旋转管式炉是一种在热处理过程中会旋转的圆形炉子。它广泛应用于各行各业，设计用于加热松散材料以进行理化处理。这些炉子的特点是内衬耐火材料的金属鼓，并根据其热交换方法和能量传递方法进行分类。旋转管式炉可由陶瓷、石英或高温合金制成，温度范围很广。它们适用于生产氧化铝、蛭石、铁矿球团和水泥熟料等材料，也适用于氧化和煅烧过程。
旋转管式炉
货号 : KT-RFTF
货号 : KT-RKTF
货号 : KT-MRTF
货号 : GF-08
货号 : GF-07
货号 : GF-05
货号 : GF-04
货号 : GF-01
货号 : KT-CRTF
货号 : KT-TF12
货号 : KT-RTF
货号 : KT-PE16
货号 : KT-VTF
货号 : KT-RTP
货号 : KT-MTF
货号 : KT-TF17
货号 : KT-TF14
货号 : KT-17M
货号 : KT-14M
货号 : KT-18M
货号 : KM-C01
货号 : KM-C06
我们拥有适合各种应用的最佳旋转管式炉解决方案。我们的窑炉可承受高温，并提供完整的过程控制，从而生产出高质量的产品。凭借定制的旋转速度和梯度、完全可编程的操作以及在空气、氧气和惰性气氛中进行加工的选项，您可以相信我们的旋转管式炉将超出您的预期。在 KINTEK，我们提供定制设计服务，几乎可以满足客户的任何要求。
旋转管式炉的应用
- 氧化铝和铁矿石球团等材料的制造。
- 煅烧需要连续吞吐的材料和松散材料。
- 材料氧化。
- 粉末加工，以尽量减少材料处理量。
- 材料干燥
- 煅烧材料，同时保持其各自的颗粒特性。
- 对材料进行热处理，以改善其性能。
- 烧结材料，使粉末状物质形成固体。
- 退火，以降低材料的硬度并增加其延展性。
- 还原金属氧化物以生产金属。
旋转管式炉可提供完整的过程控制，从而生产出高质量的产品。它们可以承受高温，并能在短时间内提供高效的热传递。旋转管式炉可根据个人要求进行定制，如温度控制、工作空间大小、停留时间、管子旋转速度、管子倾斜角度、温度曲线、气氛流速、粉末床深度和进料速度。
旋转管式炉的优点
- 改善气体扩散，减少气体消耗
- 提高热处理效率
- 稳定的温度曲线可提高产品的均匀性
- 可在短时间内高效传热，并可连续运行成批材料
- 最大限度地减少材料处理量，尤其是在粉末加工过程中
- 定制设计，以满足特定要求，如温度控制、工作空间大小、停留时间、管道旋转率、管道倾斜角度、温度曲线、气氛流速、粉末床层深度和进料速度等
- 适用于实验室各种物理化学加工应用的多功能工具
- 可在受控气氛中同时对材料进行加热和混合
- 配备进料器和惰性气体包等附加功能，可优化加工条件
- 可调节转速、倾斜度和加热区，以微调炉子性能
- 适用于研究和开发应用，包括材料科学、地质学、矿石的气体还原、催化剂和颜料的合成、油页岩的煅烧以及陶瓷中稀土金属的掺杂
- 提供出色的温度均匀性，实现高质量和稳定的材料加工。
我们的旋转管式炉是生产各种材料和应用（如煅烧和氧化）的绝佳解决方案。它的持续工作温度高达 1700°C，采用碳化硅或二硅化钼加热元件进行加热，可提供完整的过程控制和高质量的产品。我们的窑炉采用完全可编程的操作方式，配有完全集成的控制面板、定制的旋转速度和梯度。它可以在空气、氧气和惰性气氛中进行加工。此外，我们还提供针对特定要求的定制设计服务，这使得我们的窑炉在价格和定制方面都具有优势。
FAQ
什么是转管炉？
转管炉是一种在热处理过程中旋转的圆形炉子。其设计目的是加热松散材料进行理化处理，并用于连续材料加工。这种炉子的特点是有一个内衬耐火材料的金属圆筒，圆筒以一定角度安装，可以在其工作区燃烧粉末、固体、气体或液体燃料。转管炉应用广泛，包括氧化铝、蛭石、铁矿石球团和水泥熟料等材料的生产，以及氧化和煅烧过程。
转管炉如何工作？
转管炉是一种在热处理过程中旋转的圆形炉子。它燃烧燃料，产生的加热气体流向样品。该炉的特点是内衬耐火材料的金属圆筒呈一定角度安装。松散材料被加热后进行生化处理，热量从热源传递到盛放样品的旋转管。旋转管式炉专为连续材料加工而设计，具有多个热控制区。它们应用广泛，包括氧化铝、蛭石、铁矿石球团和水泥熟料的生产。
转管炉有哪些优点？
转管炉的优点包括改善气体扩散、减少气体消耗、提高热处理效率和改善产品均匀性。这种炉子可在短时间内有效传热，并可连续运行成批材料。旋转管式炉可根据具体要求进行定制设计，包括温度控制、工作空间大小、停留时间、管子旋转速度和气氛流速。在为旋转管式炉选择管子时，需要考虑的要点包括旋转速度、材料量、管子直径、悬挂长度和管子厚度。
转管炉的功能是什么？
转管炉的功能是加热松散材料，以便进行理化处理。旋转管式炉的特点是通过一个旋转管来固定样品，并在多个热控制区内进行加热。燃料燃烧产生的加热气体通过炉子流向样品。旋转管式炉可用于制造氧化铝、蛭石、铁矿球团和水泥熟料等材料，也可用于氧化和煅烧过程。这些窑炉可以由陶瓷、石英或高温合金制成，并可根据不同的应用场合设定较宽的温度范围。
请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关文章
影响磁控溅射薄膜附着力的因素
深入分析影响磁控溅射技术制备的薄膜附着力的关键因素。
阅读更多
了解和预防磁控溅射靶材中毒
讨论磁控溅射中的靶材中毒现象、其原因、影响和预防措施。
阅读更多
各种电源对溅射薄膜形态的影响
本文讨论不同电源如何影响溅射薄膜层的形态，重点是直流、PDC 和射频电源。
阅读更多
磁控溅射中陶瓷靶中心区域的严重烧蚀分析
本文讨论了磁控溅射过程中陶瓷靶中心区域严重烧蚀的原因和解决方案。
阅读更多
控制磁控溅射镀膜的膜厚公差
讨论确保磁控溅射涂层薄膜厚度公差的方法，以优化材料性能。
阅读更多
电子束蒸发涂层：优缺点与应用
深入了解电子束蒸发涂层的优缺点及其在工业中的各种应用。
阅读更多
使用交流电源沉积 TiN 薄膜的挑战与解决方案
讨论了在交流电源下生长 TiN 薄膜的困难，并提出了直流溅射和脉冲直流等解决方案。
阅读更多
PVD 涂层工艺综合概览
深入了解 PVD 涂层工艺的原理、类型、气体应用和实际用途。
阅读更多
薄膜系统设计：原理、考虑因素和实际应用
深入探讨薄膜系统的设计原理、技术考虑因素以及在各个领域的实际应用。
阅读更多
磁控溅射中的问题：为什么会出现辉光但没有沉积薄膜
分析导致磁控溅射中发光却不沉积薄膜的因素。
阅读更多
影响磁控溅射均匀性的因素
讨论影响磁控溅射薄膜沉积均匀性的关键因素，包括设备参数、溅射功率、气体压力、磁场配置、基片特性等。
阅读更多
在磁控溅射中使用铼靶实现辉光放电所面临的挑战
探讨铼靶在磁控溅射过程中难以发光的原因，并提出优化建议。
阅读更多
影响磁控溅射过程中溅射效果的参数
影响磁控溅射中溅射效果的关键参数，包括气压、功率、靶距、基片类型等。
阅读更多
磁控溅射法制备锆钛酸铅（PZT）薄膜层的注意事项
使用磁控溅射法制备 PZT 薄膜层的指南和注意事项。
阅读更多
磁控溅射中的偏置电源类型及其用途
概述磁控溅射中的偏置电源类型及其在提高薄膜附着力和密度方面的作用。
阅读更多
了解薄膜制备中直流、中频和射频溅射的区别和用途
本文介绍了直流、中频和射频溅射技术在薄膜制备中的区别和应用。
阅读更多
磁控溅射镀膜过程中的靶材火花：原因与解决方案
解释磁控溅射过程中靶材产生火花的原因，并提供防止火花产生的解决方案。
阅读更多
了解溅射沉积技术
深入了解溅射沉积技术及其机制、类型和应用。
阅读更多
化学气相沉积（CVD）薄膜沉积技术
概述 CVD 技术及其原理、类型、应用、工艺特点和优势。
阅读更多
半导体制造中的薄膜沉积工艺
概述薄膜沉积技术，重点介绍半导体制造中的化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）工艺。
阅读更多