石墨烯的制造过程看似复杂，但有一种方法最为简单有效：化学气相沉积法（CVD）。
5 个要点说明
1.什么是化学气相沉积（CVD）？
化学气相沉积是一种用于在基底（通常是铜或镍等金属箔）上生长石墨烯薄膜的方法。
2.CVD 如何工作？
该过程需要仔细控制反应腔内的温度和气体成分。从而在基底表面形成石墨烯薄膜。
3.为什么青睐 CVD？
CVD 是首选，因为它可以生产出高质量、大面积的石墨烯，这对于电子、储能和其他领域的应用至关重要。
4.CVD 工艺详解
CVD 使用在高温下分解的气态前驱体。分解后的碳原子在基底表面结合形成石墨烯。铜因其成本低廉且能促进单层石墨烯的生长而常用作基底。
5.CVD 相对于其他方法的优势
虽然存在液相剥离和受控升华碳化硅等其他方法，但这些方法存在产量低、成本高或无法生产大面积石墨烯等局限性。另一方面，CVD 具有可扩展性和成本效益，是研究和商业应用的理想选择。
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