XRF 辐射源是 XRF 光谱仪内的 X 射线源或 X 射线管。该源产生的 X 射线射向被分析的样品。当这些 X 射线与样品发生相互作用时，会导致样品中的原子射出内部电子。这一过程会发射出二次 X 射线，即 X 射线荧光，然后对其进行检测和分析，以确定样品的元素组成。
解释：
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X 射线源产生： XRF 光谱仪利用 X 射线源（通常是 X 射线管）产生 X 射线。这些 X 射线是在管内的阴极和阳极之间施加高压时产生的，高压导致电子加速并与阳极碰撞，在碰撞时产生 X 射线。
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与样品相互作用： 当来自辐射源的 X 射线撞击样品时，它们会与样品中的原子相互作用，超过内部电子壳的结合能。这种相互作用会导致电子从这些外壳中射出，从而产生空位。
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发射 X 射线荧光： 为了恢复稳定，原子会经历一个过程，来自高能级的电子会下降以填补被弹出的电子产生的空位。在这一转变过程中，能量以 X 射线荧光的形式释放出来。这些荧光 X 射线的能量与电子的初始态和最终态之间的能级差异相对应，这是特定元素的特征。
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检测和分析： 发射的 X 射线荧光由光谱仪的探测器检测。探测器测量这些 X 射线的能量和强度，然后生成光谱。该光谱会显示与样品中存在的元素相对应的能量峰，从而进行元素分析。
准确可靠：
XRF 分析的准确性在很大程度上取决于 X 射线源的质量和探测器的精度。现代 XRF 光谱仪在灵敏度和稳定性方面有了显著提高，从而减少了源这一重要误差因素。目前，样品制备是最主要的误差来源，这就强调了高质量样品制备技术对获得可靠分析结果的重要性。
- XRF 光谱仪的类型：能量色散 XRF (ED-XRF)：
- 这类光谱仪较为简单，可同时收集多种元素的信号，分辨率范围为 150 eV 至 600 eV。波长色散 XRF (WD-XRF)：
这些仪器更为复杂和昂贵，一次收集一个信号，分辨率更高，从 5 eV 到 20 eV 不等，因此适用于更详细、更精确的元素分析。
总之，XRF 光谱仪中的 XRF 辐射源是 X 射线管，它产生的 X 射线与样品相互作用产生 X 射线荧光，通过检测和分析这些荧光 X 射线实现元素分析。
