实验室培育钻石因其质量和可持续性而越来越受欢迎。
制造实验室钻石的主要方法有两种：高压高温（HPHT）和化学气相沉积（CVD）。
5 种主要方法说明
1.高压高温（HPHT）法
高压高温法模仿钻石在地球深处形成的自然条件。
这一过程包括使用大型机器对碳源施加极高的压力和温度。
压力超过每平方英寸 87 万磅，温度在 1300 至 1600 摄氏度之间。
这种方法最初开发于 20 世纪 50 年代初，经过不断改进，最终生产出宝石级钻石。
此外，高温高压技术还可用于提高钻石的颜色，使其变成无色、粉色、绿色、蓝色或黄色等各种颜色。
2.化学气相沉积（CVD）法
化学气相沉积法是另一种广泛用于制造实验室培育钻石的技术。
它是利用碳氢化合物气体混合物来生长钻石。
与 HPHT 不同，CVD 不需要高压；通常在 27 kPa 以下的压力下生长。
该过程包括将混合气体加热到 700°C 至 1300°C 的温度，使分子分离并将碳原子逐层沉积到基底上。
这种方法可以灵活控制金刚石的特性，包括尺寸和纯度。
CVD 金刚石可在各种基底上大面积生长，是一种多用途、高效率的方法。
3.HPHT 和 CVD 方法的优点
这两种方法各有优势，可根据实验室培育钻石所需的特性进行选择。
HPHT 非常适合生产彩色钻石，而且更为传统。
CVD 在钻石生长方面具有更大的控制性和灵活性，因此适用于广泛的应用领域。
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