CVD 和 PECVD 炉
倾斜旋转等离子体增强化学气相沉积 PECVD 设备管式炉
货号 : KT-PED
价格根据 规格和定制情况变动
- 样品台加热温度
- ≤800℃
- 气体吹扫通道
- 4 通道
- 真空室尺寸
- Φ500mm × 550 mm
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引言
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种真空薄膜沉积工艺，它利用蒸气或气体作为前驱体来形成涂层。PECVD 是化学气相沉积（CVD）的一个变种，它使用等离子体而不是热量来激活源气体或蒸气。由于可以避免高温，因此可能的基材范围扩大到低熔点材料——在某些情况下甚至是塑料。此外，可以沉积的涂层材料范围也随之扩大。PECVD 用于沉积各种材料，包括电介质、半导体、金属和绝缘体。PECVD 涂层广泛应用于太阳能电池、平板显示器和微电子等领域。
应用
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）涂层机为各种行业和应用提供了多功能解决方案：
- LED 照明：为发光二极管（LED）沉积高质量的电介质和半导体薄膜。
- 功率半导体：在功率半导体器件中形成绝缘层、栅氧化层和其他关键组件。
- MEMS：为微机电系统（MEMS），如传感器和执行器，制造薄膜。
- 光学涂层：沉积抗反射涂层、光学滤波器和其他光学元件。
- 薄膜太阳能电池：为太阳能电池器件生产非晶硅和微晶硅薄膜。
- 表面改性：增强表面性能，如耐腐蚀性、耐磨性和生物相容性。
- 纳米技术：合成纳米材料，包括纳米颗粒、纳米线和薄膜。
特点
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）涂层机具有众多优势，可提高生产力并提供卓越的成果：
- 低温沉积：能够在远低于传统 CVD 方法的温度下形成高质量薄膜，适用于易损基材。
- 高沉积速率：通过快速沉积薄膜来最大化效率，缩短生产时间并提高产量。
- 均匀且抗开裂的薄膜：确保一致的薄膜性能，并最大限度地减少开裂风险，从而获得可靠耐用的涂层。
- 与基材的优异附着力：在薄膜和基材之间提供牢固的粘合，确保持久的性能并防止分层。
- 多功能涂层能力：允许沉积多种材料，包括 SiO2、SiNx 和 SiOxNy，以满足不同的应用要求。
- 针对复杂几何形状的定制：可适应具有复杂形状的基材，确保均匀涂层和最佳性能。
- 低维护和易于安装：最大限度地减少停机时间并简化设置，提高生产力和成本效益。
技术规格
| 样品架 | 尺寸 | 1-6 英寸 |
| 旋转速度 | 0-20rpm 可调 | |
| 加热温度 | ≤800℃ | |
| 控制精度 | ±0.5℃ SHIMADEN PID 控制器 | |
| 气体净化 | 流量计 | 质量流量控制器 (MFC) |
| 通道 | 4 通道 | |
| 冷却方式 | 循环水冷却 | |
| 真空室 | 腔室尺寸 | Φ500mm X 550mm |
| 观察口 | 带挡板的全视野观察口 | |
| 腔室材料 | 316 不锈钢 | |
| 门类型 | 前开式门 | |
| 盖板材料 | 304 不锈钢 | |
| 真空泵接口 | CF200 法兰 | |
| 气体入口 | φ6 VCR 接头 | |
| 等离子体功率 | 源功率 | 直流电源或射频电源 |
| 耦合方式 | 感应耦合或板式电容耦合 | |
| 输出功率 | 500W—1000W | |
| 偏压功率 | 500v | |
| 真空泵 | 前级泵 | 15L/S 叶轮真空泵 |
| 分子泵接口 | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| 泄压口 | KF25 | |
| 泵速 | 叶轮泵：15L/s，分子泵：1200l/s 或 1600l/s | |
| 真空度 | ≤5×10-5Pa | |
| 真空传感器 | 电离/电阻真空计/薄膜规 | |
| 系统 | 电源 | AC 220V /380 50Hz |
| 额定功率 | 5kW | |
| 尺寸 | 900mm X 820mm X870mm | |
| 重量 | 200kg |
原理
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）利用等离子体在沉积过程中激发化学反应，从而在低温下形成高质量的固体薄膜。通过使用高能等离子体，PECVD 设备提高了反应速率并降低了反应温度。该技术广泛应用于 LED 照明、功率半导体和 MEMS。它允许沉积 SiO2、SiNx、SiOxNy 和其他介质薄膜，以及在复合基材上高速沉积 SiO 厚膜。PECVD 具有优异的成膜质量，可最大限度地减少针孔并减少开裂，使其适用于生产非晶硅和微晶硅薄膜太阳能电池器件。
优点
- 可沉积多种材料：PECVD 可沉积多种材料，包括类金刚石碳、硅化合物和金属氧化物，从而能够创建具有定制性能的薄膜。
- 低温操作：PECVD 在低温下（通常为 300-450°C）运行，适用于对热敏感的基材。
- 高质量薄膜：PECVD 可生产具有卓越均匀性、厚度控制性和抗开裂性的薄膜。
- 优异的附着力：PECVD 沉积的薄膜与基材具有牢固的附着力，确保了耐用性和可靠性。
- 保形涂层：PECVD 能够对复杂几何形状进行涂层，提供均匀的覆盖和保护。
- 高沉积速率：PECVD 提供快速的沉积速率，提高了生产力并缩短了生产时间。
- 低维护：PECVD 系统设计为低维护，最大限度地减少停机时间并最大化正常运行时间。
- 易于安装：PECVD 设备相对容易安装并集成到现有的生产线中。
- 坚固的设计：PECVD 系统采用坚固的设计，确保稳定性和持久的性能。
- 延长使用寿命：PECVD 系统设计寿命长，为长期薄膜沉积需求提供了经济高效的解决方案。
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
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FAQ
什么是 PECVD 方法？
什么是 Mpcvd？
PECVD 有哪些用途？
什么是 MPCVD 设备？
PECVD 有哪些优势？
Mpcvd 有哪些优势？
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
CVD 钻石是真的还是假的？
PECVD 和溅射有什么区别？
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