真空热压炉
真空热压炉
货号 : KT-VHP
价格根据 规格和定制情况变动
- 工作温度
- 1500℃ / 2200℃
- 工作压力
- 10-400T
- 压力距离
- 100-200 毫米
- 真空压力
- 6x10-3Pa
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
简介
真空热压炉是在真空或大气条件下对材料进行加热和加压的成套设备。根据材料和加热温度的不同，加热元件可采用石墨加热器、钼加热器、感应加热等；加压方式可采用单向或双向液压加压。
在高温高压和真空或大气环境下，原料固体颗粒相互粘结，晶粒长大，空隙（气孔）和晶界逐渐减少；通过材料的转移，其总体积缩小，密度增大，成为具有特定显微结构的致密多晶烧结体，从而使材料得以压制成型。
在高温、高压、真空或大气条件下，成品材料的密度、硬度及其他机械、电子和热性能都能得到显著改善。
应用
真空管式热压炉是一种用途广泛、功能强大的工具，适用于各行各业的高温工艺。该炉可在真空或受控气氛下运行，特别适合需要精确温度控制和洁净环境的应用。主要应用领域包括
- 晶体生长：是合成和生长各类晶体的理想选择，这在电子和半导体行业至关重要。
- 热处理：用于金属和合金的热处理，以提高其机械性能，如硬度、延展性和强度。
- 薄膜沉积：在电子设备、太阳能电池和光学涂层的制造过程中，薄膜沉积必不可少。
- 材料科学研究：广泛应用于陶瓷、复合材料和高级合金等新材料的实验室研究。
- 冶金学：有助于金属的提纯和合金化，以及耐火材料的生产。
- 电子制造：对退火、烧结和电子元件生产等工艺至关重要。
- 化学工业：用于高温化学反应和在可控气氛下合成化学品。
- 玻璃制造业：用于生产特种玻璃和通过热处理改变玻璃特性。
- 特种材料生产：用于制造具有独特性能的材料，如用于航空航天和国防的材料。
- 学术和研究机构：大学实验室和研究中心用于先进材料研发的主要设备。
细节与部件
- 双壳体结构，带水冷夹套，内壳由不锈钢制成，经过精细抛光。外壳为经过防锈处理的优质碳钢或经过喷砂处理的不锈钢。
- 加热元件采用石墨或钼丝。加热分为单相加热和三相加热。加热元件的合理设计有助于提高炉腔内温度的均匀性。
- 炉子可通过电气控制系统轻松操作。温度和压力由 PLC 模拟控制器控制，或通过温度和压力可编程控制器自动完成烧结过程。控制系统具有断水、过温和过流等报警和保护功能。
原理
真空管式热压炉的工作原理是在真空或大气环境下对材料进行加热和加压。它利用石墨或钼加热器等加热元件，可进行单向或双向加压。这一过程可粘合原材料颗粒、减少空隙并提高密度，从而形成紧凑的烧结体。该炉专为各行各业设计，可确保精确的热处理和材料烧结。
优势
真空管式热压炉具有众多优点，是各种热处理工艺和应用的上佳选择。以下是一些主要优点：
- 热处理工艺的多样性：该炉支持多种热处理工艺，适用于各种材料和行业。这种多功能性确保它能满足材料加工的各种需求。
- 通过高压气体淬火实现高速循环：窑炉的设计有利于高速循环，这对高效生产至关重要。高压气淬功能增强了冷却过程，从而加快了循环时间，提高了生产率。
- 能源和资源效率：该炉能耗和工艺气体消耗低，既环保又经济。这种效率不仅能降低运营成本，还能最大限度地减少对环境的影响。
- 环保低排放：窑炉的设计确保了工艺气体的低排放，使其成为希望最大限度减少对环境影响的行业的环保选择。
- 简单的模块化设计：窑炉设计简单，易于安装和维护。模块化设计意味着它可以根据具体任务和工厂条件进行安装和调整，从而确保最佳性能。
- 质量保证和可重复的工艺结果：窑炉的设计保证了质量和工艺结果的可重复性，这对于精度和一致性要求极高的行业来说至关重要。
- 预测性维护：预测性维护等先进功能有助于在潜在问题升级之前将其识别出来，确保将停机时间降至最短，并延长设备的使用寿命。
结构介绍
该电炉有石墨加热和电阻丝加热两种方式，适用于金属粉末、无机非金属材料等在真空和 hh 温度下的热压烧结；当然，也可在保护气氛下进行热压烧结。通过这种方式，可以完成材料的致密化，防止变形，并抑制纳米粉体的粒度。
| 规格 |
|
|---|---|
| 炉壳 |
|
| 炉侧 |
|
| 加热元件 |
|
| 保温层 |
|
| 真空系统 |
|
| 电控系统主电路 |
|
功能特点
- 双层 SUS304 不锈钢真空室结构，夹套冷水循环冷却方式保持炉面温度
- 双立柱支撑结构，稳定的液压系统，压力可手动控制或自动控制，压力调节和保持精确
- 先进的保温材料，导热系数低，保温效果好，可有效隔绝热量，降低能耗
- 温度范围广。可选择多种加热元件，如石墨、钼、钨、感应加热等。在合适的保护气氛下，温度可达 2800 ℃，可适应不同材料的热压烧结；
- 多样化的真空系统配置，可根据工艺选择不同的真空度；
- 设有充放气系统，可在真空环境、惰性气氛或还原气氛下进行热压烧结；
- 人性化配置，可实现手动操作和智能操作；
- 一炉多用，可作为简易真空或气氛烧结炉使用；
- 可选功能类型多样化，垂直上出料、垂直侧出料、单向加压、双向加压等。
技术规格
| 工作温度 | 1500℃ / 2200℃ |
|---|---|
| 加热元件 | 钼/石墨 |
| 工作压力 | 10-400T |
| 压力距离 | 100-200 毫米 |
| 真空压力 | 6x10-3Pa |
| 有效工作区直径范围 | 90-600 毫米 |
| 有效工作区域直径范围 | 120-600 毫米 |
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
KinTek为全球客户提供深度定制服务和设备，我们专业的团队和经验丰富的工程师有能力承担定制硬件和软件设备的需求，并帮助我们的客户 打造专属个性化设备和解决方案！
请将您的想法告诉我们，我们的工程师已经为您准备好了！
FAQ
真空炉有哪些用途？
什么是 CVD 炉？
化学气相沉积（CVD）是一种利用加热、等离子体激发或光辐射等各种能源，使气态或气态化学物质在气相或气固界面上发生化学反应，从而在反应器中形成固态沉积物的技术。简单地说，就是将两种或两种以上的气态原料引入反应室，然后相互反应形成新的材料，并沉积在基片表面。
CVD炉是由高温管式炉单元、气体控制单元和真空单元组成的组合炉系统，广泛应用于复合材料制备、微电子工艺、半导体光电、太阳能利用、光纤通信、超导技术、防护涂层等领域的实验和生产。
什么是牙科炉？
什么是实验室压力机？
真空热压炉的用途是什么？
真空炉的工艺流程是什么？
CVD 炉是如何工作的？
CVD炉系统由高温管式炉单元、反应气源精确控制单元、真空泵站和相应的组装部件组成。
真空泵用于排除反应管内的空气，确保反应管内没有多余的气体，然后管式炉将反应管加热到目标温度，反应气源精确控制单元可将不同的气体以设定的比例引入炉管内进行化学反应，在CVD炉内形成化学气相沉积。
什么是真空电弧熔炼工艺？
颗粒机有哪些应用？
牙科炉有哪些不同类型？
实验室使用液压机的目的是什么？
什么是 PECVD 方法？
真空热压炉有哪些优点？
真空炉中使用什么气体？
在 CVD 过程中使用哪种气体？
CVD过程中可以使用的气源非常多，常见的CVD化学反应包括热解、光解、还原、氧化、氧化还原，因此这些化学反应中涉及的气体都可以用于CVD过程。
我们以CVD石墨烯生长为例，CVD过程中使用的气体有CH4、H2、O2和N2。
什么是真空电弧重熔 (VAR) 炉？
颗粒机如何工作？
牙科炉的温度是多少？
有哪些不同类型的实验室压力机？
PECVD 有哪些用途？
真空热压炉如何工作？
真空炉中使用的加热元件是什么？
CVD 系统的优势是什么？
- 可根据需要制备金属膜、非金属膜和多组分合金膜等多种薄膜。同时，它还能制备出其他方法难以获得的高质量晶体，如 GaN、BP 等。可同时沉积大量成分均匀的涂层，这是液相外延（LPE）和分子束外延（MBE）等其他制膜方法所无法比拟的。
- 工作条件在常压或低真空条件下进行，因此涂层衍射效果好，形状复杂的工件也能得到均匀的涂层，这一点比 PVD 优越得多。
- 由于反应气体、反应产物和基材之间的相互扩散，可获得附着力良好的涂层，这对于制备耐磨膜和防腐蚀膜等表面强化膜至关重要。
- 有些薄膜的生长温度远低于薄膜材料的熔点。
- 有些薄膜的生长温度远低于薄膜材料的熔点，在低温生长条件下，反应气体和反应器壁及其所含杂质几乎不发生反应，因此可以获得纯度高、结晶度好的薄膜。
- 化学气相沉积可以获得光滑的沉积表面。这是因为与 LPE 相比，化学气相沉积（CVD）是在高饱和度下进行的，成核率高，成核密度大，且在整个平面上分布均匀，因此能获得宏观光滑的表面。
- 低辐射损伤，这是制造金属氧化物半导体（MOS）和其他器件的必要条件
真空电弧熔炼炉如何工作？
使用颗粒机有哪些好处？
烤瓷炉有什么用途？
PECVD 有哪些优势？
真空热压炉的常见应用有哪些？
PECVD 代表什么？
等离子体化学气相沉积（PECVD）是利用等离子体激活反应气体，促进基片表面或近表面空间发生化学反应，生成固体薄膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是，在射频或直流电场的作用下，源气体电离形成等离子体，以低温等离子体为能源，引入适量的反应气体，利用等离子体放电激活反应气体，实现化学气相沉积。
根据等离子体的产生方式，可分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体 CVD 等......
PECVD 是什么意思？
真空电弧熔炼炉有哪些应用？
选择颗粒机时应考虑哪些因素？
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
选择真空热压炉时应考虑哪些因素？
CVD 和 PECVD 的区别是什么？
PECVD与传统CVD技术的区别在于等离子体中含有大量高能电子，可以提供化学气相沉积过程中所需的活化能，从而改变了反应体系的供能方式。由于等离子体中的电子温度高达 10000K，电子与气体分子之间的碰撞可促进反应气体分子的化学键断裂和重组，从而生成更多的活性化学基团，而整个反应体系则保持较低的温度。
因此，与 CVD 工艺相比，PECVD 可以在较低的温度下进行相同的化学气相沉积过程。
使用真空电弧熔炼炉有哪些优势？
PECVD 和溅射有什么区别？
使用真空电弧熔炼炉时应遵守哪些安全预防措施？
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's Vacuum hot press furnace has been a game-changer for our laboratory. The speed of delivery was impressive, and the quality of the equipment is top-notch.
4.9
out of
5
The technological advancements in the Vacuum hot press furnace have revolutionized our research. It's user-friendly and has significantly improved our efficiency.
4.7
out of
5
The Vacuum hot press furnace is a valuable asset to our laboratory. Its durability and reliability have exceeded our expectations.
4.8
out of
5
The Vacuum hot press furnace is a testament to KINTEK SOLUTION's commitment to quality. It's a worthwhile investment that has enhanced our research capabilities.
4.9
out of
5
The Vacuum hot press furnace has transformed our laboratory. Its speed and efficiency have enabled us to complete projects in record time.
4.7
out of
5
The Vacuum hot press furnace has revolutionized our material processing techniques. Its versatility and precision have opened up new avenues of research.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's Vacuum hot press furnace has exceeded our expectations. Its user-friendly interface and exceptional performance make it an indispensable tool in our laboratory.
4.9
out of
5
The Vacuum hot press furnace is a remarkable piece of equipment. Its cutting-edge technology has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's Vacuum hot press furnace is a game-changer. Its speed, accuracy, and durability make it an invaluable asset to our laboratory.
4.8
out of
5
The Vacuum hot press furnace has been a revelation. Its user-friendly design and exceptional performance have made our research more efficient and productive.
4.9
out of
5
The Vacuum hot press furnace is a remarkable piece of equipment. Its technological advancements have revolutionized our research capabilities.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's Vacuum hot press furnace is a valuable addition to our laboratory. Its reliability and durability have made it an indispensable tool for our research.
4.8
out of
5
The Vacuum hot press furnace has been a transformative addition to our laboratory. Its exceptional performance and user-friendly interface have made it a favorite among our researchers.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Vacuum hot press furnace is a testament to their commitment to innovation. Its cutting-edge technology has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.
4.7
out of
5
The Vacuum hot press furnace has revolutionized our laboratory. Its speed, accuracy, and durability have made it an indispensable tool for our research.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's Vacuum hot press furnace has been a game-changer. Its user-friendly design and exceptional performance have made our research more efficient and productive.
4.9
out of
5
The Vacuum hot press furnace is a remarkable piece of equipment. Its technological advancements have revolutionized our research capabilities.
请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
利用真空管式热压炉降低成型压力并缩短烧结时间，适用于高密度、细粒度材料。是难熔金属的理想选择。
了解 600T 真空感应热压炉，该炉专为在真空或保护气氛中进行高温烧结实验而设计。其精确的温度和压力控制、可调节的工作压力以及先进的安全功能使其成为非金属材料、碳复合材料、陶瓷和金属粉末的理想之选。
真空钎焊炉是一种用于钎焊的工业炉，钎焊是一种金属加工工艺，使用熔化温度低于基体金属的填充金属将两块金属连接起来。真空钎焊炉通常用于要求连接牢固、清洁的高质量应用场合。
真空压力烧结炉专为金属和陶瓷烧结中的高温热压应用而设计。其先进的功能可确保精确的温度控制、可靠的压力维持以及无缝操作的坚固设计。
利用牙科真空压力炉获得精确的牙科效果。自动温度校准、低噪音托盘和触摸屏操作。立即订购！
使用真空层压机，体验干净、精确的层压。非常适合晶圆键合、薄膜转换和 LCP 层压。立即订购！
真空钼丝烧结炉为立式或卧式结构，适用于在高真空和高温条件下对金属材料进行退火、钎焊、烧结和脱气处理。它也适用于石英材料的脱羟处理。
真空炉采用多晶陶瓷纤维隔热内衬，具有出色的隔热性能和均匀的温度场。有 1200℃ 或 1700℃ 两种最高工作温度可供选择，具有高真空性能和精确的温度控制。
气压烧结炉是一种常用于先进陶瓷材料烧结的高科技设备。它结合了真空烧结和压力烧结技术，可实现高密度和高强度陶瓷。
真空箱实验室压片机是专为实验室使用而设计的专用设备。其主要用途是根据特定要求压制药丸和粉末。
KT-14M 马弗炉可实现高达 1500℃ 的精确高温控制。配备智能触摸屏控制器和先进的隔热材料。
使用我们的真空箱实验室压片机提高实验室的精确度。在真空环境中轻松精确地压制药丸和粉末，减少氧化并提高一致性。结构紧凑，使用方便，配有数字压力表。
使用 KinTek 真空陶瓷炉可获得精确可靠的结果。它适用于所有瓷粉，具有双曲陶瓷炉功能、语音提示和自动温度校准功能。
您在寻找用于高温应用的管式炉吗？我们带氧化铝管的 1400℃ 管式炉非常适合研究和工业用途。
了解 KT-VG 石墨真空炉的强大功能 - 它的最高工作温度可达 2200℃，是各种材料真空烧结的理想之选。立即了解更多信息。
正在寻找高温管式炉？请查看我们的带氧化铝管的 1700℃ 管式炉。非常适合研究和工业应用，最高温度可达 1700℃。
KT-MD 高温脱脂和预烧结炉，适用于各种成型工艺的陶瓷材料。是 MLCC 和 NFC 等电子元件的理想选择。
小型真空钨丝烧结炉是专为大学和科研机构设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用数控焊接外壳和真空管路，可确保无泄漏运行。快速连接的电气接头便于搬迁和调试，标准电气控制柜操作安全方便。
使用我们的多区管式炉，体验精确、高效的热测试。独立的加热区和温度传感器可控制高温梯度加热场。立即订购，进行高级热分析！
了解带隔热罩的高配置钼真空炉的优势。非常适合蓝宝石晶体生长和热处理等高纯度真空环境。
了解用于半导体层压的先进热等静压机 (WIP)。是 MLCC、混合芯片和医疗电子产品的理想选择。以精度提高强度和稳定性。
我们的 1700℃ 马弗炉可实现出色的热量控制。配备智能温度微处理器、TFT 触摸屏控制器和先进的隔热材料，可精确加热至 1700℃。立即订购！
KT-18 马弗炉配有日本 Al2O3 多晶纤维和硅钼加热元件，最高温度可达 1900℃，采用 PID 温度控制和 7" 智能触摸屏。设计紧凑、热损耗低、能效高。安全联锁系统，功能多样。
使用 KT-14A 可控气氛炉实现精确热处理。它采用真空密封，配有智能控制器，是实验室和工业应用的理想之选，最高温度可达 1400℃。
高导热薄膜石墨化炉温度均匀，能耗低，可连续运行。
使用我们的 1200℃ 马弗炉升级您的实验室。使用日本氧化铝纤维和钼线圈实现快速、精确加热。配备 TFT 触摸屏控制器，便于编程和数据分析。立即订购！
探索二硅化钼 (MoSi2) 加热元件的强大耐高温性能。独特的抗氧化性和稳定的电阻值。立即了解其更多优势！
使用我们的底部升降炉可高效生产温度均匀性极佳的批次产品。具有两个电动升降平台和先进的温度控制，最高温度可达 1600℃。
KT-PTF 高压管式炉：紧凑型分体式管式炉，具有很强的耐正压能力。工作温度最高可达 1100°C，压力最高可达 15Mpa。也可在控制器气氛或高真空条件下工作。
相关文章
真空热压炉应用综合指南
真空热压炉是一种多功能工具，特别适用于涉及非金属材料、碳复合材料、陶瓷材料和金属粉末材料的烧结实验。
真空热压炉：综合指南
深入了解真空热压炉及其组件、优点和在各行业中的应用。了解真空热压炉如何彻底改变材料加工工艺并实现卓越效果。
真空压力烧结炉终极指南：优点、应用和工作原理
了解真空压力烧结炉的优点、应用和工作原理。了解真空烧结如何生产出洁净、光亮的零件，以及在教学、科研和生产中的应用。探索工艺参数的精确设置和监控，以及在真空和压力下烧结的优势。了解真空烧结炉如何完美地用于高温烧结应用和烧结反应性极强的材料。
真空感应熔炼炉：原理、优势和应用
了解真空感应熔炼炉，这是一种利用真空和感应加热精炼金属和合金的专用设备，可确保高纯度和精确的成分控制。本综合指南将介绍其原理、优势、应用和组件。
探索钨真空炉：操作、应用和优势
了解钨真空炉在实验室环境中的操作、应用和优点。了解 KinTek 的先进功能、控制机制以及钨在高温环境中的应用。
使用实验室真空炉进行材料科学研究
真空炉是一种专门用于在真空环境中工作的炉子。这意味着炉子是密封的，炉内的空气被抽走，从而在炉内形成低压或真空。
真空熔炼炉：真空感应熔炼综合指南
了解真空感应熔炼炉的复杂性、组件、操作、优势和应用。探索这些熔炉如何彻底改变金属加工工艺并实现优异的材料性能。
先进材料研究中的真空实验炉
除尺寸外，工业级真空炉与实验室真空炉还有其他一些主要区别
钼真空炉：高温烧结和热处理
探索钼真空炉在高温烧结和热处理中的先进功能和应用。了解它们的构造、控制系统和维护技巧。
利用真空石墨炉最大限度地提高效率和精度
了解真空石墨炉如何以无与伦比的精度和效率彻底改变高温材料处理。探索针对不同行业、先进自动化和可持续能源实践的定制解决方案。
深入分析热压技术及其应用
热压是一种高压、低应变速率的粉末冶金工艺，用于在高温下形成粉末或粉末致密体，以诱导烧结和蠕变过程。它通过同时施加热量和压力来制造硬脆材料。
揭开真空石墨炉的神秘面纱：性能、应用和专家见解
深入了解真空石墨炉的世界，探索其卓越的性能、多样化的应用以及关键的注意事项。我们的专家见解将帮助您针对实验室的高温材料处理需求做出明智的决定。