MPCVD
微波等离子体化学气相沉积MPCVD设备系统反应器，用于实验室和金刚石生长
货号 : KTMP315
价格根据 规格和定制情况变动
- 微波功率
- 微波频率2450±15MHZ
- 输出功率
- 1～10KW连续可调
- 微波泄漏
- ≤2MW/cm2
- 输出波导接口
- WR340, 430配FD-340, 430标准法兰
- 样品台
- 样品台直径≥70mm，有效使用面积≥64 mm
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
为什么选择我们
可靠的合作伙伴简易的订购流程、优质的产品和专业的支持，助力您的业务成功。
MPCVD代表微波等离子体化学气相沉积。它在实验室中使用碳气和微波等离子体生长高质量的金刚石薄膜。
MPCVD系统
MPCVD是一种使用真空室、微波发生器和气体输送系统将薄膜沉积到基板上的系统。等离子体在磁控管或速调管产生的2.45 GHz微波的作用下在腔体内产生。气体输送系统配有以sccm为单位校准的MFC，用于控制气体流量。基板温度由等离子体控制，并通过热电偶测量。等离子体加热基板，并在沉积过程中监测温度。
应用
MPCVD在以低成本生产大尺寸、高质量金刚石方面显示出巨大潜力。
金刚石独特的性能，如硬度、刚度、高导热性、低热膨胀系数、抗辐射性和化学惰性，使其成为一种有价值的材料。然而，天然和合成高压高温金刚石的高成本、有限的尺寸以及难以控制的杂质限制了其应用。
MPCVD是生长金刚石宝石和薄膜的主要设备，这些金刚石和薄膜可以是单晶或多晶。半导体行业广泛使用金刚石薄膜生长技术，用于大尺寸金刚石基板以及金刚石切割或钻孔工具行业。
与实验室生长金刚石的高压高温（HPHT）方法相比，微波化学气相沉积（MPCVD）方法在低成本大尺寸金刚石生长方面具有优势，是半导体金刚石、光学金刚石生长和大型珠宝金刚石市场的理想解决方案。
MPCVD的优点
MPCVD是一种优于HFCVD和DC-PJ CVD的金刚石合成方法。它避免了污染，并允许使用多种气体。它提供平滑的微波功率调节和稳定的温度控制，避免了晶种丢失。MPCVD由于具有大而稳定的等离子体区域，在工业应用方面前景广阔。
MPCVD比HPHT能耗更低，生产出更纯净的金刚石。它还能够生产更大的金刚石。
我们的MPCVD系统的优势
我们多年来深耕行业，因此拥有庞大且信赖我们设备客户群。我们的MPCVD设备已稳定运行超过40,000小时，展现出卓越的稳定性、可靠性、可重复性和成本效益。我们MPCVD系统的更多优势包括：
- 3英寸基板生长区域，最大批次负载可达45颗金刚石
- 1-10千瓦可调输出微波功率，降低电力消耗
- 经验丰富的研发团队，提供前沿的金刚石生长配方支持
- 为零金刚石生长经验的团队提供独家技术支持计划
通过利用我们积累的先进技术，我们对MPCVD系统进行了多轮升级和改进，显著提高了效率并降低了设备成本。因此，我们的MPCVD设备技术处于领先地位，并以具有竞争力的价格提供。欢迎咨询。
工作流程
MPCVD设备在引入反应气体（如CH4、H2、Ar、O2、N2等）到腔体并在特定压力下稳定后，控制各气体路径的流量和腔体压力。稳定气流后，6KW固态微波发生器产生微波，并通过波导导入腔体。
反应气体在微波场下转化为等离子体状态，形成一个悬浮在金刚石基板上方的等离子体球。等离子体的高温将基板加热到特定温度。腔体内产生的多余热量由水冷单元散发。
为了确保MPCVD单晶金刚石生长过程中的最佳生长条件，我们调整功率、气源成分和腔体压力等因素。此外，由于等离子体球不接触腔壁，金刚石生长过程不受杂质污染，从而提高了金刚石的质量。
细节与部件
微波系统
反应腔
气体流量系统
真空与传感器系统
技术规格
| 微波系统 |
|
| 反应腔 |
|
| 样品台 |
|
| 气体流量系统 |
|
| 冷却系统 |
|
| 温度传感器 |
|
| 控制系统 |
|
| 可选功能 |
|
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
KinTek为全球客户提供深度定制服务和设备，我们专业的团队和经验丰富的工程师有能力承担定制硬件和软件设备的需求，并帮助我们的客户 打造专属个性化设备和解决方案！
请将您的想法告诉我们，我们的工程师已经为您准备好了！
FAQ
什么是 CVD 金刚石设备？
有哪些类型的金刚石生长机？
CVD 的基本原理是什么？
CVD 金刚石设备如何工作？
实验室培育钻石有哪些优势？
有哪些不同类型的 CVD 方法？
使用 CVD 金刚石设备有哪些优势？
CVD 生长机的价格是多少？
使用化学气相沉积设备有哪些优势？
选择 CVD 金刚石设备时应考虑哪些因素？
化学气相沉积设备有哪些应用？
CVD 金刚石设备生产的金刚石有哪些常见应用？
选择化学气相沉积设备时应考虑哪些因素？
化学气相沉积机能否用于多层薄膜沉积？
4.7
out of
5
The speed of delivery was great, and the equipment arrived in perfect condition. It's been a pleasure working with KINTEK SOLUTION.
4.8
out of
5
The value for money is unbeatable. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price.
4.9
out of
5
The quality of the equipment is top-notch. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods.
4.9
out of
5
The durability of the equipment is exceptional. It's built to last and withstand the rigors of daily use in a lab setting.
4.8
out of
5
The technological advancement of the equipment is impressive. KINTEK SOLUTION is always at the forefront of innovation, providing cutting-edge solutions.
4.7
out of
5
The speed of delivery was exceptional. The equipment arrived well before the estimated delivery date.
4.9
out of
5
The value for money is outstanding. The equipment is worth every penny, and it's clear that KINTEK SOLUTION cares about providing customers with a great deal.
4.8
out of
5
The quality of the equipment is superb. It's evident that KINTEK SOLUTION uses only the highest quality materials and construction methods.
4.7
out of
5
The durability of the equipment is remarkable. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting and shows no signs of wear or tear.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is groundbreaking. KINTEK SOLUTION is always pushing the boundaries of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.
4.8
out of
5
The speed of delivery was lightning fast. The equipment arrived within days of placing the order, which was incredibly convenient.
4.9
out of
5
The value for money is exceptional. The equipment is incredibly affordable, especially considering the high quality and advanced features it offers.
4.7
out of
5
The quality of the equipment is impeccable. It's clear that KINTEK SOLUTION takes pride in their craftsmanship, and the equipment is built to the highest standards.
4.8
out of
5
The durability of the equipment is outstanding. It's built to last, and I'm confident that it will provide years of reliable service.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is awe-inspiring. KINTEK SOLUTION is at the forefront of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to pushing the boundaries of technology.
4.8
out of
5
The speed of delivery was commendable. The equipment arrived within the promised timeframe, which allowed us to start using it right away.
4.9
out of
5
The value for money is unbeatable. The equipment is incredibly affordable, especially considering the advanced features and high quality it offers.
4.7
out of
5
The quality of the equipment is exceptional. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods, resulting in a durable and reliable product.
4.8
out of
5
The durability of the equipment is impressive. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting, and I'm confident that it will last for many years to come.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is remarkable. KINTEK SOLUTION is constantly innovating and pushing the boundaries of technology, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
高效分体式真空站CVD炉，便于样品检查和快速冷却。最高温度1200℃，配备精确的MFC质量流量计控制。
RF PECVD 系统 射频等离子体增强化学气相沉积 RF PECVD
RF-PECVD 是“射频等离子体增强化学气相沉积”的缩写。它在锗和硅衬底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。它用于 3-12 微米的红外波长范围。
隆重推出我们的倾斜旋转PECVD炉，可实现精确的薄膜沉积。享受自动匹配源、PID可编程温度控制和高精度MFC质量流量计控制。内置安全功能，让您安心无忧。
纳米金刚石复合涂层拉丝模具以硬质合金（WC-Co）为基材，采用化学气相沉积法（简称CVD法）在模具内孔表面涂覆常规金刚石和纳米金刚石复合涂层。
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。非常适合 LED、功率半导体、MEMS 等。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
使用我们的真空熔炼旋转系统，轻松开发亚稳态材料。非常适合非晶和微晶材料的研究和实验工作。立即订购，获得有效结果。
相关文章
如何利用 MPCVD 实现高质量单晶金刚石
微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）是生产高质量单晶金刚石的常用技术。
用 MPCVD 机器制造 CVD 金刚石的过程
CVD 金刚石设备在各行各业和科学研究中发挥着重要作用。
用于大尺寸单晶金刚石的 MPCVD 系统的进步
MPCVD 系统的进步使得生产更大、更高质量的单晶金刚石成为可能，为未来的应用提供了广阔的前景。
用于生长碳纳米管的 CVD 炉
化学气相沉积（CVD）炉技术是一种广泛应用的碳纳米管生长方法。
等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)：综合指南
了解有关等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 的所有知识，这是一种用于半导体行业的薄膜沉积技术。探索其原理、应用和优势。
了解 PECVD：等离子体增强化学气相沉积指南
PECVD 是一种制造薄膜涂层的有用技术，因为它可以沉积包括氧化物、氮化物和碳化物在内的多种材料。
化学气相沉积（CVD）简介
化学气相沉积（CVD）是一种使用气态反应物生产高质量薄膜和涂层的涂层工艺。
用于薄膜沉积的 CVD 设备
化学气相沉积（CVD）是一种广泛应用于在各种基底上沉积薄膜的技术。
MPCVD 综合指南》：金刚石合成与应用
探索微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD) 在金刚石合成中的基本原理、优势和应用。了解它的独特功能以及与其他金刚石生长方法的比较。
MPCVD 机器新手指南
微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）是一种利用微波产生的等离子体将材料薄膜沉积到基底上的工艺。
化学气相沉积（CVD）的优缺点
化学气相沉积（CVD）是一种广泛应用于各行各业的多功能薄膜沉积技术。探索其优点、缺点和潜在的新应用。
用于软物质的低功耗、低温解决方案--PECVD 炉
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）炉已成为在软物质表面沉积薄膜的常用解决方案。