溅射靶材的厚度会因使用的材料和所生成薄膜的性质而有所不同。
对于镍等磁性材料的磁控溅射，需要使用较薄的靶材，通常是厚度小于 1 毫米的箔片或薄片。
对于普通金属靶材，厚度达到 4 至 5 毫米是可以接受的。这同样适用于氧化物靶材。
溅射靶材的尺寸和形状也有很大差异。最小的靶材直径可能小于一英寸（2.5 厘米），而最大的矩形靶材长度可能超过一码（0.9 米）。在某些情况下，可能需要更大的靶材，制造商可以制造出用特殊接头连接的分段靶材。
常用的溅射靶材形状为圆形和矩形，但也可以生产其他形状的靶材，如正方形和三角形设计。
圆形靶材的标准尺寸从直径 1 英寸到 20 英寸不等，矩形靶材的长度可达到或超过 2000 毫米，具体取决于金属以及是单件还是多件结构。
溅射靶材的制造方法取决于靶材的特性及其应用。可采用真空熔炼和轧制、热压、特殊冲压烧结工艺、真空热压和锻造等方法。
溅射靶材通常是由纯金属、合金或氧化物或氮化物等化合物制成的固体板材。通过溅射沉积的涂层厚度通常在埃到微米之间。薄膜可以是单一材料，也可以是分层结构中的多种材料。
反应溅射是另一种工艺，在这种工艺中，非惰性气体（如氧气）与元素目标材料结合使用，产生化学反应，形成新的化合物薄膜。
总之，溅射靶材的厚度因材料和应用而异，从磁性材料的不到 1 毫米到普通金属和氧化物靶材的 4 至 5 毫米不等。溅射靶材的尺寸和形状也有很大差异，圆形靶材的直径从 1 英寸到 20 英寸不等，矩形靶材的长度可达或超过 2000 毫米。
您正在为您的实验室寻找高质量的溅射靶材吗？KINTEK 是您的最佳选择！我们提供各种不同厚度、尺寸和形状的靶材，以满足您的特定需求。无论您需要的是磁控溅射用的薄靶材，还是大型设备用的较大分段靶材，我们都能满足您的需求。选择 KINTEK 满足您所有的溅射靶材需求。立即联系我们，了解更多信息！
