸发或涂层钨舟。99.95% 的高钨含量赋予这些船与金属钨非常相似的物理和化学性质。
钨舟具有高密度、高熔点、高强度、高硬度，以及低蒸发率、低蒸汽压和良好的耐磨性，使其成为高温环境的理想选择。有不同类型的钨舟用于不同目的，例如冲压、折叠、焊接和铆接船。在实际应用过程中，其尺寸也是一个重要考虑因素。
钨舟广泛应用于真空镀膜行业或真空退火行业，用于各种应用，如金电镀、蒸发器、成像控制镜、加热容器、电子束喷涂、家用电器、消费电子产品、半导体和装饰品。然而，需要注意的是，这些船的薄壁厚度和高温工作环境可能导致变形，船壁向内弯曲。在严重变形的情况下，产品可能无法继续使用。
技术规格
| 型号 | 厚度 (mm) | 宽度 (mm) | 长度 (mm) | 形状 |
| #207 | 0.2 | 7 | 100 | 圆形底部 / 平底 / 蝴蝶形 / 可定制 |
| #215 | 0.2 | 15 | 100 | |
| #308 | 0.3 | 8 | 100 | |
| #310 | 0.3 | 10 | 100 | |
| #315 | 0.3 | 15 | 100 | |
| #413 | 0.4 | 13 | 50 | |
| #525 | 0.5 | 25 | 78 |
我们提供标准尺寸和定制尺寸的蒸发舟，并可根据客户图纸加工铆接和焊接的船。除了钨舟和钼舟，我们还生产和供应各种产品，如用于镀膜的钨和钼坩埚、高温钼坩埚和盒子、TZM舟和盒子等。
详情
FAQ
什么是钨舟？
使用钨舟有哪些优势？
什么是物理气相沉积（PVD）？
什么是热蒸发源？
什么是磁控溅射？
热蒸发源的主要类型有哪些？
用于沉积薄膜的方法有哪些？
为什么选择磁控溅射？
热蒸发源是如何工作的？
什么是薄膜沉积设备？
使用蒸发舟有哪些优势？
用于薄膜沉积的材料有哪些？
薄膜沉积通常使用金属、氧化物和化合物作为材料，每种材料都有其独特的优缺点。金属因其耐用性和易于沉积而受到青睐，但价格相对昂贵。氧化物非常耐用，可耐高温，并可在低温下沉积，但可能比较脆，难以操作。化合物具有强度和耐久性，可在低温下沉积，并可定制以显示特定性能。
薄膜涂层材料的选择取决于应用要求。金属是热传导和电传导的理想材料，而氧化物则能有效提供保护。可根据具体需求定制化合物。最终，特定项目的最佳材料将取决于应用的具体需求。
使用热蒸发源有哪些优势？
什么是薄膜沉积技术？
蒸发舟的典型使用寿命是多久？
实现最佳薄膜沉积的方法有哪些？
要获得具有理想特性的薄膜，高质量的溅射靶材和蒸发材料至关重要。
溅射靶材或蒸发材料的纯度起着至关重要的作用，因为杂质会导致生成的薄膜出现缺陷。晶粒大小也会影响薄膜的质量，晶粒越大，薄膜的性能越差。
要获得最高质量的溅射靶材和蒸发材料，选择纯度高、晶粒度小、表面光滑的材料至关重要。
薄膜沉积的用途
氧化锌薄膜
氧化锌薄膜可应用于热学、光学、磁学和电气等多个行业，但其主要用途是涂层和半导体器件。
磁性薄膜
磁性薄膜是电子、数据存储、射频识别、微波设备、显示器、电路板和光电子技术的关键元件。
光学薄膜
光学镀膜和光电子技术是光学薄膜的标准应用。分子束外延可以生产光电薄膜设备（半导体），外延薄膜是一个原子一个原子地沉积到基底上的。
聚合物薄膜
聚合物薄膜可用于存储芯片、太阳能电池和电子设备。化学沉积技术（CVD）可精确控制聚合物薄膜涂层，包括一致性和涂层厚度。
薄膜电池
薄膜电池为植入式医疗设备等电子设备提供动力，由于薄膜的使用，锂离子电池的发展突飞猛进。
薄膜涂层
薄膜涂层可增强各行业和技术领域目标材料的化学和机械特性。
薄膜太阳能电池
薄膜太阳能电池对于太阳能产业至关重要，它可以生产相对廉价的清洁电力。光伏系统和热能是两种主要的适用技术。
热蒸发源有哪些应用？
使用薄膜沉积设备有哪些优势？
蒸发舟可以重复使用吗？
影响薄膜沉积的因素和参数
沉积速率：
薄膜的生成速率（通常以厚度除以时间来衡量）对于选择适合应用的技术至关重要。对于薄膜而言，适度的沉积速率就足够了，而对于厚膜而言，快速沉积速率则是必要的。在速度和精确薄膜厚度控制之间取得平衡非常重要。
均匀性：
薄膜在基底上的一致性称为均匀性，通常指薄膜厚度，但也可能与折射率等其他属性有关。
填充能力：
填充能力或台阶覆盖率是指沉积工艺对基底形貌的覆盖程度。所使用的沉积方法（如 CVD、PVD、IBD 或 ALD）对台阶覆盖率和填充有重大影响。
薄膜特性：
薄膜的特性取决于应用要求，可分为光子、光学、电子、机械或化学要求。大多数薄膜必须满足一个以上类别的要求。
制程温度：
薄膜特性受制程温度的影响很大，这可能受到应用的限制。
损坏：
每种沉积技术都有可能损坏沉积在其上的材料，而较小的特征更容易受到制程损坏。污染、紫外线辐射和离子轰击都是潜在的损坏源。了解材料和工具的局限性至关重要。
选择薄膜沉积设备时应考虑哪些因素？
如何选择合适的蒸发舟材料？
操作薄膜沉积设备有哪些安全注意事项？
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Excellent quality tungsten evaporation boat. Very durable and has lasted me a long time.
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