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电子束（E-beam）蒸发中的电子束用于在真空环境中加热和汽化样品。
电子束由灯丝产生。
电场和磁场用于将电子束精确地转向源材料。
2.能量转移和汽化
这将提高材料的温度。
这使得它们以蒸汽的形式离开表面。3.蒸发和沉积气化的原子或分子以热能（小于 1 eV）穿过真空室。它们不受其他粒子的干扰，确保在工作距离为 300 毫米至 1 米的基底上进行 "视线 "沉积。
在电子枪光束蒸发中，坩埚是一种容器或源支架，用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。
电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能，常用于电子束蒸发工艺。
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用于高温应用的容器，可将材料保持在极高温度下蒸发，从而在基底上沉积薄膜。
这些坩埚充当电子蒸发束蒸发出的金材料的容器，同时精确引导电子束以实现精确沉积。
用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚，具有高温和热循环性能。
它可用于各种金属和合金的气相沉积。大多数金属都能完全蒸发而不损失。蒸发筐可重复使用1。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
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它具有很高的熔点、导热性和导电性以及耐腐蚀性。它是高温、真空和其他行业的重要材料。
用于镀金、镀银、镀铂、镀钯，适用于少量薄膜材料。减少薄膜材料的浪费，降低散热。
蒸发舟源用于热蒸发系统，适用于沉积各种金属、合金和材料。蒸发舟源有不同厚度的钨、钽和钼，以确保与各种电源兼容。作为一种容器，它可用于材料的真空蒸发。它们可用于各种材料的薄膜沉积，或设计成与电子束制造等技术兼容。
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
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