靶材的溅射产率是指每个入射离子从靶材中射出原子的平均数量。这一产量取决于多个因素，包括离子的动能和质量、靶原子的质量、表面原子的结合能、离子的入射角以及离子撞击靶的能量。
影响溅射产率的因素：
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离子的动能和质量： 溅射产率随入射离子的能量和质量而增加。从靶上射出原子需要一个最小能量阈值（通常为 30-50 eV）。在此阈值之上，产量最初会迅速增加，但随后会随着离子能量的增加而趋于平稳，这是因为能量较高的离子会将能量沉积到靶的更深处，从而降低了表面的效率。
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目标原子的质量： 离子和靶原子的质量比会影响动量传递。对于轻质靶原子，当靶原子和离子的质量大致相等时，就能达到最大产率。然而，随着靶原子质量的增加，最佳质量比会转向质量更高的离子。
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表面原子的结合能： 靶材料原子间的结合能也起着至关重要的作用。较高的结合能需要更多的能量来驱散原子，因此会影响溅射产量。
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入射角度： 离子撞击靶材表面的角度会极大地影响溅射产率。通常情况下，陡峭的角度可以提高产量，因为能量可以更直接地传递到表面原子。
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其他因素： 磁场（磁控溅射）、等离子气体压力和特定溅射技术（如离子束、反应溅射）等其他因素也会影响溅射成品率。
实践中的溅射成品率：
在溅射沉积等实际应用中，溅射产率至关重要，因为它直接影响沉积率。根据目标材料和溅射工艺条件的不同，产率会有很大差异。例如，在离子能量为 600 eV 时，不同的材料会表现出不同的溅射产率，这受到上述因素的影响。结论
溅射产率是一个复杂的参数，由入射离子与目标材料的相互作用决定。了解和控制这些相互作用对于优化各种工业和研究应用中的溅射过程至关重要。
