溅射靶材是各种科学和工业应用中的重要部件。
其制造过程错综复杂，取决于靶材的特性及其预期用途。
以下是制造溅射靶材的七个关键过程：
1.真空熔炼和铸造
该工艺涉及在真空中熔化原材料，以防止污染。
然后将熔融材料浇铸成所需形状。
这种方法非常适合熔点较高或具有反应性的材料。
真空环境可确保材料纯净无杂质。
2.热压和冷压烧结法
热压是指在高温下压制粉末状材料，然后进行烧结。
冷压是指在低温下压制，然后烧结。
烧结将压制材料加热到熔点以下，使颗粒粘合在一起，形成一个固体。
这种技术对于用难以铸造的材料制造致密坚固的目标非常有效。
3.特殊压制烧结工艺
这是压制和烧结方法的定制变体。
它专为需要精确控制压制和烧结条件的材料而设计。
该工艺可确保靶材具有有效溅射所需的特性。
4.形状和尺寸的制造
溅射靶材可制成各种形状，如圆形或矩形。
但是，单个靶件的尺寸有一定限制。
在这种情况下，就需要生产多块靶材。
这些部分通过对接或斜角接头连接在一起，形成一个用于溅射的连续表面。
5.质量控制
每个生产批次都要经过严格的分析过程。
这可确保靶材符合最高质量标准。
每次装运都会提供一份分析证书，详细说明材料的特性和成分。
6.硅溅射靶材
这些靶材由硅锭溅射而成。
制造过程包括电镀、溅射和气相沉积。
为达到所需的表面条件，通常还会采用额外的清洁和蚀刻工艺。
这可确保靶材具有高反射性，粗糙度小于 500 埃。
7.整体制造过程
溅射靶材的制造是一个复杂的过程。
它需要根据材料的特性和预期应用，仔细选择合适的制造方法。
目标是生产出纯净、致密、形状和尺寸正确的靶材，以促进薄膜的有效溅射和沉积。
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