知识 如何制作溅射靶材:实现高质量薄膜沉积的 5 个基本步骤
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

如何制作溅射靶材:实现高质量薄膜沉积的 5 个基本步骤

制作溅射靶材涉及几个关键步骤和注意事项。

制作过程主要取决于靶材的材料特性和预期用途。

根据靶材是由金属、陶瓷还是其他材料制成,制作方法也会有很大不同。

以下是制作过程的详细分解:

高质量薄膜沉积的 5 个基本步骤

如何制作溅射靶材:实现高质量薄膜沉积的 5 个基本步骤

1.材料选择和形状

材料:溅射靶材可由多种材料制成,包括金属、陶瓷甚至塑料。

常见的例子包括钼和硅。

形状和尺寸:靶材通常为圆形或长方形,也可以是正方形或三角形。

较大的目标可能需要分段建造,以克服技术限制。

2.制造工艺

真空熔化和轧制:这种方法用于金属,以确保纯度和均匀性。

金属在真空中熔化以避免污染,然后轧制成所需形状。

热压:这种方法是在压力下加热材料,使其形成目标形状。

对于其他方法难以成型的材料,这种方法尤其有用。

烧结:将粉末状材料压实并加热,形成固体块。

这种方法适用于陶瓷和某些金属。

真空热压和锻造:这些先进的方法可确保最终产品的高密度和高强度。

3.质量控制和分析

分析过程:每个生产批次都要经过严格的测试,以确保其符合质量标准。

这包括检查纯度、密度和其他关键属性。

分析证书:每批货物都附有一份分析证书,详细说明这些测试的结果。

4.特定应用注意事项

直流和射频溅射:根据目标是导电的还是绝缘的,采用不同的溅射技术(直流磁控溅射用于金属,射频溅射用于氧化物)。

表面条件:为达到所需的表面粗糙度和反射率,可能需要额外的清洁和蚀刻过程。

5.分段式靶材

多分段结构:对于较大的靶材,单个分段通过对接或斜角接头连接在一起,以确保均匀的溅射性能。

通过精心选择材料和采用适当的制造技术,可以生产出符合各种工业应用严格要求的溅射靶材。

这确保了高质量的薄膜沉积。

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