扫描电子显微镜的溅射涂层厚度通常为 2 到 20 纳米 (nm)。这种超薄涂层用于非导电或导电性差的试样,以防止充电并提高成像时的信噪比。金属(如金、银、铂或铬)的选择取决于样品的具体要求和分析类型。
详细说明:
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溅射镀膜的目的:
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溅射涂层对扫描电子显微镜至关重要,因为它能在不导电或导电性差的样品上形成导电层。这种涂层有助于防止静态电场的积累,因为静态电场会使图像失真或损坏样品。此外,它还能增加二次电子的发射,从而提高 SEM 图像的质量。厚度范围
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用于 SEM 的溅射薄膜厚度通常在 2 到 20 nm 之间。选择这个范围是为了确保涂层足够薄,不会遮挡样品的细节,但又足够厚,以提供足够的导电性。对于低倍扫描电子显微镜,10-20 纳米的涂层就足够了,不会影响成像。不过,对于分辨率小于 5 纳米的高倍率扫描电镜,最好使用较薄的涂层(低至 1 纳米),以避免遮挡样品细节。
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涂层材料类型:
溅射涂层的常用材料包括金、银、铂和铬。根据样品和分析类型的不同,每种材料都有其特定的优点。例如,金因其出色的导电性而经常被使用,而铂则可能因其耐用性而被选用。在某些情况下,碳涂层是首选,尤其是在 X 射线光谱和电子反向散射衍射 (EBSD) 中,金属涂层可能会干扰对样品晶粒结构的分析。
设备和技术: