知识 XRF 的基本概念是什么?5 大要点解析
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

XRF 的基本概念是什么?5 大要点解析

X 射线荧光 (XRF) 是一种非破坏性分析技术,用于确定材料的元素组成。

它的工作原理是,当材料暴露在高能 X 射线下时,材料中的原子会被激发,并发射出具有元素特征的特定能量的二次(或荧光)X 射线。

然后对这些发射的 X 射线进行分析,以确定材料中的元素及其浓度。

5 个要点说明

XRF 的基本概念是什么?5 大要点解析

1.激发原子

当样品暴露在高能 X 射线下时,样品中的原子会吸收这些 X 射线的能量。

这种能量足以将原子的内壳电子射出。

这一过程被称为激发。

2.发射荧光 X 射线

电子被激发后,原子处于不稳定状态。

为了恢复到稳定状态,一个来自更高能级的电子会填补被射出电子留下的空位。

两个能级之间的能量差以荧光 X 射线的形式释放出来。

每种元素都有一套独特的能级,因此发射的 X 射线是样品中特定元素的特征。

3.检测和分析

发射的荧光 X 射线由 XRF 光谱仪检测。

测量这些 X 射线的能量,由于每种元素都以特定的能量发射 X 射线,因此可以确定样品中存在的元素。

还可以测量发射的 X 射线的强度,从而确定样品中每种元素的浓度。

4.非破坏性分析

XRF 的一大优势是它是一种非破坏性技术。

这意味着可以在不改变或破坏样品的情况下对其进行分析,这对于贵重或稀有材料尤其有用。

5.样品制备

虽然 XRF 在样品制备方面相对宽松,但这对获得准确的结果仍然至关重要。

固体样品需要一个平整、干净的表面进行测量,而粉末样品通常需要均质化并压制成颗粒。

液体样品也可以直接进行分析。

正确的样品制备可确保 X 射线与样品均匀互动,从而获得可靠、可重复的结果。

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