知识 什么是最理想的 PVD 涂层?氮化钛 (TiN) 的 5 大优势
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3周前

什么是最理想的 PVD 涂层?氮化钛 (TiN) 的 5 大优势

PVD 涂层因其耐用性、耐磨性和耐腐蚀性而成为许多行业的首选。

在各种 PVD 涂层中,氮化钛(TiN)的应用最为广泛。

TiN 以其卓越的硬度、耐用性、耐腐蚀性和抗划伤性而著称。

这些涂层非常薄,通常在 0.25 微米到 5 微米之间。

它们是在真空环境中使用先进的气相沉积技术生产的。

氮化钛 (TiN) 的 5 大优点

什么是最理想的 PVD 涂层?氮化钛 (TiN) 的 5 大优势

1.对涂层性能的高度控制

PVD 涂层可对薄膜的密度、结构和化学计量进行高度控制。

这种控制可实现所需的属性,如附着力、润滑性或硬度。

2.减少摩擦和抗损坏性

这些涂层有助于减少摩擦并起到防止损坏的作用。

它们大大提高了表面硬度,使其具有很强的抗划伤性。

3.应用广泛

除 TiN 外,其他材料也可用于 PVD 涂层,包括铝化物、MCrAlYs、Al2O3、ZrO2、ZrN、CrN、TiCN、TiAlN 和类金刚石涂层 (DLC)。

这些涂层可应用于各行各业,如电子电路、光学、塑料、燃气轮机叶片以及机床和冲压工具。

4.持续扩张和市场份额

虽然 CVD(化学气相沉积)具有一定的优势,但 PVD 仍在不断扩大其涂层材料的范围。

目前,PVD 在工具市场上占有很大的市场份额。

5.耐用性和颜色选择

总的来说,PVD 涂层(尤其是 TiN)具有很高的耐用性、抗划伤性和耐腐蚀性,并提供多种颜色选择。

对于需要耐磨保护和改善表面性能的各种应用来说,它们是非常有价值的选择。

继续探索,咨询我们的专家

利用 KINTEK 的尖端 PVD 涂层技术升级您的实验室设备。

我们的氮化钛 (TiN) 涂层极薄、耐刮、耐用,具有无与伦比的表面硬度。

您将体验到更强的耐腐蚀性、更低的磨损以及各种均匀的涂层颜色。

请相信我们与基体的强大结合力,以及我们对环境安全和人类健康的承诺。

使用 KINTEK 的 PVD 涂层,让您的实验室更上一层楼。今天就联系我们进行咨询。

相关产品

氮化钛 (TiN) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

氮化钛 (TiN) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您正在为您的实验室寻找经济实惠的氮化钛 (TiN) 材料吗?我们的专长在于生产不同形状和尺寸的定制材料,以满足您的独特需求。我们提供各种规格和尺寸的溅射靶材、涂层等。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

切削工具坯料

切削工具坯料

CVD 金刚石切削刀具:卓越的耐磨性、低摩擦、高导热性,适用于有色金属材料、陶瓷和复合材料加工

高纯度钛 (Ti) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯度钛 (Ti) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格购买实验室用高品质钛 (Ti) 材料。您可以找到适合您独特需求的各种定制产品,包括溅射靶材、涂层、粉末等。

高纯二氧化钛 (TiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯二氧化钛 (TiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您在寻找高品质的二氧化钛材料吗?我们量身定制的产品可满足任何实验室的独特要求。立即浏览我们的各种形状、尺寸和纯度的产品。

碳化钛 (TiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

碳化钛 (TiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

以合理的价格为您的实验室提供高质量的碳化钛 (TiC) 材料。我们提供各种形状和尺寸的产品,包括溅射靶材、粉末等。根据您的特定需求量身定制。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

高纯度钛箔/钛板

高纯度钛箔/钛板

钛的化学性质稳定,密度为 4.51 克/立方厘米,高于铝,低于钢、铜和镍,但其比强度在金属中排名第一。

钛镍银合金(TiNiAg)溅射靶材/粉/丝/块/粒

钛镍银合金(TiNiAg)溅射靶材/粉/丝/块/粒

您在寻找可定制的钛镍镁材料吗?我们以极具竞争力的价格提供各种规格和纯度的产品,包括溅射靶材、涂层材料、粉末等。现在就联系我们!

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

915MHz MPCVD 金刚石机

915MHz MPCVD 金刚石机

915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长,最大面积可达 8 英寸,单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。

用于修整工具的 CVD 金刚石

用于修整工具的 CVD 金刚石

体验 CVD 金刚石修整器坯料的无与伦比的性能:高导热性、优异的耐磨性和方向独立性。

CVD 金刚石拉丝模坯

CVD 金刚石拉丝模坯

CVD 金刚石拉丝模坯:硬度高、耐磨性好,适用于各种材料的拉丝。是石墨加工等磨料磨损加工应用的理想选择。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。

高纯钯(Pd)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯钯(Pd)溅射靶材/粉/丝/块/粒

正在为您的实验室寻找价格合理的钯材料?我们提供不同纯度、形状和尺寸的定制解决方案--从溅射靶材到纳米粉末和 3D 打印粉末。现在就浏览我们的产品系列!


留下您的留言