使用溅射系统沉积铝 (Al) 时通常使用的载气是氩气 (Ar)。氩气通常用作溅射室中的溅射气体,在溅射室中产生等离子体,轰击铝等目标材料,将材料的原子喷射到真空中。然后,铝靶上的原子沉积到基底上,形成铝薄膜。氩气是首选的载气,因为它是惰性气体,不会与目标材料发生化学反应。此外,氩气的原子量与铝接近,可在溅射过程中实现有效的动量传递。
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