物理气相沉积（PVD）设备是一种用于将材料薄膜沉积到基底上的系统。
这一过程包括将固体材料转化为蒸汽，将蒸汽输送到低压区域，然后将其冷凝到基底上。
PVD 在半导体制造、太阳能电池和 LED 显示屏等各行各业中都至关重要。
5 个要点说明
1.转化为蒸汽
要沉积的材料首先要通过物理方法转化为蒸汽。
通常，这是通过溅射或热蒸发等技术实现的。
在溅射过程中，原子在高能粒子的轰击下从目标材料中喷射出来。
在热蒸发中，材料被加热直至汽化。
2.运输
气化后的材料会被输送到一个低压区域。
这通常发生在真空室中，从源头到基底。
这一步骤可确保在蒸汽传输过程中将干扰和污染降至最低。
3.冷凝
蒸汽最终在基底上凝结，形成一层薄膜。
薄膜的厚度和质量取决于沉积过程的持续时间、材料的质量以及涂层颗粒的能级等因素。
4.溅射
在这种方法中，目标材料在低压环境中受到高能粒子（通常是离子）的轰击。
这种轰击会将目标材料中的原子喷射出来，并沉积到附近的基底上。
该工艺具有高度可控性，可精确沉积各种材料。
5.热蒸发
这种技术是在高真空环境中加热固体材料，直至其汽化。
然后，蒸气穿过真空，在基底上凝结。
这种方法特别适用于沉积纯材料，通常用于需要非常薄的薄膜的应用中。
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