CVD 金刚石涂层的厚度因应用和沉积工艺条件的不同而有很大差异。
CVD 金刚石涂层有多厚？(4 个关键因素解释）
1.初始厚度和限制
在金刚石薄膜研究的早期阶段，涂层相当厚，通常大于 1 微米。
这主要是由于播种和成核技术不足造成的。
由于对预处理和成核增强方法缺乏了解，也导致涂层必须更厚。
2.进步和更薄的涂层
随着研究的进展，金刚石薄膜的合成技术也有了重大改进。
这些进步使得薄膜厚度可以降低到 10 纳米左右。
然而，要在非金刚石基底上形成连续涂层，通常需要至少 100 纳米的厚度。
这是由于金刚石在外来基底上的成核密度较低，以及金刚石薄膜的三维生长模式（沃尔默-韦伯模型）。
3.提高成核率
为了解决成核密度低的问题，人们开发了各种预处理方法，以提高金刚石薄膜在非金刚石基底上的成核率。
这些处理方法对于获得更薄、无针孔的涂层至关重要。
来自不同领域的科学家之间的跨学科合作在这些进展中发挥了重要作用。
4.特定应用和厚度
对于某些应用，如 CVD 金刚石涂层立铣刀，典型的涂层厚度更加具体和标准化。
在这种情况下，涂层厚度在 8 到 10 微米之间。
选择这种厚度的目的是为了在坚固的金刚石涂层需求与工具功能和制造限制的实际考虑之间取得平衡。
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