溅射靶材是薄膜沉积工艺中的关键部件，其规格比传统材料严格得多。这些规格包括尺寸、平面度、纯度、杂质含量、密度、晶粒度和缺陷控制。此外，它们还具有较高或特殊的要求，如表面粗糙度、电阻、晶粒大小均匀性、成分和组织均匀性、氧化物含量和大小、磁导率、超高密度和超细晶粒。溅射靶材的形状多种多样，最常见的是扁平和圆柱形，其设计通常包括一个带有水冷通道的金属支架。这些靶材的质量至关重要，因为杂质、较大的颗粒或粗糙的表面会导致薄膜出现缺陷。特定的材料，如铂（Pt）溅射靶材，有其独特的规格，包括材料类型、原子量、热导率、熔点等。
要点说明：
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尺寸和形状:
- 平面目标:更容易更换，成本更低，常用于各种溅射系统。
- 圆柱形/环形靶:特殊腔体设计所需，由于形状复杂，价格较高。
- 金属托架:靶材通常粘接在金属支架上，金属支架上有水冷通道，用于在溅射过程中控制热量。
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材料质量:
- 纯度:高纯度对防止薄膜出现缺陷至关重要。杂质会导致薄膜性能不佳。
- 晶粒尺寸:颗粒越小越好，因为大颗粒会对薄膜的性能产生负面影响。
- 表面条件:光滑的表面至关重要；粗糙的表面会造成薄膜缺陷。
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物理和化学特性:
- 密度:通常需要超高密度，以确保溅射过程中靶材的完整性。
- 缺陷控制:尽量减少缺陷对防止污染和确保高质量薄膜至关重要。
- 成分和组织均匀性:均匀的成分和组织结构是薄膜稳定沉积的必要条件。
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特殊要求:
- 表面粗糙度:低表面粗糙度对避免薄膜缺陷至关重要。
- 阻力:根据不同的应用，可能需要特定的阻力等级。
- 粒度均匀性:粒度均匀，确保薄膜性能一致。
- 氧化物含量和尺寸:要保持薄膜质量，必须控制氧化物含量和尺寸。
- 磁导率:某些应用可能需要特定的磁性。
- 超细晶粒:高性能应用通常需要极细的晶粒。
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特定材料示例 - 铂 (Pt) 溅射靶材:
- 材料类型:铂金
- 符号:铂
- 原子质量:195.084
- 原子序数: 78
- 颜色/外观:金属灰色
- 导热系数 ：72 瓦/米.千卡
- 熔点:1,772°C
- 热膨胀系数 ：8.8 x 10-6/K
- 理论密度 ：21.45 克/立方厘米
- Z 比率:0.245
- 溅射:直流
- 最大功率密度:100 瓦特/平方英寸
- 粘合剂类型:铟，弹性体
- 附加说明:铂与其他金属的合金以及用铂制成的薄膜都很软，附着力差。
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效果因素:
- 组成:材料的成分对其效果起着重要作用。
- 离子类型:用于分解靶材的离子类型会影响溅射过程和所产生的薄膜质量。
总之，溅射靶材必须满足各种严格的规格要求，以确保高质量的薄膜沉积。这些规格包括物理尺寸、材料质量以及对溅射工艺的性能和可靠性至关重要的各种特殊要求。特定材料（如铂金）有其独特的特性，必须加以仔细控制，才能获得所需的薄膜特性。
汇总表：
| 规格 | 详细信息 |
|---|---|
| 尺寸和形状 | 平面或圆柱形；带水冷通道的金属支架。 |
| 材料质量 | 纯度高、粒度小、表面光滑。 |
| 物理特性 | 超高密度、缺陷控制、成分均匀。 |
| 特殊要求 | 表面粗糙度低、氧化物含量可控、晶粒超细。 |
| 铂（Pt）示例 | 高导热性，熔点：1,772°C，理论密度：21.45 g/cc。 |
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