在实验室培育的钻石中发现的内含物可能包括氢痕迹、助熔金属、石墨和独特的结构模式。这些内含物与天然钻石中的内含物截然不同，是实验室培育钻石的不同方法（如化学气相沉积法（CVD）和高压高温法（HPHT））造成的。
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氢痕迹:使用化学气相沉积法生产的实验室培育钻石通常含有微量氢。这是因为 CVD 工艺涉及将甲烷等富碳气体分解成氢原子和碳原子。这些氢的痕迹通常不会在天然钻石中发现，是 CVD 制作钻石的一个显著特征。
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助熔金属包裹体:HPHT 合成钻石经常出现熔剂金属包裹体，在透射光下呈黑色，不透明，但在反射光下具有金属光泽。这些包裹体通常由镍铁（Ni-Fe）组成，有时可能具有磁性。这是 HPHT 钻石的特征，在天然钻石中很少见。
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石墨包裹体:CVD 生长的合成钻石通常含有深色石墨包裹体或其他矿物包裹体。这些内含物是 CVD 独特生长过程的结果，与金属内含物的不同之处在于它们没有金属光泽。石墨内含物是 CVD 钻石特有的，天然钻石或 HPHT 钻石中通常不会有。
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独特的结构模式:实验室培育的钻石，无论是 CVD 还是 HPHT，都会呈现出天然钻石所没有的独特结构形态。例如，CVD 钻石往往会呈现带状应变图案，这是科学家用来区分它们与 HPHT 钻石的独特标志。相比之下，HPHT 钻石由于生长在均匀的压力环境中，不会显示任何应变图案。
这些内含物和结构图案是区分实验室培育钻石和天然钻石的关键。它们是实验室培育钻石在受控和特定条件下生产的直接结果，而形成天然钻石的自然过程则是多变和不受控制的。
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